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나노 임프린트 리소그래피 시스템

  • 기술번호 : KST2016001577
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 임프린트 리소그래피 시스템(NANO IMPRINT LITHOGRAPHY SYSTEM)에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 형판(TEMPLATE)에 형성된 나노 단위의 미세 패턴을 기판(SUBSTRATE)에 전사시키는 나노 임프린트 리소그래피 시스템(NANO IMPRINT LITHOGRAPHY SYSTEM)에 있어서, 형판(TEMPLATE)의 기울기 변화에 따라 기판(SUBSTRATE)의 기울기도 전 방향에 대하여 변화함으로서, 기판(SUBSTRATE)과 형판(TEMPLATE)의 평형도를 향상시켜 패턴을 전사하는 작업의 정밀도를 높이도록 상기 기판(SUBSTRATE) 하부에 공기베어링(AIR BEARNING)을 구비하고, 형판(TEMPLATE)의 압력이 기판(SUBSTRATE)에 균일하게 가해지도록 정수압의 원리를 형판(TEMPLATE)에 대한 가압방식으로 채택하여, 실린더를 가압하는 공기주머니를 구비하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 리소그래피 시스템(NANO IMPRINT LITHOGRAPHY SYSTEM)에 관한 것이다. 형판(TEMPLATE), 기판(SUBSTRATE), 공기베어링, 공기주머니
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) G03F 7/20 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020040000496 (2004.01.06)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0551682-0000 (2006.02.06)
공개번호/일자 10-2005-0072196 (2005.07.11) 문서열기
공고번호/일자 (20060213) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.01.06)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재종 대한민국 대전광역시서구
2 이득우 대한민국 부산 금정구
3 최동환 대한민국 경남 마산시
4 이채문 대한민국 부산 부산진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 곽철근 대한민국 부산광역시 사상구 모라로 **, **층 ****호 (모라동, 부산벤처타워)(아이디특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2004-0003138-47
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.09.23 수리 (Accepted) 4-1-2004-0038964-90
3 출원인변경신고서
Applicant change Notification		 2005.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2005-0115731-96
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2005.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2005.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2005-0062093-96
6 등록결정서
Decision to grant		 2006.01.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0055700-76
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
형판(62)에 형성된 나노 단위의 미세 패턴을 기판(64)에 전사시키는 나노 임프린트 리소그래피 시스템에 있어서, 형판(62)의 기울기 변화에 따라 기판(64)의 기울기가 전 방향에 대하여 변화함으로서 형판(62)과 기판(64)의 평형도를 향상시키도록, 기판(64) 하부에 반구형의 공기베어링(68)을 구비하고, 형판(62)의 압력이 기판(64)에 균일하게 가해지도록 정수압의 원리를 형판(62)에 대한 가압 방식으로 채택하여, 실린더(58)를 가압하는 공기주머니(56)를 구비하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 리소그래피 시스템
2 2
제 1항에 있어서, 상기 공기베어링(68) 및 공기주머니(56)에 공기를 공급하도록, 컴프레셔(54)를 구비하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 리소그래피 시스템
3 2
제 1항에 있어서, 상기 공기베어링(68) 및 공기주머니(56)에 공기를 공급하도록, 컴프레셔(54)를 구비하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 리소그래피 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.