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나노 임프린트 리소그래피용 고내구성 레플리카 몰드 및 그제작 방법

  • 기술번호 : KST2015180601
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 화학적, 열적 및 기계적인 스트레스에 대하여 높은 내구성을 가지며, 열 NIL 및 광 NIL을 포함하는 각종 나노 리소그래피 기술에 매우 적합하게 이용할 수 있는 레플리카 몰드 및 간편하게 저가로 레플리카 몰드를 제작하는 방법을 제공한다. 화학식 1: (상기 식에서, R은 탄소수 1~3의 탄화수소기이고, PM은 프로필메타크릴산의 잔기이다)로 나타내어지는 Si-O-Ti 네트워크를 갖는 유기-무기 하이브리드 수지를 이용하여 레플리카 몰드를 제작한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B29C 33/38 (2011.01)
CPC B29C 33/3842(2013.01) B29C 33/3842(2013.01) B29C 33/3842(2013.01)
출원번호/일자 1020090006902 (2009.01.29)
출원인 오사카 유니버시티, 충남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-0928184-0000 (2009.11.17)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20091125) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 일본  |   JP-P-2008-239827   |   2008.09.18
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.01.29)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 오사카 유니버시티 일본 일본, 오사카, 수이타-시, 야마다오카,
2 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 가와이 토모지 일본 일본, 오사카, 수
2 이혜연 일본 일본, 오사카, 수
3 이봉국 일본 일본, 오사카, 수
4 김동표 대한민국 대전광역시 유성구
5 홍난영 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0056739-81
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2009.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0057006-12
3 보정요구서
Request for Amendment		 2009.02.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0009106-03
4 우선권주장증명서류제출서(일본)
Submission of Priority Certificate(Japan)		 2009.02.18 수리 (Accepted) 9-1-2009-9001413-06
5 우선권주장증명서류제출서(일본)
Submission of Priority Certificate(Japan)		 2009.02.18 수리 (Accepted) 9-1-2009-9001385-13
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2009.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0140308-10
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.03.18 수리 (Accepted) 4-1-2009-5050645-34
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.05.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.05.22 수리 (Accepted) 9-1-2009-0032133-25
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.06.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0262997-11
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.08.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0509883-40
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2009-0509855-72
13 등록결정서
Decision to grant		 2009.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0400298-19
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.05.31 수리 (Accepted) 4-1-2011-5108981-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.12.26 수리 (Accepted) 4-1-2013-5174286-48
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116888-44
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116889-90
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
미소 패턴이 형성된, 하기 화학식 1의 유기-무기 하이브리드 수지 경화막을 갖는 임프린트 리소그래피용 레플리카 몰드
2 2
(삭제)
3 3
제 1항에 있어서, 상기 유기-무기 하이브리드 수지 경화막이, 60~130MPa의 경도; 1
4 4
제 3항에 있어서, 상기 유기 용매가 메탄올, 에탄올, 탈수 톨루엔 및 테트라하이드로프란으로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드
5 5
미소 패턴이 형성된, 하기 화학식 1의 유기-무기 하이브리드 수지 경화막을 갖는 임프린트 리소그래피용 레플리카 몰드의 제작 방법으로서, 기판 상에 하기 화학식 1의 유기-무기 하이브리드 수지를 적하하여 수지층을 형성하는 공정; 및 상기 수지층에 마스터 몰드를 0
6 6
제 5항에 있어서, 상기 유기-무기 하이브리드 수지의 점도가 30cP 이하인 것을 특징으로 하는 제작 방법
7 7
(삭제)
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP22069730 JP 일본 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2010069730 JP 일본 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.