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기판,상기 기판 위에 소정의 패턴을 형성하여 위치하는 그래핀 층, 및상기 그래핀 층 위에 위치하는 금속 층을 포함하는유연 전극
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제1항에서,상기 패턴은 소정의 간격을 두고 배치된 복수의 그래핀 단위들을 포함하는 유연 전극
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제2항에서,서로 인접하는 상기 그래핀 단위 간의 간격은 10 ㎛ 내지 100 ㎛인 유연 전극
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제3항에서,상기 그래핀 단위는 정사각형, 직사각형, 또는 마름모 형상을 가지는 유연 전극
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5
제1항에서,상기 금속은 나노선(nanowire) 형상을 가지는 유연 전극
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제5항에서,상기 나노선의 직경은 10 nm 내지 100 nm인 것인 유연 전극
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7
제5항에서,상기 나노선의 길이는 1 ㎛ 내지 20 ㎛인 것인 유연 전극
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8
제5항에서,상기 나노선은 은 나노선, 구리 나노선 또는 이들의 조합을 포함하는 유연 전극
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9
제1항에서,상기 기판은 고분자 필름 기판인 유연 전극
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10
제1항에서,상기 기판은 유연(flexible) 기판인 것인 유연 전극
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11
제1항에서,상기 유연 전극의 광투과도는 70% 이상인 유연 전극
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12
제1항에서,상기 유연 전극의 신축성은 150% 이상인 유연 전극
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13
제1항에서,상기 유연 전극의 표면 저항은 300Ω 이하인 유연 전극
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제1항에 따른 유연 전극을 포함하는 전자 소자
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15
기판을 준비하는 단계,상기 기판 위에 그래핀을 적용하고 소정의 패턴을 형성하여 그래핀 층을 형성하는 단계, 및상기 그래핀 층 위에 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 유연 전극의 제조방법
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16
제15항에서,상기 그래핀 층을 형성하는 단계에서 상기 그래핀은 화학기상 증착법(CVD)에 따라 상기 기판 위에 적용되는 것인 유연 전극의 제조방법
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17
제15항에서,상기 그래핀 층을 형성하는 단계에서 상기 패턴은 소정의 간격을 두고 배치된 복수의 그래핀 단위들을 포함하는 유연 전극의 제조방법
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18
제17항에서,서로 인접하는 상기 그래핀 단위 간의 간격은 10㎛ 내지 100 ㎛인 유연 전극의 제조방법
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제17항에서,상기 그래핀 단위는 정사각형, 직사각형, 또는 마름모 형상을 가지도록 형성되는 것인 유연 전극의 제조방법
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제15항에서,상기 금속은 나노선(nanowire) 형상을 가지는 것인 유연 전극의 제조방법
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제20항에서,상기 나노선은 은 나노선, 구리 나노선 또는 이들의 조합을 포함하는 유연 전극의 제조방법
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제20항에서,상기 나노선의 직경은 10 nm 내지 100 nm인 것인 유연 전극의 제조방법
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제20항에서,상기 나노선의 길이는 1 ㎛ 내지 20 ㎛인 것인 유연 전극의 제조방법
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제15항에서,상기 기판은 고분자 필름 기판인 유연 전극의 제조 방법
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제15항에서,상기 기판은 유연(flexible) 기판인 것인 유연 전극의 제조 방법
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