맞춤기술찾기

이전대상기술

광촉매와 그 사용방법

  • 기술번호 : KST2015186938
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 복합 광촉매는 반도체 코어와 상기 반도체 코어의 표면상에 처리된 나노스케일 입자를 포함하며, 상기 나노스케일 입자는 전자운반체로서 상기 광촉매는 가시광선에 감응하는 것이다. 복합 광촉매, 가시광선, 반도체 코어, 나노스케일
Int. CL B01J 23/00 (2011.01) B01J 21/06 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020060052746 (2006.06.12)
출원인 지엠 글로벌 테크놀러지 오퍼레이션스 엘엘씨, 학교법인 포항공과대학교
등록번호/일자 10-0853737-0000 (2008.08.18)
공개번호/일자 10-2006-0128758 (2006.12.14) 문서열기
공고번호/일자 (20080825) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 미국  |   11/449,037   |   2006.06.07
미국  |   60/689,678   |   2005.06.10
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.06.12)
심사청구항수 20

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 지엠 글로벌 테크놀러지 오퍼레이션스 엘엘씨 미국 미국, 미시건 *****-****, 디트로이트, 르네상스 센터
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 리 웨이 중국 미국, 미시건 *,
2 오 세 에이치 미국 미국, 미시건 *
3 이재성 대한민국 경북 포항시 남구
4 장점석 대한민국 경북 포항시 남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 지엠 글로벌 테크놀러지 오퍼레이션스 엘엘씨 미국 미국, 미시건 *****-****, 디트로이트, 르네상스 센터
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경북 포항시 남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2006-0411332-82
2 우선권주장증명서류제출서
Submission of Priority Certificate
2006.07.19 수리 (Accepted) 1-1-2006-0512020-33
3 우선권주장증명서류제출서
Submission of Priority Certificate
2006.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2006-0664014-34
4 서지사항보정서
Amendment to Bibliographic items
2006.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2006-0705696-47
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.02.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.03.15 수리 (Accepted) 9-1-2007-0017410-02
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0278358-17
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.07.10 수리 (Accepted) 1-1-2007-0503000-54
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2007-0611994-56
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.09.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0680261-15
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2007-0680260-69
12 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2008.01.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0033700-30
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.03.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2008-0210074-62
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0210072-71
15 보정요구서
Request for Amendment
2008.03.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0043414-13
16 보정요구서
Request for Amendment
2008.03.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0043890-11
17 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0224313-52
18 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0224312-17
19 등록결정서
Decision to grant
2008.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0299079-44
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2010-5236612-69
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5149263-30
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반도체 코어(semiconducting core),상기 반도체 코어의 표면상에 처리되는 나노스케일 입자(nanoscale particle)를 포함하고, 상기 나노스케일 입자는 전자운반체(electron carrier)로서 상기 반도체 코어와 다른 조성을 가지며, 가시광선조사(visible light irradiation)에 감광하는 복합광촉매
2 2
제 1항에 있어서, 상기 반도체 코어는 CdS, Si, Ge, GaP, GaAs, GaSb, InSb, InP, CdTe, InN, 또는 2원계 금속산화물, 혼합된 금속산화물 또는 이들의 조합을 포함하는 금속산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합광촉매
3 3
제 1항에 있어서, 상기 반도체 코어는 평균최소크기가 250나노미터임을 특징으로 하는 복합광촉매
4 4
제 1항에 있어서, 상기 나노스케일 입자는 TiO2, NiO, Na2TiO3, ZnO, LaMnO3, CuFeO2, 또는 이들의 적어도 하나를 포함하는 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합광촉매
5 5
제 1항에 있어서, 상기 나노스케일 입자는 50나노미터의 평균최대크기를 갖는 것을 특징으로 하는 복합광촉매
6 6
제 1항에 있어서, 나노스케일 입자의 몰분율은 상기 반도체 코어와 상기 나노스케일 입자의 총몰수에 대해 0
7 7
제 1항에 있어서, 추가로 공촉매(co-catalyst)를 포함하고, 상기 공촉매는 상기 반도체 코어와 상기 나노스케일 입자와는 다른 조성을 가지며, 상기 반도체 코어, 상기 나노스케일 입자 또는 상기 반도체 코어와 상기 나노스케일 입자 모두의 표면에 처리되는 복합광촉매
8 8
제 7항에 있어서, 상기 공촉매는 Ni, Pt, Rh, Ag, Ru, Pd, IrO2, 니켈산화물, RuO2을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합광촉매
9 9
제 7항에 있어서, 상기 복합광촉매에서 상기 공촉매의 양은, 상기 복합광촉매의 총중량에 대해 0
10 10
250나노미터의 평균최소크기를 갖는 CdS 코어,상기 CdS 코어의 표면상에 처리되는 나노스케일의 TiO2 입자를 포함하고,가시광선조사(visible light irradiation)에 감광하는 복합광촉매
11 11
제 10항에 있어서, 상기 TiO2 나노스케일 입자의 몰분율은, CdS코어와 상기 나노스케일 TiO2입자의 총몰수에 대해 0
12 12
제 10항에 있어서, 추가로 공촉매(co-catalyst)를 포함하고, 상기 공촉매는 상기 CdS코어, 상기 나노스케일 TiO2입자 또는 상기 CdS코어와 상기 나노스케일 TiO2입자 모두의 표면에 처리되는 것을 특징으로 하는 복합광촉매
13 13
제 12항에 있어서, 상기 공촉매는 Ni, Pt, Rh, Ag, Ru, Pd, IrO2, 니켈산화물, RuO2을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합광촉매
14 14
제 12항에 있어서, 상기 복합광촉매에서 상기 공촉매의 양은, 상기 복합광촉매의 총중량에 대해 0
15 15
복합광촉매를 포함하는 가스 또는 액상매체에 빛을 조사하는 것을 포함하고,상기 복합광촉매는 반도체 코어와 상기 반도체 코어의 표면에 처리되는 나노스케일 입자를 포함하며, 상기 나노스케일 입자는 전자운반체로서 상기 반도체 코어와 다른 조성을 가짐을 특징으로 하는 복합 광촉매를 사용하는 방법
16 16
제 15항에 있어서, 상기 빛은 400나노미터이상의 파장을 갖는 가시광선임을 특징으로 하는 방법
17 17
제 15항에 있어서, 상기 복합광촉매는 상기 매체의 조사영역 25㎠당 0
18 18
제 15항에 있어서, 복합광촉매를 포함하는 상기 가스 또는 액상매체에 빛의 조사는 수소를 발생하거나, 악취가스를 제거하거나, 유해한 물질을 분해하거나, 광화학 반응을 촉진하는 것을 특징으로 하는 방법
19 19
제 15항에 있어서, 상기 매체는 물(water)이며, 복합광촉매를 포함하는 상기 물에 빛의 조사는 수소가스를 발생하는 것을 특징으로 하는 방법
20 20
제 19항에 있어서, 상기 물은 추가로 환원제(reducing agent)를 포함하고 상기 수소가스 발생은 산소 기체가 외부로 배출되지 않는 것(anoxic)임을 특징으로 하는 방법
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US07625835 US 미국 FAMILY
2 US20060283701 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2006283701 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US7625835 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.