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유기물 기판;상기 유기물 기판 상에 형성된 아민기-함유 화합물층; 및상기 아민기-함유 화합물층 상에 형성된 금속층을 포함하고상기 아민기-함유 화합물층의 화합물은 치환기를 가질 수 있는 알킬아민, 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬아민, 치환기를 가질 수 있는 아릴아민, 이들 아민으로부터 유래된 아민기를 함유하는 고분자, 또는 상기 아민기를 함유하는 고분자들이 2 이상 조합되는 것을 포함하는 광투과도가 우수한 전극
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제 1항에 있어서,상기 금속층 상에 형성된 반사방지층을 추가로 포함하는 광투과도가 우수한 전극
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 기판과 상기 아민기-함유 화합물층 사이에 금속산화물층을 추가로 포함하는 광투과도가 우수한 전극
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제 1항에 있어서,상기 기판은 유리, 석영(Quartz), Al2O3, SiC, Si, GaAs, InP로부터 선택되는 무기물 기판; 혹은 켑톤 호일, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에테르술폰(polyethersulfone, PES), 폴리아크릴레이트(polyacrylate, PAR), 폴리에테르 이미드(polyetherimide, PEI), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide, PPS), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리카보네이트(polycarbonate, PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(cellulose triacetate, CTA), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propionate, CAP)로부터 선택되는 유기물 기판인 것인, 광투과도가 우수한 전극
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제 1항에 있어서,상기 금속층의 금속은 Ag, Cu, Au, Al, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Cd, In, Sn, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Tl, Pb, Bi, Ga, Ge, Sb, Ac, Th 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것인, 광투과도가 우수한 전극
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제 2항에 있어서,상기 반사방지층은 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리티오펜(Polythiophene), 폴리에틸렌디옥시티오펜(Polyethylenedioxythiophene, PEDOT), 폴리이미드(Polyimide), 폴리스티렌설포네이트(Polystyrenesulfonate, PSS), 폴리피롤(Polypyrrole), 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리(p-페닐렌)[Poly(p-phenylene)], 폴리(p-페닐렌 설파이드)[Poly(p-phenylene sulfide)], 폴리(p-페닐렌 비닐렌)[Poly(p-phenylene vinylene)], 폴리티오펜 폴리(티에닐렌 비닐렌)[(Polythiophene Poly(thienylene vinylene)), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)폴리(스타이렌설포네이트)[Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate), PEDOT:PSS], 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것으로 이루어지는 것인, 광투과도가 우수한 전극
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제 2항에 있어서,상기 반사방지층은 폴리[9,9-비스(3'-(N,N-디메틸아미노)프로필)-2,7-플루오렌)-alt-2,7-(9,9-디옥틸플루오렌)](poly [(9,9-bis(3'-(N,N-dimethylamino)propyl)-2,7-fluorene)-alt-2,7-(9,9-dioctylfluorene)], PFN), 폴리(9,9-비스(4'-술포나토부틸)플루오렌-alt-co-1,4-페닐렌(poly(9,9-bis(4'-sulfonatobutyl)(fluorine-alt-co-1,4-phenylene, PFP), 폴리스티렌설포네이트산(poly(styrenesulfonic acid), PSS), 폴리(p-쿼터페닐렌-2,2'-다이카르복실산)(poly(p-quaterphenylene-2,2'-dicarboxylic acid)), 디페닐 플루오렌 유도체(Diphenyl fluorene derivative, DPF), 테트라키스(1-이미다조릴)보레이트(Tetrakis(1-imidazolyl)borate, Bim4-), 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것으로 이루어지는 것인, 광투과도가 우수한 전극
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기판 상에 아민기-함유 화합물층을 형성하는 단계; 및상기 아민기-함유 화합물층 위에 금속층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 아민기-함유 화합물층의 화합물은 치환기를 가질 수 있는 알킬아민, 치환기를 가질 수 있는 시클로알킬아민, 치환기를 가질 수 있는 아릴아민, 이들 아민으로부터 유래된 아민기를 함유하는 고분자, 또는 상기 아민기를 함유하는 고분자들이 2 이상 조합되는 것을 포함하는 광투과도가 우수한 전극을 제조하는 방법
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제 10항에 있어서,상기 금속층 위에 반사방지층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는, 광투과도가 우수한 전극을 제조하는 방법
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제 10항 또는 제 11항에 있어서,상기 기판과 상기 아민기-함유 화합물층 사이에 금속산화물층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는, 광투과도가 우수한 전극을 제조하는 방법
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제 10항에 있어서,상기 아민기-함유 화합물층은 스핀 코팅법, 롤(roll) 코팅법, 스프레이 코팅법, 플로(flow) 코팅법, 잉크젯 프린팅법, 노즐 프린팅법, 딥 코팅법, 전기영동증착법, 테이프 캐스팅법, 스크린 프린팅법, 패드(pad) 프린팅법, 닥터 블레이드 코팅법, 그래비어 프린팅법, 그래비어 오프셋 프린팅법, 랭뮈어-블로제트(Langmuir-Blogett)법, 스퍼터 증착법, 전자선 증착법, 열증착법, 또는 화학기상 증착법에 의하여 형성되는 것인, 광투과도가 우수한 전극을 제조하는 방법
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제 10항에 있어서,상기 금속층은 스퍼터 증착법, 전자선 증착법, 열증착법, 화학기상 증착법, 또는 용액공정에 의한 도포방법에 의하여 형성되는 것인, 광투과도가 우수한 전극을 제조하는 방법
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제 11항에 있어서,상기 반사방지층은 스핀 코팅법, 롤(roll) 코팅법, 스프레이 코팅법, 플로(flow) 코팅법, 잉크젯 프린팅법, 노즐 프린팅법, 딥 코팅법, 전기영동증착법, 테이프 캐스팅법, 스크린 프린팅법, 패드(pad) 프린팅법, 닥터 블레이드 코팅법, 그래비어 프린팅법, 그래비어 오프셋 프린팅법, 랭뮈어-블로제트(Langmuir-Blogett)법, 스퍼터 증착법, 전자선 증착법, 열증착법, 또는 화학기상 증착법에 의하여 형성되는 것인, 광투과도가 우수한 전극을 제조하는 방법
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