1 |
1
기공을 포함하고, 상기 기공에 산화촉진제가 함침되어 있고,상기 함침된 산화촉진제는, 용적이 0
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 기공은, 상기 다공성 연마입자의 중심으로부터 표면에 이르는 반경 중, 상기 표면으로부터 50% 지점 내 영역에 존재하는 것인, 다공성 연마입자
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
삭제
|
6 |
6
제1항에 있어서,상기 산화촉진제는, 과산화수소, 철화합물, 페로시안화물, 염소산염, 중크롬산염, 하이포염소산염, 질산염, 과황산염 및 과망간산염으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것인, 다공성 연마입자
|
7 |
7
삭제
|
8 |
8
제1항에 있어서,상기 다공성 연마입자는, 평균 입도가 20 nm이상 200 nm 미만인 것인, 다공성 연마입자
|
9 |
9
제1항 내지 제2항, 제6항, 제8항 중 어느 한 항의 다공성 연마입자를 포함하는 연마용 슬러리 조성물
|
10 |
10
제9항에 있어서,상기 슬러리 조성물은, 미세 연마입자와 큰 연마입자에 대응하는 분리된 두 개 이상의 피크를 갖는 입도 분포를 가지고, 상기 미세 연마입자의 평균 입도는 20 nm 이상 50 nm 미만이고,상기 큰 연마입자의 평균 입도는 50 nm 이상 200 nm 미만인 것인, 연마용 슬러리 조성물
|
11 |
11
제9항에 있어서,상기 연마용 슬러리 조성물을 이용한 연마 시, 연마량이 10 내지 1000Å 인 것인, 연마용 슬러리 조성물
|
12 |
12
제9항에 있어서,상기 연마용 슬러리 조성물을 이용한 연마 후, 표면의 거칠기 (roughness)는 1
|
13 |
13
제9항에 있어서,상기 연마용 슬러리 조성물을 이용한 연마 후, 표면의 피크투밸리(peak to valley; PV) 값은 10 nm 이하인 것인, 연마용 슬러리 조성물
|
14 |
14
제9항에 있어서,상기 연마용 슬러리 조성물은 텅스텐 연마용 슬러리 조성물인 것인, 연마용 슬러리 조성물
|