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플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조방법에 있어서,진공여부와 무관한 조건에서 액상의 고분자 모노머 계면에 가해진 플라즈마에 의해 기-액 계면에 박막이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 액상의 고분자 모노머는 기판 상에 코팅된 상태로,(A) 기판 상에 액상의 고분자 모노머를 코팅하는 단계;(B) 코팅된 액상의 고분자 모노머의 계면에 플라즈마를 가하여 중합하는 단계; 및(C) 기판으로부터 플라즈마 중합된 고분자를 박리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조 방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 액상의 고분자 모노머는 이온성 액체와 폴리에틸렌옥사이드의 혼합물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 이온성 액체는 양이온이 치환 또는 비치환된 1-R-1-메틸피롤리디움(1-R-1-methylpyrrolidium) 또는 치환 또는 비치환된 1-R-3-메틸이미다졸륨(1-R-3-methylimidazolium)으로, R은 C3~C16인 알킬기이며, 음이온이 BF4-, F-, Cl-, Br- 또는 I-로 이루어진 염인 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 폴리에틸렌옥사이드는 수평균 분자량이 200~2,000인 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 폴리에틸렌옥사이드는 또는 Tween 80이며, 이때, n=5~30인 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 폴리에틸렌옥사이드의 함량은 25 몰% 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 중합에 의한 고분자 박막의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항의 방법에 의해,액상의 고분자 모노머로 이온성 액체와 폴리에틸렌옥사이드의 혼합물을 사용하여 제조된 플라즈마 고분자 박막
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제 8 항의 플라즈마 고분자 박막으로 이루어진 겔 고분자 전해질의 고분자 메트릭스
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이온성 염을 함유하는 유기 전해액이 제 8 항의 플라즈마 고분자 박막에 함침되어 있는 것을 특징으로 하는 겔 고분자 전해질
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제 10 항의 겔 고분자 전해질을 포함하는 이차전지
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