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나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 동작방법 및 제조방법

  • 기술번호 : KST2015201400
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 동작방법 및 제조방법이 제공된다. 적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층에 적어도 한 레벨의 전하들을 주입하여 데이터를 기록한다. 상기 데이터를 기록하는 단계는 상기 적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층에 각 레벨의 전하들의 주입이 포화되도록 수행한다.
Int. CL H01L 21/8247 (2006.01) H01L 27/108 (2006.01) G11C 16/10 (2006.01)
CPC H01L 29/7923(2013.01) H01L 29/7923(2013.01)
출원번호/일자 1020100010972 (2010.02.05)
출원인 국민대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1105645-0000 (2012.01.06)
공개번호/일자 10-2011-0091235 (2011.08.11) 문서열기
공고번호/일자 (20120118) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.02.05)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 국민대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이장식 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 양기혁 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **(삼성동) 명지빌딩, *층(선정국제특허법률사무소)
3 박기원 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)
4 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 국민대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2010-0080439-10
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0221205-44
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0484564-18
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0570649-41
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0570648-06
6 등록결정서
Decision to grant
2012.01.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0009929-08
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.03.14 수리 (Accepted) 4-1-2016-5032192-73
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층을 포함하는 비휘발성 메모리 소자의 상기 적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층에 멀티 레벨의 전하들을 주입하여 멀티 비트의 데이터를 기록하는 단계를 포함하고,상기 데이터를 기록하는 단계는 상기 적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층에 용량 결합된 제어 게이트 전극에 멀티 레벨의 프로그램 전압들을 각 레벨의 전하들의 주입이 포화되는 시간 동안 인가하여 상기 적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층에 각 레벨의 전하들의 주입이 포화되도록 수행하고,상기 적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층에 주입된 전하들의 레벨은 상기 제어 게이트 전극에 인가된 상기 프로그램 전압의 인가 시간보다는 상기 프로그램 전압의 각 레벨에 의존하는, 나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 멀티레벨 동작방법
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3 3
삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 멀티 레벨의 전하들의 주입이 포화되는 시간 동안 상기 비휘발성 메모리 소자의 플랫밴드 전압이 멀티 프로그램 레벨로 포화되는, 나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 멀티레벨 동작방법
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제 1 항에 있어서, 상기 적어도 한 층의 나노입자계 전하트랩층에 주입된 멀티 레벨의 전하를 제거하여 데이터를 소거하는 단계를 더 포함하는, 나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 멀티레벨 동작방법
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제 5 항에 있어서, 상기 데이터를 소거하는 단계는 상기 비휘발성 메모리 소자의 플랫밴드 전압이 적어도 한 소거 레벨로 포화되도록 수행하는, 나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 멀티레벨 동작방법
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복수의 층들의 나노입자계 전하트랩층들 및 상기 복수의 층들의 나노입자계 전하트랩층들에 용량 결합된 제어 게이트 전극을 포함하는 나노입자계 비휘발성 메모리 소자를 이용한 것으로서,상기 제어 게이트 전극에 멀티 레벨의 프로그램 전압을 인가하여, 상기 복수의 층들의 나노입자계 전하트랩층들에 멀티 레벨의 전하들을 주입하여 멀티 비트의 데이터를 기록하는 단계를 포함하고,상기 멀티 비트의 데이터를 기록하는 단계는 각 레벨의 프로그램 전압에 따라서 상기 복수의 층들의 나노입자계 전하트랩층들에 각 레벨의 전하들의 주입이 포화되는 시간 동안 수행하고,상기 복수의 층들의 나노입자계 전하트랩층들에 주입된 전하들의 각 레벨은 상기 프로그램 전압의 인가 시간보다는 상기 프로그램 전압의 각 레벨에 의존하는, 나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 멀티레벨 동작방법
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제 7 항에 있어서, 각 레벨의 전하들의 주입이 포화되는 시간 동안 상기 비휘발성 메모리 소자의 플랫밴드 전압이 적어도 한 프로그램 레벨로 포화되는, 나노입자계 비휘발성 메모리 소자의 멀티레벨 동작방법
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