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중공 형상으로 마련되어 피측정 입자를 포함하는 기체가 유입되는 몸체부와, 가변적인 직경을 가지며 상기 피측정 입자가 집속되는 집속공이 형성되고 상기 몸체부 내에 설치되어 상기 몸체부 내부 공간을 구획하는 집속부를 포함하는 입자 집속부;상기 입자 집속부로부터 유출되는 기체가 공급되는 저진공챔버;상기 저진공챔버와 연결되는 고진공챔버;상기 저진공챔버와 상기 고진공챔버를 구획하며, 상기 기체가 통과하도록 관통공이 형성되는 스키머;상기 고진공챔버의 상류측에 설치되며, 상기 입자를 대전시키는 입자 대전부;상기 고진공챔버의 하류측에 설치되고, 전기장을 형성하여 상기 대전된 입자의 진행경로를 변경시키는 입자 전향부;상기 대전된 입자의 진행경로가 변경되는 영역에 설치되며 상기 입자를 계수하는 입자 계수부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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제1항에 있어서,상기 입자전향부는,상기 기체의 유동방향에 대해 45도 각도로 배치되고, (+)전압이 인가되며 메쉬 형태인 제1금속판; 상기 제1금속판보다 상류측에 상기 제1금속판과 동일한 각도로 배치되고, 접지되며 메쉬 형태로 마련되는 제2금속판;을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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제2항에 있어서,상기 고진공챔버의 하류측 말단에 설치되고, 입사되는 입자를 계수하는 제2 입자계수부를 더 포함하며,상기 입자전향부는, 상기 제1금속판보다 하류측에 상기 제1금속판과 동일한 각도로 배치되고, 접지되며 메쉬형태로 마련되는 제3금속판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자측정장치
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제1항에 있어서,상기 입자계수부는,상기 입자가 상기 고진공챔버에 진입하는 방향을 따라 복수 개가 배열되는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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제4항에 있어서,상기 입자 계수부는,입자를 포집하는 포집기; 상기 포집기에 포집된 입자를 계수하는 계수기;를 포함하는 입자 측정장치
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제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 집속부는,제1관통공이 형성되는 베이스; 상기 베이스 일면에 장착되며, 복수 개가 마련되어 상기 베이스 상에서 이동함으로써 상기 제1관통공의 차폐영역을 조절하는 블레이드;를 포함하는 조리개부를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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제6항에 있어서,상기 조리개부는, 복수 개가 마련되어 상기 블레이드와 상기 베이스를 관통하며 상기 블레이드와 일체로 이동하는 안내핀을 더 포함하며,상기 집속부는, 상기 안내핀이 삽입되며 상기 안내핀의 이동을 안내하는 복수 개의 안내홈이 형성되며, 상기 안내핀을 이동시켜 상기 제1관통공의 차폐영역을 조절하는 제1조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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제7항에 있어서,복수 개의 상기 블레이드는 인접하는 블레이드의 일부와 중첩되도록 가상의 원주를 따라서 교대로 배치되며, 상기 안내핀의 이동에 따라 중첩되는 영역이 변화됨으로써 상기 제1관통공의 차폐영역을 조절하여 상기 집속공이 가변적인 직경을 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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제8항에 있어서,상기 집속부는,상기 집속공을 형성하며 상기 제1조절부와 상기 조리개부가 삽입되는 제2관통공이 형성되며, 상기 제1조절부와 연동하는 제2조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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제9항에 있어서,상기 몸체부는,기체가 유입되는 유입부와, 상기 기체 상에 부유하는 입자가 집속되어 유출되는 유출부가 형성되며, 상기 유출부는 가변적인 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 입자 측정장치
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