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플라즈마를 이용한 액정표시장치용 무기배향막의표면처리방법

  • 기술번호 : KST2015124714
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마를 이용하여 무기배향막의 표면을 처리하는 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 기판위에 수직 배향력을 제공하도록 구성물질의 화학식량을 조절하여 상기 구성물질의 양이 결정된 액정표시소자용 무기배향막을 증착하여 얻고, 저압챔버 내부에 설치된 전극 사이에 상기 무기배향막을 위치시키고, 상기 저압챔버 내부에 기체를 주입한 후, 상기 전극에 전원을 가하여 상기 기체로부터 전이된 플라즈마 기체로 상기 무기배향막의 표면을 처리함으로써 상기 무기배향막의 수직배향력을 복원시키는 것을 특징으로 하여 무기배향막의 표면의 열적 및 화학적 안정성을 확보하고, 액정의 수직 배향력을 향상시키기 위한 것이다.무기배향막, 표면처리, 플라즈마
Int. CL G02F 1/1337 (2006.01)
CPC G02F 1/1337(2013.01) G02F 1/1337(2013.01) G02F 1/1337(2013.01)
출원번호/일자 1020050104503 (2005.11.02)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0814146-0000 (2008.03.10)
공개번호/일자 10-2007-0047604 (2007.05.07) 문서열기
공고번호/일자 (20080314) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.11.02)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 백홍구 대한민국 서울특별시 강남구
2 황병하 대한민국 경기도 고양시 덕양구
3 김경찬 대한민국 서울특별시 마포구
4 안한진 대한민국 서울특별시 마포구
5 김종복 대한민국 서울특별시 서대문구
6 현동춘 대한민국 서울 용산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김선준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 ** (역삼동) 뉴서울빌딩 *층(리앤김 국제특허법률사무소)
2 이광연 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 ** (역삼동) 뉴서울빌딩 ***호(리앤김국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2005-0631592-05
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.10.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.11.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0076091-12
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.12.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0716054-50
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.02.01 수리 (Accepted) 1-1-2007-0100143-88
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2007.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2007-0178872-04
7 의견서
Written Opinion		 2007.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2007-0255997-31
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2007.04.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0255996-96
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2007.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0471412-13
10 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2007.10.31 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2007-0044010-17
11 등록결정서
Decision to grant		 2007.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0668879-74
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
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번호 청구항
1 1
기판위에 수직 배향력을 제공하도록 구성물질의 화학식량을 조절하여 상기 구성물질의 양이 결정된 액정표시소자용 무기배향막을 증착하여 얻고, 저압챔버 내부에 설치된 전극 사이에 상기 무기배향막을 위치시키고, 상기 저압챔버 내부에 기체를 주입한 후, 상기 전극에 전원을 가하여 상기 전극 사이에서 상기 기체로부터 전이된 플라즈마 기체로 상기 전극 사이에 존재하는 상기 무기배향막의 표면을 전체적으로 균일하게 처리함으로써 상기 무기배향막의 수직배향력을 복원시키는 것을 특징으로 하는 무기배향막의 표면처리방법
2 2
제1항에 있어서,상기 무기배향막의 증착은 화학기상증착, 열증발증착, 전자빔증착, 스퍼터링 중 어느 하나에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 무기배향막의 표면처리방법
3 3
제1항에 있어서,상기 무기배향막은 a-SiO2, a-Si, a-SiC, CeO2 로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 무기배향막의 표면처리방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 기체는 O2, CF4, Ar 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 무기배향막의 표면처리방법
5 5
제1항에 있어서,상기 전원의 인가되는 전력의 크기와 처리시간이 반비례를 이루는 것을 특징으로 하는 무기배향막의 표면처리방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.