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포름아미딘(formamidine)·HX(여기서 X는 할라이드임)와 금속 알콕사이드를 반응시켜 포름아미딘을 수득하고;상기 수득된 포름아미딘을 HX(여기서 X는 할라이드임)와 반응시켜 포름아미디늄 할라이드를 수득하는 것을 포함하는, 페로브스카이트 제조용 전구체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 HX는 HI, HCl, HBr, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 포함하는 것인, 페로브스카이트 제조용 전구체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 포름아미디늄 할라이드는 포름아미디늄 이오다이드(formamidinium iodide), 포름아미디늄 클로라이드(formamidinium chloride), 포름아미디늄 브로마이드(formamidinium bromide), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 페로브스카이트 제조용 전구체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 알콕사이드는 알칼리 금속 알콕사이드를 포함하는 것인, 페로브스카이트 제조용 전구체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 알콕사이드는 소듐 에톡사이드를 포함하는 것인, 페로브스카이트 제조용 전구체의 제조 방법
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전도성 투명 기재를 포함하는 제 1 전극;상기 제 1 전극에 형성된 재결합 방지층;상기 재결합 방지층에 형성된 광활성층;상기 광활성층에 형성된 정공 전달층; 및,상기 정공 전달층에 형성된 제 2 전극을 포함하며, 상기 광활성층은, 하기 화학식 1로서 표시되는 페로브스카이트를 포함하는 페로브스카이트 층을 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지로서:[화학식 1] RMX3상기 화학식 1 중,R은 CnH2n+1NH3+(n은 1 내지 9의 정수임), NH4+, HC(NH2)2+, CS+, NF4+, NCl4+, PF4+, PCl4+, CH3PH3+, CH3ASH3+, CH3SbH3+, PH4+, ASH4+, SbH4+, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가의 양이온을 포함하고, M은 Pb2+, Sn2+, Ge2+, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 2가의 금속 양이온이고, X는 할로겐 음이온임;상기 광활성층은 반도체층을 추가 포함하는 것이고,상기 광활성층에 포함된 상기 페로브스카이트 층은, MX2(여기서, M은 Pb2+, Sn2+, Ge2+, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 2가의 금속 양이온이고, X는 할로겐 음이온임)와 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 포름아미디늄 할라이드(formamidinium halide)를 포함하는 페로브스카이트 제조용 전구체와 반응시켜 형성된 상기 화학식 1의 페로브스카이트를 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지
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제 7 항에 있어서,상기 화학식 1의 페로브스카이트는 HC(NH2)2MX3를 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지
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제 7 항에 있어서,상기 반도체층은 20 nm 내지 500 nm의 기공을 포함하는 다공성 구조를 가지는 것인, 페로브스카이트 태양전지
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제 7 항에 있어서,상기 반도체층은 유기 반도체, 무기 반도체, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지
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제 7 항에 있어서,상기 반도체층은 1 ㎛ 이하의 두께를 가지는 것인, 페로브스카이트 태양전지
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제 7 항에 있어서,상기 정공 전달층은 단분자 정공 전달 물질 또는 고분자 정공 전달 물질을 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지
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전도성 투명 기재를 포함하는 제 1 전극에 재결합 방지층을 형성하고;상기 재결합 방지층에 하기 화학식 1로서 표시되는 페로브스카이트 층을 형성하여 페로브스카이트 층을 포함하는 광활성층을 형성하고;상기 광활성층에 정공 전달층을 형성하고; 및,상기 정공 전달층에 제 2 전극을 형성하는 것을 포함하는, 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법으로서:[화학식 1] RMX3상기 화학식 1 중,R은 CnH2n+1NH3+(n은 1 내지 9의 정수임), NH4+, HC(NH2)2+, CS+, NF4+, NCl4+, PF4+, PCl4+, CH3PH3+, CH3ASH3+, CH3SbH3+, PH4+, ASH4+, SbH4+, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가의 양이온을 포함하며, M은 Pb2+, Sn2+, Ge2+, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 2가의 금속 양이온이고, X는 할로겐 음이온임;상기 광활성층은 반도체층을 추가 포함하는 것이고,상기 광활성층을 형성하는 것은, MX2(여기서, M은 Pb2+, Sn2+, Ge2+, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 2가의 금속 양이온이고, X는 할로겐 음이온임)와 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 포름아미디늄 할라이드(formamidinium halide)를 포함하는 페로브스카이트 제조용 전구체와 반응시켜 형성된 상기 화학식 1의 페로브스카이트를 포함하는 페로브스카이트의 층을 형성하는 것을 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 반도체층은 20 nm 내지 500 nm의 기공을 포함하는 다공성 구조를 가지는 것인, 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 반도체층은 유기 반도체, 무기 반도체, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 반도체층은 금속 산화물 반도체 나노입자의 페이스트를 코팅하여 형성되는 것인, 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 반도체층은 1 ㎛ 이하의 두께를 가지는 것인, 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 광활성층을 형성한 후, 100℃ 내지 170℃에서 어닐링하는 것을 추가 포함하는 것인, 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법
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