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플라즈마 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015222199
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 처리장치에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 플라즈마 방전이 발생하는 공간의 이동 경로를 길게 형성함으로써 플라즈마 방전 공간에서의 처리 소재가 반응을 일으키기 위한 충분한 시간을 확보하여, 보다 효율적이고 균질화된 소재로 처리할 수 있는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.본 발명의 장치에 따르면, 일단에 인렛부를 구비함과 더불어 타단에 아웃렛부를 구비하며, 전원 공급부로부터 인가된 전원에 의해 상기 인렛부를 통해 반응기 내부로 공급된 처리 대상 소재 및 처리 가스가 플라즈마 반응 처리되어 상기 아웃렛부를 통해 반출된 처리 물질을 수취하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 인렛부를 통해 공급되는 처리대상 소재 및 처리 가스가 회오리 형상으로 일정 길이를 갖도록 형성된 처리 채널의 이동 경로를 따라 통과하면서 처리되어 상기 아웃렛부를 통해 균질화된 물질이 반출되는 반응기; 및 상기 전원 공급부의 양단과 각각 연결된 서로 다른 극성의 제1 전극 및 제2 전극이 상기 반응기 내부의 인렛부 측으로부터 아웃렛부 측에 형성된 회오리 형상의 처리 채널에 대응하여 각각 설치되고, 상기 처리대상 소재와 처리 가스가 주입되는 처리 채널 내에서 플라즈마 방전 반응을 발생시키기 위하여 일정 주기의 고전압을 공급하는 제1및 제2 전극부;를 포함하는, 플라즈마 처리장치를 제공한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) C01B 31/02 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01)
CPC H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01)
출원번호/일자 1020120036015 (2012.04.06)
출원인 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원
등록번호/일자 10-1369210-0000 (2014.02.25)
공개번호/일자 10-2013-0113664 (2013.10.16) 문서열기
공고번호/일자 (20140306) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.06)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 대한민국 강원도 철원군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김성인 미국 서울 성동구
2 김용득 대한민국 대구 서구
3 손병구 대한민국 경기 남양주시
4 최선용 대한민국 경기 남양주시
5 신명선 대한민국 경기 남양주시
6 김병훈 대한민국 강원 철원군
7 이규항 대한민국 서울 은평구
8 이문원 대한민국 서울 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김윤배 대한민국 서울특별시 중구 을지로 **길 ** ***호(수표동, 동화빌딩)(썬리치국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 올릭스 전북 전주시 덕진구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0276848-46
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2012-0553837-19
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025708-25
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.08.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0534972-66
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0893532-19
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2013-0893520-72
7 등록결정서
Decision to grant		 2014.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0077966-84
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일단에 인렛부를 구비함과 더불어 타단에 아웃렛부를 구비하며, 전원 공급부로부터 인가된 전원에 의해 상기 인렛부를 통해 반응기 내부로 공급된 처리 대상 소재 및 처리 가스가 플라즈마 반응 처리되어 상기 아웃렛부를 통해 반출된 처리 물질을 수취하는 플라즈마 처리 장치에 있어서,상기 인렛부를 통해 공급되는 처리대상 소재 및 처리 가스가 회오리 형상으로 일정 길이를 갖도록 형성된 처리 채널의 이동 경로를 따라 통과하면서 처리되어 상기 아웃렛부를 통해 균질화된 물질이 반출되는 반응기; 및 상기 전원 공급부의 양단과 각각 연결된 서로 다른 극성의 제1 전극 및 제2 전극이 상기 반응기 내부의 인렛부 측으로부터 아웃렛부 측에 형성된 회오리 형상의 처리 채널에 대응하여 각각 설치되고, 상기 처리대상 소재와 처리 가스가 주입되는 처리 채널 내에서 플라즈마 방전 반응을 발생시키기 위하여 일정 주기의 고전압을 공급하는 제1및 제2 전극부;를 포함하여 이루어지며,상기 인렛부 및 아웃렛부는 상기 제1 또는 제2 전극부를 관통하여 상기 반응기의 어느 한 부위에 각각 설치되고,상기 제1 및 제2 전극부는 처리 채널의 상면 또는 하면 전체에 평판으로 형성된 플라즈마 처리장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 처리 채널은 적어도 하나 이상인, 플라즈마 처리장치
4 4
삭제
5 5
일단에 인렛부를 구비함과 더불어 타단에 아웃렛부를 구비하며, 전원 공급부로부터 인가된 전원에 의해 상기 인렛부를 통해 반응기 내부로 공급된 처리대상 소재 및 처리 가스가 플라즈마 반응 처리되어 상기 아웃렛부를 통해 반출된 처리 물질을 수취하는 플라즈마 처리 장치에 있어서,상기 인렛부를 통해 공급되는 처리대상 소재 및 처리 가스가 지그재그 형상으로 일정 길이를 갖도록 형성된 처리 채널의 이동 경로를 따라 통과하면서 처리되어 상기 아웃렛부를 통해 균질화된 물질이 반출되는 반응기; 및 상기 전원 공급부의 양단과 각각 연결된 서로 다른 극성의 제1 전극 및 제2 전극이 상기 반응기 내부의 인렛부 측으로부터 아웃렛부 측에 형성된 지그재그 형상의 처리 채널에 대응하여 각각 설치되고, 상기 처리대상 소재와 처리 가스가 주입되는 처리 채널 내에서 플라즈마 방전 반응을 발생시키기 위하여 일정 주기의 고전압을 공급하는 제1 및 제2 전극부;를 포함하여 이루어지며,상기 처리 채널은 처리 소재 흐름의 방향 전환 부분이 라운드 형상으로 형성되고, 상기 제1및 제 2전극부는 처리채널을 사이에 두고 서로 마주하도록 다수 개가 각각 배치된, 플라즈마 처리장치
6 6
삭제
7 7
삭제
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제 1 항 또는 제 5항에 있어서, 상기 반응기는 원형, 원반형, 사각형 중 선택되는 어느 하나인, 플라즈마 처리장치
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제 1 항 또는 제 5항에 있어서, 상기 처리가스는 불활성 기체 또는 활성 기체, 각각의 불활성 기체가 혼합된 혼합물, 불활성 기체와 활성 기체의 혼합물, 각각의 활성 기체가 혼합된 혼합물 중에서 선택되는 어느 하나로 이루어진, 플라즈마 처리장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.