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그래핀의 전사 방법, 그를 이용한 유기 발광 소자의 제조방법, 및 표시장치의 제조방법(method for transferring a graphene layer, manufacturing method of the organic light emitting device using the same and display manufacturing method)

  • 기술번호 : KST2016011299
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 그래핀 층의 전사방법, 그를 이용한 유기발광소자의 제조방법 및 표시장치의 제조방법을 개시한다. 그의 전사방법은, 제 1 기판 상에 자기조립 단 분자 층을 형성하는 단계와, 상기 자기조립 단 분자 층 상에 점착 층과 지지 층을 형성하는 단계와, 상기 제 1 기판과 상기 자기조립 단 분자 층을 제거하여 상기 점착 층을 노출하는 단계와, 상기 점착 층 상에 복수개의 그래핀 층들을 전사하는 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 51/00 (2006.01.01) H01L 51/56 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) C01B 32/20 (2017.01.01)
CPC H01L 51/0003(2013.01) H01L 51/0003(2013.01) H01L 51/0003(2013.01) H01L 51/0003(2013.01) H01L 51/0003(2013.01) H01L 51/0003(2013.01)
출원번호/일자 1020140168475 (2014.11.28)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-2144873-0000 (2020.08.10)
공개번호/일자 10-2016-0065294 (2016.06.09) 문서열기
공고번호/일자 (20200818) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.06.04)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임종태 대한민국 서울특별시 관악구
2 이현구 대한민국 대전광역시 유성구
3 이정익 대한민국 대전광역시 유성구
4 추혜용 대한민국 대전시 유성 엑스포로*
5 권병화 대한민국 대전광역시 유성구
6 문제현 대한민국 대전광역시 유성구
7 김주연 대한민국 대전광역시 중구
8 유병곤 대한민국 충청북도 영동군
9 한준한 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-1158773-89
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0048928-78
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2016-1012042-12
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2019-0571875-18
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.03.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0192585-19
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.04.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0381988-36
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.04.13 수리 (Accepted) 1-1-2020-0381987-91
9 등록결정서
Decision to grant
2020.08.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0531523-07
10 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2020.08.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-5020647-00
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 기판 상에 자기조립 단 분자 층을 형성하는 단계;상기 자기조립 단 분자 층 상에 점착 층과 지지 층을 형성하는 단계;상기 제 1 기판과 상기 자기조립 단 분자 층을 제거하여 상기 점착 층을 노출하는 단계; 및상기 점착 층 상에 예비 전극 층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 점착 층과 상기 지지 층의 형성 단계는:상기 지지 층 상에 더미 점착 층을 제공하는 단계; 및상기 더미 점착 층과 상기 자기조립 단 분자 층 사이에 점착 제를 제공하여 상기 점착 층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 예비 전극 층은 전사방법으로 형성된 그래핀 층을 포함하는 그래핀 층의 전사방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 자기조립 단 분자 층의 형성 단계는:상기 제 1 기판 상에 하이드록시기를 형성하는 단계; 및상기 제 1 기판 상에 자기조립 단 분자 물질을 제공하는 단계를 포함하되,상기 제 1 기판은 1nm 이하의 표면 거칠기를 갖도록 형성된 그래핀 층의 전사방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 하이드록시기의 형성 단계는:상기 제 1 기판을 세정액 내에 초음파 처리하는 단계; 및상기 제 1 기판을 자외선 오존 처리 및 산소 플라즈마를 처리하는 단계를 포함하는 그래핀 층의 전사방법
4 4
제 2 항에 있어서,상기 자기조립 단 분자 물질은, 트리크로로(1H, 2H, 2H-헵타데카플루오르데실)실란을 포함하는 그래핀 층의 전사방법
5 5
삭제
6 6
제 1 항에 있어서,상기 지지 층은 아크릴레이트 처리 또는 우레탄 처리된 폴리에스테르를 포함하고, 상기 더미 점착 층은 아크릴레이트 내지 우레탄을 포함하는 그래핀 층의 전사방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 점착 제는 아크릴레이트 말단 작용기 또는 에폭시 말단 작용기 갖는 폴리디메틸실록산를 포함하되,상기 점착 제는 상기 아크릴레이트 말단 작용기의 메타크릴록시프로필 또는 카비놀 말단기를 가진 폴리디메틸실록산을 포함하고,상기 점착 제는 상기 에폭시 말단 작용기의 (에폭시프로폭시)프로필, (에폭시프로폭시프로필)디메톡시실릴, 또는 모노(2,3-에폭시)프로필에테르 말단기를 가진 폴리디메틸실록산을 포함하는 그래핀 층의 전사방법
8 8
제 1 항에 있어서,상기 점착 제는 다로큐어 1173의 라디컬 반응 개시제를 더 포함하는 그래핀 층의 전사방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 점착 층은 상기 점착 제와 상기 더미 점착 층 사이의 아크릴레이트 반응에 의해 경화되는 그래핀 층의 전사방법
10 10
제 9 항에 있어서,상기 아크릴레이트 반응은 상기 점착제와 상기 더미 점착 층에 제공되는 자외선과 상기 라디컬 반응 개시제의 반응에 의해 유도되는 그래핀 층의 전사방법
11 11
제 1 항에 있어서,상기 예비 전극 층을 형성하는 단계는, 상기 제 1 기판과 다른 제 2 기판과 상기 제 2 기판 상의 촉매 층 상에 화학 기상 증착방법으로 형성된 상기 그래핀 층을 상기 점착 층에 전사하는 단계를 포함하는 그래핀 층의 전사방법
12 12
제 11 항에 있어서,상기 촉매 층 및 상기 제 2 기판을 제거하는 단계를 더 포함하되,상기 촉매 층은 염화제이철 수용액에 의해 제거되는 그래핀 층의 전사방법
13 13
제 1 항에 있어서,상기 점착 층과 상기 예비 전극 층 사이의 계면은 1 나노미터 이하의 표면 거칠기를 갖도록 형성되는 그래핀 층의 전사방법
14 14
기판 상에 제 1 전극 층을 형성하는 단계;상기 제 1 전극 층 상에 제 1 전하 주입 층 및 제 1 전하 수송 층을 형성하는 단계;상기 제 1 전하 수송 층 상에 발광 층을 형성하는 단계;상기 발광 층 상에 제 2 전하 수송 층 및 제 2 전하 주입 층을 형성하는 단계; 및상기 제 2 전하 주입 층 상에 제 2 전극 층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 제 2 전극 층을 형성하는 단계는:제 1 기판 상에 자기조립 단 분자 층을 형성하는 단계;상기 자기조립 단 분자 층 상에 점착 층과 지지 층을 형성하는 단계;상기 제 1 기판과 상기 자기조립 단 분자 층을 제거하여 상기 점착 층을 노출하는 단계;상기 점착 층 상에 예비 전극 층을 형성하는 단계; 및상기 예비 전극 층을 상기 제 2 전하 주입 층 상에 전사하여 상기 제 2 전극 층을 형성 단계를 포함하되,상기 점착 층과 상기 지지 층의 형성 단계는:상기 지지 층 상에 더미 점착 층을 제공하는 단계; 및상기 더미 점착 층과 상기 자기조립 단 분자 층 사이에 점착 제를 제공하여 상기 점착 층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 예비 전극 층은 전사방법으로 형성된 그래핀 층을 포함하는 유기발광소자의 제조방법
15 15
제 14 항에 있어서,상기 제 2 전극 층은 상기 지지 층 및 상기 점착 층의 양측 방향으로의 신축에 의해 1나노미터 이하의 표면 거칠기를 갖도록 형성되는 유기발광소자의 제조방법
16 16
제 14 항에 있어서,상기 제 2 전극 층은 상기 제 2 전하 주입 층에 등각 접촉방법으로 형성되는 유기발광소자의 제조방법
17 17
기판 상에 제 1 전극 층을 형성하는 단계;상기 제 1 전극 층을 노출하는 트렌치들을 갖는 제 1 층간 유전 층을 형성하는 단계; 상기 제 1 층간 유전 층과 상기 제 1 전극 층 상에 상기 트렌치를 따라 제 1 전하 주입 층, 제 1 전하 수송 층, 발광 층, 제 2 전하 수송 층, 및 제 2 전하 주입 층을 형성하는 단계; 및상기 제 2 전하 주입 층 상에 제 2 전극 층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 제 2 전극 층을 형성하는 단계는:제 1 기판 상에 자기조립 단 분자 층을 형성하는 단계;상기 자기조립 단 분자 층 상에 점착 층과 지지 층을 형성하는 단계;상기 제 1 기판과 상기 자기조립 단 분자 층을 제거하여 상기 점착 층을 노출하는 단계;상기 점착 층 상에 예비 전극 층을 형성하는 단계; 및상기 예비 전극 층을 상기 제 2 전하 주입 층 상에 전사하여 상기 제 2 전극 층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 예비 전극 층은 전사방법으로 형성된 그래핀 층을 포함하는 표시장치의 제조방법
18 18
제 17 항에 있어서,상기 트렌치는 상기 제 1 전극 층의 상부면에 대해 7도 내지 22
19 19
제 17 항에 있어서,상기 제 2 전극 층은 상기 트렌치 내에서의 상기 지지 층 및 상기 점착 층의 신축에 의해 1나노미터 이하의 표면 거칠기를 갖도록 형성되는 표시장치의 제조 방법
20 20
제 17 항에 있어서,상기 제 2 전극 층은 상기 제 2 전하 주입 층에 등각 접촉방법으로 형성되는 표시장치의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국전자통신연구원 ETRI연구개발지원사업 미래광고 서비스를 위한 에너지절감형 환경적응 I/O (Input/Output) 플랫폼 기술 개발