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기재에 형성된 전도성 탄소 필름을 포함하며, 상기 전도성 탄소 필름에 세포를 부착시켜 배양시키기 위한, 세포 배양용 전도성 탄소 필름으로서,상기 전도성 탄소 필름은 플라즈마 존재 하에서 탄소 타겟에 1 W/cm2 내지 50 W/cm2의 전력밀도를 인가하여 스퍼터링에 의하여 제조됨으로써 상기 전도성 탄소 필름의 sp2 결합의 비율이 향상되어, 상기 전도성 탄소 필름의 전도성은 0
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제 1 항에 있어서,상기 기재는 Si 웨이퍼, 유리, 폴리머, 또는 금속을 포함하는 것인, 세포 배양용 전도성 탄소 필름
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제 1 항에 있어서,상기 세포는 L-929, 스템세포, 또는 신경세포를 포함하는 것인, 세포 배양용 전도성 탄소 필름
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 플라즈마는 Ar을 함유하는 것인, 세포 배양용 전도성 탄소 필름
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제 5 항에 있어서, 상기 플라즈마는 N2, H2, O2, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 추가 포함하는 것인, 세포 배양용 전도성 탄소 필름
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제 1 항에 있어서, 상기 전도성 탄소 필름은 다공성인, 세포 배양용 전도성 탄소 필름
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제 1 항에 있어서, 상기 전도성 탄소 필름의 두께는 5 nm 내지 1000 nm인, 세포 배양용 전도성 탄소 필름
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기재에 형성된 전도성 탄소 필름을 멸균처리하고; 및 상기 멸균처리된 전도성 탄소 필름에 세포를 부착하여 배양시키는 것을 포함하는, 세포 배양 방법으로서,상기 전도성 탄소 필름은 플라즈마 존재 하에서 탄소 타겟에 1 W/cm2 내지 50 W/cm2의 전력밀도를 인가하여 스퍼터링에 의하여 제조됨으로써 상기 전도성 탄소 필름의 sp2 결합의 비율이 향상되어, 상기 전도성 탄소 필름의 전도성은 0
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제 9 항에 있어서, 상기 전도성 탄소 필름은 다공성인, 세포 배양 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 전도성 탄소 필름의 두께는 5 nm 내지 1,000 nm인, 세포 배양 방법
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