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플라즈마 진단 장치, 및 그 신호 처리 방법

  • 기술번호 : KST2016001160
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 진단 장치, 및 그 신호 처리 방법을 제공한다. 이 방법은 플로팅 축전기에 연결된 탐침 전극에 구동 주파수의 주기적인 예비 전압 신호를 인가하여 기생 전류 신호를 측정하여 구동 주파수 및 고조파에서의 진폭 및 위상을 이용하여 기생 축전기의 기생 정전 용량을 추출하는 단계, 탐침 전극을 플라즈마에 노출시키는 단계, 플라즈마에 노출된 탐침 전극에 구동 주파수의 주기적인 전압 신호를 인가하여 입력 전류 신호를 측정하여 구동 주파수 및 고조파에서의 진폭 및 위상을 이용하여 등가 정전 용량을 추출하는 단계, 및 등가 정전 용량에서 기생 정전 용량를 제거하여 구동 주파수 및 고조파에서 보정된 진폭을 이용하여 플라즈마 변수를 추출하는 단계를 포함한다.플라즈마, 탐침 전극, 기생 축전기, 보정, 고조파
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) H01L 21/3065 (2006.01) H01L 21/66 (2006.01) H05H 1/36 (2006.01)
CPC H01J 37/32926(2013.01) H01J 37/32926(2013.01)
출원번호/일자 1020090092150 (2009.09.29)
출원인 정진욱
등록번호/일자 10-1116002-0000 (2012.01.27)
공개번호/일자 10-2011-0034746 (2011.04.06) 문서열기
공고번호/일자 (20120213) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.29)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 정진욱 대한민국 서울특별시 송파구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정진욱 대한민국 서울시 송파구
2 이신형 대한민국 경기도 평택시
3 김유신 대한민국 경기도 남양주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.09.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0597032-10
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0214704-51
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.05.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0353267-24
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0353271-18
5 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0712706-90
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2013-5002879-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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플로팅 축전기에 연결된 탐침 전극에 구동 주파수의 주기적인 예비 전압 신호를 인가하여 기생 전류 신호를 측정하여 상기 구동 주파수 및 고조파에서의 진폭 및 위상을 이용하여 기생 축전기의 기생 정전 용량을 추출하는 단계;상기 탐침 전극을 플라즈마에 노출시키는 단계;상기 플라즈마에 노출된 상기 탐침 전극에 상기 구동 주파수의 주기적인 전압 신호를 인가하여 입력 전류 신호를 측정하여 상기 구동 주파수 및 고조파에서의 진폭 및 위상을 이용하여 등가 정전 용량을 추출하는 단계; 및상기 등가 정전 용량에서 기생 정전 용량를 제거하여 상기 구동 주파수 및 고조파에서 보정된 진폭을 이용하여 플라즈마 변수를 추출하는 단계를 포함하는 것을 포함하는 플라즈마 진단 장치의 신호 처리 방법
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제 1 항에 있어서,상기 기생 축전기의 상기 기생 정전 용량을 산출하는 단계는:상기 플라즈마에 노출되지 않은 상기 탐침 전극에 상기 구동 주파수를 가지는 상기 예비 전압 신호를 제공하는 단계;상기 기생 축전기를 통하여 흐르는 기생 전류 신호를 측정하는 단계;상기 기생 전류 신호를 푸리어 변환하여 상기 구동 주파수 성분의 진폭 및 위상을 추출하는 단계;상기 기생 전류 신호를 푸리어 변환하여 상기 구동 주파수의 2차 고조파 성분의 진폭 및 위상을 추출하는 단계;상기 구동 주파수 성분의 진폭 및 위상을 이용하여 구동 주파수에서의 제1 기생 정전 용량을 추출하는 단계; 및상기 구동 주파수의 2차 고조파 성분의 진폭 및 위상을 이용하여 2차 고조파 성분에서의 제2 기생 정전 용량을 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치의 신호 처리 방법
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제 2 항에 있어서,상기 플라즈마에 노출된 상기 탐침 전극에 상기 구동 주파수의 주기적인 전압 신호를 인가하여 입력 전류 신호를 측정하여 상기 구동 주파수 및 고조파에서의 진폭 및 위상을 이용하여 등가 정전 용량을 추출하는 단계는:상기 플라즈마에 노출된 상기 탐침 전극에 상기 구동 주파수를 가지는 상기 전압 신호를 제공하는 단계;상기 기생 축전기 및 상기 탐침 전극을 통하여 흐르는 입력 전류 신호를 측정하는 단계;상기 입력 전류 신호를 푸리어 변환하여 상기 구동 주파수 성분의 진폭 및 위상을 추출하는 단계;상기 입력 전류 신호를 푸리어 변환하여 상기 구동 주파수의 2차 고조파 성분의 진폭 및 위상을 추출하는 단계;상기 구동 주파수 성분의 진폭 및 위상을 이용하여 구동 주파수에서의 제1 등가 정전 용량을 추출하는 단계; 및상기 구동 주파수의 2차 고조파 성분의 진폭 및 위상을 이용하여 2차 고조파 성분에서의 제2 등가 정전 용량을 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치의 신호 처리 방법
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제 3 항에 있어서,상기 등가 정전 용량에서 기생 정전 용량를 제거하여 상기 구동 주파수 및 고조파에서 보정된 진폭을 이용하여 플라즈마 변수를 추출하는 단계는:상기 제1 등가 정전 용량에서 상기 제1 기생 정전 용량을 감산하여 상기 구동 주파수에서 보정된 제1 진폭을 추출하는 단계; 상기 제2 등가 정전 용량에서 상기 제2 기생 정전 용량을 감산하여 상기 고조파에서 보정된 제2 진폭을 추출하는 단계; 및상기 보정된 제1 진폭 과 상기 보정된 제2 진폭을 이용하여 플라즈마 변수를 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치의 신호 처리 방법
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제 2 항에 있어서,상기 기생 축전기의 상기 기생 정전 용량을 산출하는 단계는:상기 예비 전압 신호와 최대의 예비 전압 신호를 비교하는 단계; 및상기 예비 전압 신호가 최대의 예비 전압 신호보다 작은 경우 상기 예비 전압 신호의 크기를 증가시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치의 신호 처리 방법
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제 3 항에 있어서,상기 등가 정전 용량을 추출하는 단계는:상기 전압 신호의 크기를 설정하는 단계;상기 입력 전류 신호와 최소의 입력 전류 신호를 비교하는 단계;상기 입력 전류 신호가 최소의 입력 전류 신호보다 작은 경우, 상기 전압 신호의 크기를 증가시키는 단계; 상기 입력 전류 신호와 최대의 입력 전류 신호를 비교하는 단계;및상기 입력 전류 신호가 최대의 입력 전류 신호보다 큰 경우, 상기 전압 신호의 크기를 감소시키는 단계 중에서 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치의 신호 처리 방법
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플라즈마에 삽입되는 탐침 전극을 포함하는 플라즈마 진단 장치에 있어서,구동부로부터 제공되는 주기적인 전압 신호를 상기 탐침 전극에 인가하여 상기 탐침 전극에 흐르는 전류 신호를 검출하는 전류 검출부;상기 전류 검출부의 출력 신호를 입력받아 상기 전류 신호의 구동 주파수 및 그 고조파 성분의 크기 및 위상을 추출하는 주파수 분석부; 및상기 플라즈마에 노출되지 않은 상기 탐침 전극에 의한 기생 축전기의 정전용량을 이용하여 상기 플라즈마에 노출된 상기 탐침 전극에 의한 구동 주파수 및 고조파 성분에서의 등가 정전 용량을 보정하는 보정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치
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제 7항에 있어서,상기 구동부를 제어하는 제어부를 더 포함하되,상기 구동부는 상기 제어부에 의하여 제어된 크기의 상기 전압 신호의 크기를 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.