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광자 결정 소자, 상기 광자 결정 소자 제조 방법 및 상기 광자결정 소자를 포함하는 반사형 디스플레이 장치(PHOTONIC CRYSTAL DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND REFLECTIVE-TYPE DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE PHOTONIC CRYSTAL DEVICE)

  • 기술번호 : KST2016006126
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 한 가지 양태에 따라서, 기판을 제공하는 단계; 상기 기판 상에 광자결정 박막을 형성하는 단계; 상기 광자결정 박막 상에 고체 고분자 전해질을 이용하여, 고체 고분자 박막을 형성하는 단계; 상기 고체 고분자 박막 상에 전극을 형성하는 단계를 포함하는 광자결정 소자 제조방법이 제공된다.
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01)
CPC G02F 1/133553(2013.01) G02F 1/133553(2013.01) G02F 1/133553(2013.01) G02F 1/133553(2013.01)
출원번호/일자 1020140093811 (2014.07.24)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1623461-0000 (2016.05.17)
공개번호/일자 10-2016-0013291 (2016.02.04) 문서열기
공고번호/일자 (20160524) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.07.24)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박철민 대한민국 서울특별시 마포구
2 박태준 대한민국 서울특별시 영등포구
3 황선각 대한민국 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김승욱 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, ***호(서초동, 두산베어스텔)(아이피마스터특허법률사무소)
2 이채형 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** (대치동 동구빌딩 *층) Neo국제특허법률사무소

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-0697312-74
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.03.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0231165-97
4 선행기술조사의뢰 취소
Revocation of Request for Prior Art Search
2015.03.11 수리 (Accepted) 9-1-0000-0000000-00
5 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.05.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-0461439-85
6 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.05.14 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2015-0461449-31
7 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2015.05.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2015.05.18 수리 (Accepted) 9-1-2015-0035071-15
9 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2015.05.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0087871-16
10 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2015.07.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0111988-57
11 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2015-0721077-82
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.09.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0657114-95
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-1137217-13
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-1225401-16
15 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2016-0069451-73
16 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.01.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0092853-53
17 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0092859-26
18 보정요구서
Request for Amendment
2016.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0017797-95
19 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2016.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2016-0113272-74
20 등록결정서
Decision to grant
2016.04.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0287988-72
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번호 청구항
1 1
기판을 제공하는 단계;상기 기판 상에 광자결정 박막을 형성하는 단계;상기 광자결정 박막 상에 고체 고분자 전해질을 이용하여, 고체 고분자 박막을 형성하는 단계;상기 고체 고분자 박막 상에 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 고체 고분자 박막은, 고분자 모체와 이온성 액체와 용매를 포함하는 고체 고분자 전해질 용액을 상기 광자결정 박막에 적하하여 형성하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 광자결정 박막은 블록공중합체를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
3 3
청구항 2에 있어서, 상기 블록공중합체로서 PS-b-P2VP(polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine)(Ps-b-P2VP)를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결졍 소자 제조 방법
4 4
청구항 2에 있어서, 상기 광자결정박막은 상기 블록공중합체를 용매에 녹여 형성한 용액을 상기 기판 상에 블록공중합체 박막 형태로 형성하고, 상기 블록공중합체 박막에 대해 어닐링 처리한 후 4차화 반응을 적용하는 과정을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
5 5
삭제
6 6
청구항 1에 있어서, 상기 고분자 모체로서 소수성 특성을 갖는 고분자를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
7 7
청구항 1에 있어서, 상기 고분자 모체로서 PVDF-TrFE를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
8 8
청구항 6에 있어서, 상기 이온성 액체로서 상기 광자결정 박막 중으로 침투가능한 이온을 갖는 이온성 액체를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
9 9
청구항 8에 있어서, 상기 이온성 액체로서 친수성 특성을 갖는 이온성 액체를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
10 10
청구항 9에 있어서, 상기 이온성 액체로서 Bis(trifluoromethane)sulfonimide lithium(LiTFSI)를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
11 11
청구항 1에 있어서, 상기 고체 고분자 전해질 용액 중의 이온성 액체의 농도에 따라 상기 광자결정 박막의 광밴드갭이 변동하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자 제조 방법
12 12
기판과;상기 기판 상에 형성된 광자결정 박막과;상기 광자결정 박막 상에 고체 고분자 전해질을 이용하여 형성된 고체 고분자 박막과;상기 고체 고분자 박막 상에 형성된 전극을 포함하고, 상기 고체 고분자 박막은, 고분자 모체와 이온성 액체와 용매를 포함하는 고체 고분자 전해질 용액을 상기 광자결정 박막에 적하하여 형성하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
13 13
청구항 12에 있어서, 상기 광자결정 박막은 블록공중합체를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
14 14
청구항 13에 있어서, 상기 블록공중합체로서 PS-b-P2VP(polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine)(Ps-b-P2VP)를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결졍 소자
15 15
청구항 13에 있어서, 상기 광자결정박막은 상기 블록공중합체를 용매에 녹여 형성한 용액을 상기 기판 상에 블록공중합체 박막 형태로 형성하고, 상기 블록공중합체 박막에 대해 어닐링 처리한 후 4차화 반응을 적용하는 과정을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
16 16
삭제
17 17
청구항 12에 있어서, 상기 고분자 모체는 소수성 특성을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
18 18
청구항 17에 있어서, 상기 고분자 모체는 PVDF-TrFE인 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
19 19
청구항 17에 있어서, 상기 이온성 액체는 상기 광자결정 박막 중으로 침투가능한 이온을 갖는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
20 20
청구항 19에 있어서, 상기 이온성 액체는 친수성 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
21 21
청구항 20에 있어서, 상기 이온성 액체로서 Bis(trifluoromethane)sulfonimide lithium(LiTFSI)를 이용하는 것을 특징으로 하는 광자결정 소자
22 22
청구항 12에 따른 광자결정 소자를 포함하는 반사형 디스플레이 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.