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기판 제조 장치 및 그의 제어 방법 방법

  • 기술번호 : KST2022004400
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판 제조 장치 및 그의 제어 방법을 개시한다. 그의 방법은, 제 1 캐리어 가스를 공급하는 제 1 캐리어 가스 공급부와, 전구체 용액을 공급하는 전구체 용액 공급부와, 전구체 용액을 기화시켜 전구체 가스를 생성하는 기화기와, 기판의 제조 공정을 수행하는 챔버와, 기화기를 챔버에 연결하는 공급 배관과, 챔버 내의 반응 후 가스를 펌핑하는 펌프와, 펌프를 상기 챔버에 연결하는 배기 배관과, 공급 배관으로부터 분기되고, 챔버를 우회하여 배기 배관에 연결되는 우회 배관과, 우회 배관에 연결되고, 전구체 가스의 액적 크기를 측정하여 상기 전구체 가스를 액적 크기에 근거하여 챔버 내에 제공하시키는 입자 측정기를 포함한다.
Int. CL C23C 16/448 (2006.01.01) G01N 15/02 (2006.01.01) G01N 15/10 (2006.01.01)
CPC C23C 16/4486(2013.01) C23C 16/4481(2013.01) G01N 15/02(2013.01) G01N 2015/1087(2013.01) G01N 2015/1043(2013.01)
출원번호/일자 1020200133414 (2020.10.15)
출원인 삼성전자주식회사, 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0050271 (2022.04.25) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.12.09)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최진혁 경기도 수원시 영통구
2 박성규 경기도 용인시 기흥구
3 김태성 서울특별시 강남구
4 이혜선 경기도 수원시 권선구
5 석현호 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2020-1090324-27
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2021.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2021-1431628-91
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번호 청구항
1 1
제 1 캐리어 가스를 공급하는 제 1 캐리어 가스 공급부;상기 제 1 캐리어 가스에 의해 기화되는 전구체 용액을 공급하는 전구체 용액 공급부;상기 제 1 캐리어 가스 공급부 및 상기 전구체 용액 공급부에 연결되고, 상기 제 1 캐리어 가스를 이용하여 상기 전구체 용액을 기화시켜 전구체 가스를 생성하는 기화기;상기 전구체 가스를 이용하여 기판의 제조 공정을 수행하는 챔버;상기 기화기를 상기 챔버에 연결하고, 상기 기화기 내의 상기 전구체 가스를 상기 챔버 내에 공급하는 공급 배관;상기 챔버 내의 상기 전구체 가스의 반응 후 가스를 펌핑하는 펌프;상기 펌프를 상기 챔버에 연결하여 상기 챔버 내의 상기 반응 후 가스를 상기 펌프에 배기시키는 배기 배관;상기 공급 배관으로부터 분기되고, 상기 챔버를 우회하여 상기 배기 배관에 연결되는 우회 배관; 및상기 우회 배관에 체결되고, 상기 전구체 가스의 액적 크기를 측정하여 상기 전구체 가스를 상기 액적 크기에 근거하여 상기 챔버 내에 제공시키는 입자 측정기를 포함하는 기판 제조 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 기화기 및 상기 입자 측정기에 연결된 제어부를 더 포함하되,상기 제어부는 상기 전구체 가스의 상기 액적 크기에 근거하여 상기 기화기의 온도, 또는 상기 제 1 캐리어 가스의 유량을 제어하는 기판 제조 장치
3 3
제 2 항에 있어서,상기 공급 배관에 체결되어 상기 공급 배관 내의 상기 전구체 가스를 제어하는 공급 밸브; 및상기 공급 배관과 상기 입자 측정기 사이의 상기 우회 배관에 체결되어 상기 우회 배관 내의 상기 전구체 가스를 제어하는 우회 밸브를 더 포함하는 기판 제조 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 전구체 용액 공급부에 연결되고, 상기 전구체 용액 공급부에 제 2 캐리어 가스를 제공하는 제 2 캐리어 가스 공급부를 더 포함하는 기판 제조 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 입자 측정기는 질량 분석기를 포함하는 기판 제조 장치
6 6
제 1 캐리어 가스를 기화기 내에 제공하는 단계;상기 제 1 캐리어 가스에 의해 기화되는 전구체 용액을 상기 기화기 내에 제공하는 단계;상기 전구체 용액을 기화시켜 전구체 가스를 생성하는 단계;상기 전구체 가스의 액적 크기를 측정하는 단계; 상기 액적 크기가 문턱 값보다 작은지를 판별하는 단계; 및상기 액적 크기가 상기 문턱 값 이상으로 클 경우, 상기 기화기의 온도 또는 상기 제 1 캐리어 가스의 유량을 증가하는 단계를 포함하는 기판 제조 장치의 제어 방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 문턱 값은 1㎛인 기판 제조 장치의 제어 방법
8 8
제 6 항에 있어서,상기 액적 크기가 상기 문턱 값보다 작으면, 상기 전구체 가스를 상기 챔버 내에 제공하는 단계; 및상기 전구체 가스와 반응하는 반응 가스를 상기 챔버 내에 제공하는 단계를 더 포함하는 기판 제조 장치의 제어 방법
9 9
제 6 항에 있어서,상기 기화기의 온도는 150℃ 이상으로 증가되는 기판 제조 장치의 제어 방법
10 10
제 6 항에 있어서,상기 제 1 캐리어 가스의 유량은 3L/min 이상으로 증가되는 기판 제조 장치의 제어 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.