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나노임프린트 리소그라피용 주형 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법

  • 기술번호 : KST2015201493
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노임프린트 리소그라피(nanoimprint lithography)용 주형 표면에 항부착성 물질(anti-adhesive material)을 코팅하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 나노임프린트 리소그라피용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 있어서, ⅰ)주형을 염기성 산화용액과 반응시켜 표면 산화를 진행하는 단계,; ⅱ)상기 표면이 산화된 주형을 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyl triethoxysilane, APTES) 용액과 반응시켜 주형 표면의 -OH(수산기)와 반응시켜 APTES를 주형 표면에 부착시키는 단계 및; ⅲ)상기 APTES가 부착된 주형을 모노글리시딜 에테르 폴리디메틸실록산(monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane(PDMS)) 용액과 반응시켜 상기 APTES에 항부착성 물질로서 PDMS를 부착시키는 단계를 포함한 나노 임프린트 리소그라피용 주형 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 관한 것으로, 본 발명은 기존의 광학적 산화방법을 사용하지 않아 주형을 손상시키지 않으면서도 나노임프린트 리소그래피용 주형, 특히 100nm 이하의 주기를 갖는 미세 주형이나 고단차의 주형에도 높은 정확도 및 접촉각을 갖도록 주형 표면에 효과적으로 항부착성 물질을 코팅하는 방법을 제공한다.
Int. CL B29C 33/38 (2006.01) C08L 83/04 (2006.01) C08J 7/04 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01)
출원번호/일자 1020110038338 (2011.04.25)
출원인 국민대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1379321-0000 (2014.03.24)
공개번호/일자 10-2012-0120633 (2012.11.02) 문서열기
공고번호/일자 (20140331) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 발송처리완료
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.04.25)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 국민대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임상규 대한민국 서울특별시 서초구
2 류일환 대한민국 경기도 의정부시 장곡로 ***
3 홍다정 대한민국 경기도 포천시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다인 대한민국 경기도 화성시 동탄기흥로*** 더퍼스트타워쓰리제**층 제****호, 제****-*호

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 에스아이레이져텍 경기도 안산시 상록구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0305594-80
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2011.06.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0437260-53
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.02.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.03.21 수리 (Accepted) 9-1-2012-0022816-15
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0784007-49
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2013-0036232-15
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.01.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0036255-54
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2013.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0369756-84
9 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2013.09.03 수리 (Accepted) 7-8-2013-0026158-47
10 등록결정서
Decision to grant		 2014.03.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0184093-17
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.03.14 수리 (Accepted) 4-1-2016-5032192-73
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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나노임프린트 리소그라피 (nanoimprint lithography)용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 있어서,ⅰ)주형을 염기성 산화용액과 반응시켜 표면 산화를 진행하는 단계,;ⅱ)상기 표면이 산화된 주형을 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyl triethoxysilane, APTES) 용액과 반응시켜 주형 표면의 -OH(수산기)와 반응시켜 APTES를 주형 표면에 부착시키는 단계 및;ⅲ)상기 APTES가 부착된 주형을 모노글리시딜 에테르 폴리디메틸실록산(monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane(PDMS)) 용액과 반응시켜 상기 APTES에 항부착성 물질로서 PDMS를 부착시키는 단계를 포함하되,상기 염기성 산화용액은 염기로서 암모니아와 과산화수소를 포함한 수용액이며, 상기 암모니아수(25 wt%), 과산화수소(28 wt%) 및 물의 비율이 부피비로 1: 0
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제1항에 있어서,상기 ⅲ)단계는 감압하에 수행되는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법
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제1항에 있어서,상기 주형은 원판 주형에서 복제된 고분자 물질로 된 레플리카 주형(replica mold)인 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 국민대학교 산학협력단 기초연구사업-일반연구자 광흡수율 및 엑시톤 수득률 개선을 통한 단분자 유기태양전지 효율향상 연구