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기판을 형성하는 기판형성단계;상기 기판의 상부에 고체 탄소 원료(solid carbon source)를 도포하는 고체탄소원료도포단계;상기 기판의 상부에 도포된 고체 탄소 원료를 자외선광에 노광하고 현상하여 패턴을 형성한 후, 가열하여 패턴이 형성된 상기 기판 상에 그래핀(Graphene)을 성장하는 그래핀성장단계;를 포함하되, 상기 그래핀은 상기 고체 탄소 원료의 도포두께에 따라 상기 기판 상에 서로 다른 두께를 갖도록 성장되는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판은금속기판 또는 비금속기판의 상부에 금속층이 형성되는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 금속기판은 구리 또는 니켈로 이루어진 기판인 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 비금속기판은실리콘 산화막(SiO2), 사파이어, 석영 또는 유리기판 중 하나인 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제2항에 있어서,상기 금속층은 전이금속(Transition Metal)에 속하는 금속 중 단일 종류의 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제5항에 있어서,상기 금속층은50 내지 300nm의 두께로 상기 기판의 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고체탄소원료도포단계는상기 고체 탄소 원료의 도포두께는 0
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제7항에 있어서, 상기 고체탄소원료도포단계는상기 고체 탄소 원료의 도포두께가 스핀코팅 시 사용되는 스핀코터의 회전 수 및 회전시간에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제1항에 있어서,상기 그래핀성장단계는상기 고체 탄소 원료의 도포두께가 상기 기판의 상부에 도포된 고체 탄소 원료로 전달되는 자외선광의 노광시간 및 광량에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 그래핀성장단계는상기 고체 탄소 원료의 도포 두께가 상기 고체 탄소 원료의 가열 시, 상기 고체 탄소 원료로 주입되는 수소 가스의 양에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 그래핀성장단계는 상기 고체 탄소 원료의 가열 시, 수소 및 아르곤 또는 수소 및 질소 가스를 포함하는 혼합가스가 상기 고체 탄소 원료로 주입되는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제11항에 있어서,상기 고체 탄소 원료의 가열은 상기 수소 및 아르곤 또는 수소 및 질소 가스를 포함하는 혼합가스가 0
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제1항에 있어서, 상기 그래핀성장단계는상기 고체 탄소 원료의 가열 시, 승온속도가 93 내지 930 ℃/min 가 되도록 하여 상기 고체 탄소 원료의 두께를 결정하는 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고체 탄소 원료는 포토레지스트(photoresist)인 것을 특징으로 하는 고체 탄소 원료를 이용한 그래핀 제조방법
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제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따라 제조된 그래핀을 포함하는 소자
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