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웨이퍼 오염물질 분석장비 및 방법

  • 기술번호 : KST2015196948
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요약 웨이퍼 오염물질 분석장비 및 방법이 제공된다. 상기 웨이퍼 오염물질 분석장비는 오염물질 분석을 위한 웨이퍼를 홀딩하는 웨이퍼 홀더, 상기 웨이퍼로부터 시료를 채취하기 위하여 상기 웨이퍼 측으로 레이저를 조사하는 레이저 애블레이션 장치, 상기 웨이퍼의 전체표면 중 상기 레이저가 조사되어 시료가 채취되는 시료채취 부위를 외부로부터 국부적으로 격리시키는 분석 셀 및, 상기 분석 셀에 연결되며 상기 채취되는 시료로부터 오염물질을 분석하는 분석장치를 포함한다.
Int. CL H01L 21/66 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020060132919 (2006.12.22)
출원인 삼성전자주식회사, 단국대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0801708-0000 (2008.01.30)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080211) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.12.22)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 단국대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 수지구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재석 대한민국 서울 서초구
2 임흥빈 대한민국 서울 서초구
3 류원경 대한민국 서울 서초구
4 채승기 대한민국 서울 서초구
5 이양구 대한민국 경기 과천시
6 이헌정 대한민국 경기 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상수 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, ****호 (역삼동, 황화빌딩)(성우국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 단국대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 수지구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0956322-18
2 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2007.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2007-5060432-89
3 등록결정서
Decision to grant
2007.12.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0663977-89
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5020510-08
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.03.07 수리 (Accepted) 4-1-2012-5047629-25
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5132663-40
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.06 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000870-18
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.10.26 수리 (Accepted) 4-1-2020-5239146-54
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
오염물질 분석을 위한 웨이퍼를 홀딩하는 웨이퍼 홀더;상기 웨이퍼로부터 시료를 채취하기 위하여 상기 웨이퍼 측으로 레이저를 조사하는 레이저 애블레이션 장치;상기 웨이퍼의 전체표면 중 상기 레이저가 조사되어 시료가 채취되는 시료채취 부위를 외부로부터 국부적으로 격리시키는 분석 셀; 및, 상기 분석 셀에 연결되며, 상기 채취되는 시료로부터 오염물질을 분석하는 분석장치를 포함하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
2 2
제 1항에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더는 상기 웨이퍼가 안착되는 플레이트를 포함하되, 상기 플레이트에는 상기 웨이퍼를 흡착하기 위하여 진공압이 작용하는 진공홀이 다수 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
3 3
제 2항에 있어서, 상기 진공홀들은 상기 플레이트의 중앙을 기준으로 방사상 형태로 배치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
4 4
제 1항에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더는 플레이트, 상기 플레이트에 설치되어 상기 웨이퍼의 중앙부를 지지하는 웨이퍼 지지블럭 및, 상기 플레이트에 설치되어 상기 웨이퍼의 가장자리부를 지지하는 다수의 피팅 바를 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
5 5
제 4항에 있어서, 상기 웨이퍼 지지블럭 및 상기 다수의 피팅 바에는 상기 웨이퍼를 흡착하기 위하여 진공압이 작용하는 진공홀이 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
6 6
제 4항에 있어서, 상기 피팅 바에는 각각 상기 피팅 바에 상기 웨이퍼가 안착될 때 상기 웨이퍼의 측면을 지지하는 측면지지부가 더 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
7 7
제 6항에 있어서, 상기 피팅 바는 상기 웨이퍼 지지블럭의 주변에 설치되되, 상기 웨이퍼 지지블럭에 가까워지거나 상기 웨이퍼 지지블럭으로부터 멀어지는 방향으로 이동가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
8 8
제 1항에 있어서,상기 레이저 애블레이션 장치는 일정 세기 및 일정 특성을 갖는 레이저를 상기 웨이퍼 측으로 조사하는 레이저 조사유닛, 상기 레이저 조사유닛에서 조사된 레이저를 상기 시료채취 부위 측으로 안내하는 광학계 및, 상기 시료채취 부위를 모니터링하기 위한 모니터링 유닛을 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
9 9
제 8항에 있어서, 상기 레이저 애블레이션 장치는 상기 레이저 조사유닛, 상기 광학계 및, 상기 모니터링 유닛에 각각 연결되되, 상기 모니터링 유닛의 모니터링 값을 이용하여 상기 시료채취 부위 측으로 조사되는 레이저의 횟수, 세기 및 특성을 조절하는 레이저 제어유닛을 더 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
10 10
제 1항에 있어서, 상기 분석 셀에 연결되며, 상기 웨이퍼로부터 채취되는 시료가 상기 분석장치 측으로 이송되도록 상기 분석 셀의 내부로 캐리어 가스를 공급하는 시료 이송장치를 더 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
11 11
제 1항에 있어서, 상기 분석 셀은 상기 웨이퍼에 접촉되어 상기 시료채취 부위를 한정하도록 하부가 개구된 중공의 셀 몸체, 상기 셀 몸체 내부로 레이저가 투과되도록 상기 셀 몸체의 상부에 설치된 윈도우, 상기 셀 몸체의 일측면 하부에 설치되며 상기 셀 몸체 내부로의 캐리어 가스 공급을 위한 가스유입부 및, 상기 캐리어 가스에 의하여 상기 셀 몸체 내부에서 채취되는 시료가 상기 분석장치 측으로 이송되도록 상기 셀 몸체의 타측면 상부에 설치되는 가스유출부를 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
12 12
제 11항에 있어서, 상기 가스유입부는 다수의 가스유입관으로 구성되고, 상기 가스유출부는 단수의 가스유출관으로 구성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
13 13
제 11항에 있어서, 상기 분석 셀은 상기 셀 몸체의 내부가 외부로부터 격리되도록 상기 셀 몸체의 밑면 둘레에 설치된 실링부재를 더 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
14 14
제 1항에 있어서,상기 웨이퍼 홀더와 상기 분석 셀에 각각 결합되어 상기 웨이퍼 홀더와 상기 분석 셀을 각각 또는 동시에 이동시킴으로 상기 시료채취 부위를 조정하는 이동장치를 더 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
15 15
제 14항에 있어서,상기 이동장치는 상기 웨이퍼 홀더에 결합되어 상기 웨이퍼 홀더를 각각 X 방향, Y 방향 및, Z 방향으로 이동시키는 홀더 이동유닛, 상기 분석 셀에 결합되어 상기 분석 셀을 각각 X 방향, Y 방향 및, Z 방향으로 이동시키는 셀 이동유닛 및, 상기 홀더 이동유닛과 상기 셀 이동유닛에 각각 연결되어 상기 웨이퍼 홀더와 상기 분석 셀을 동시에 이동시키는 스캔유닛을 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
16 16
제 1항에 있어서, 상기 분석장치는 고분해능 유도결합 질량분석기(HR-ICP-MS)를 포함한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 오염물질 분석장비
17 17
오염물질 분석을 위한 웨이퍼를 웨이퍼 홀더에 로딩하고,상기 웨이퍼의 전체표면 중 시료가 채취되는 시료채취 부위를 분석 셀을 이용하여 외부로부터 국부적으로 격리하고,상기 웨이퍼로부터 시료가 채취되도록 상기 시료채취 부위로 레이저를 조사하고,상기 채취되는 시료로부터 오염물질을 분석하는 것을 포함하는 웨이퍼 오염물질 분석방법
18 18
제 17항에 있어서, 상기 채취되는 시료가 상기 분석 셀 내부에서 상기 분석장치 측으로 이송되도록 상기 분석 셀에 연결된 시료 이송장치를 이용하여 상기 분석 셀의 내부로 캐리어 가스를 공급하는 것을 더 포함하는 웨이퍼 오염물질 분석방법
19 19
제 17항에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더와 상기 분석 셀에 각각 결합된 이동장치를 이용하여 상기 웨이퍼 홀더와 상기 분석 셀을 각각 이동시킴으로 상기 시료채취 부위를 조정하는 것을 더 포함하는 웨이퍼 오염물질 분석방법
20 20
제 17항에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더와 상기 분석 셀에 각각 결합된 이동장치를 이용하여 상기 웨이퍼 홀더와 상기 분석 셀을 동시에 이동시킴으로 상기 시료채취 부위를 조정하는 것을 더 포함하는 웨이퍼 오염물질 분석방법
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1 JP20160127 JP 일본 FAMILY
2 TW200837863 TW 대만 FAMILY
3 US07880138 US 미국 FAMILY
4 US20080149827 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 CN101236913 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 DE102007062272 DE 독일 DOCDBFAMILY
3 JP2008160127 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 TW200837863 TW 대만 DOCDBFAMILY
5 US2008149827 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US7880138 US 미국 DOCDBFAMILY
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