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내부가 밀폐되도록 구비된 챔버;상기 챔버의 일측에 구비되는 다수의 아크소스;상기 다수의 아크소스와 각각 연결되어 상기 다수의 아크소스 각각에 전력을 공급하는 다수의 전력공급부;상기 아크소스 내부에 구비되며, 금속을 포함하는 금속음극;상기 아크소스 내부에 구비되며, AlSi를 포함하는 AlSi음극;상기 챔버의 일측에 구비되며, 상기 챔버 내부로 불활성가스를 공급하는 불활성가스공급부;상기 챔버의 일측에 구비되며, 상기 챔버 내부로 질소를 공급하는 질소공급부;상기 챔버의 일측에 구비되며, 상기 챔버 내부를 진공배기시키는 진공펌프부;상기 챔버의 내부에 구비되며 피처리물이 안착되는 지지대;상기 지지대와 전기적으로 접속되며, 피처리물에 바이어스전력을 공급하는 바이어스전력공급부; 및상기 챔버 내부에 구비되며, 챔버 내부를 가열하는 히터와, 상기 피처리물의 온도를 감지하며 히터의 작동을 제어하는 히터제어부와, 상기 히터에 전력을 공급하는 히터전력공급부를 구비하는 히터부를 포함하며,상기 금속음극은,크롬(Cr), 지르코늄(Zr), 니오브(Nb), 탄탈(Ta), 바나듐(V) 및 텅스텐(W)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고경도 내마모성 박막증착장치
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제 1항에 있어서,상기 불활성 가스는 헬륨가스(He), 네온가스(Ne), 아르곤가스(Ar) 및 크립톤가스(Kr)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고경도 내마모성 박막증착장치
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아크소스 내부에 금속음극 및 AlSi음극을 설치하는 음극설치단계;음극이 설치된 챔버 내부를 진공도가 10-5 ~ 10-7Torr가 되도록 진공배기시키는 진공배기단계;진공배기된 챔버 내부에 진공도가 10-1 ~ 10-2Torr가 되도록 불활성가스를 주입하고 지지대에 전력을 인가하여 플라즈마를 형성시켜 피처리물의 표면을 세정하는 플라즈마클리닝단계;챔버 내부로 질소를 주입시키고, 아크소스에 전력을 인가하여 플라즈마를 형성시키며 피처리물에 바이어스전력을 인가하여 피처리물의 외주면에 박막층이 형성되도록 하는 박막층형성단계를 포함하며,상기 음극설치단계에서 사용한 금속음극은,크롬(Cr), 지르코늄(Zr), 니오브(Nb), 탄탈(Ta), 바나듐(V) 및 텅스텐(W)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고경도 내마모성 박막증착방법
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제 4항에 있어서,상기 박막층 형성단계는 AlSi음극을 포함하는 아크소스에 17 ~ 19V의 전압과 35 ~ 55A의 전류를 공급하는 것을 특징으로 하는 고경도 내마모성 박막증착방법
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제 4항에 있어서,상기 박막층형성단계는 피처리물에 -50 ~ -200V의 바이어스전압을 공급하는 것을 특징으로 하는 고경도 내마모성 박막증착방법
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제 4항에 있어서,상기 박막층형성단계는 피처리물에 박막층이 형성되는 온도가 400 ~ 450℃인 것을 특징으로 하는 고경도 내마모성 박막증착방법
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