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탄화붕소(BC)층과 탄화규소(SiC)층이 교대로 반복적으로 적층된 구조를 갖고,제1 탄화붕소(BC)층, 제1 탄화규소(SiC)층, 제2 탄화붕소(BC)층, 제2 탄화규소(SiC)층의 순서로 적층된, 초경도 탄화붕소 박막
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제1항에 있어서,상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층과 상기 제1 탄화규소층 및 제2 탄화규소층은 각각 1 이상 내지 10 이하의 나노미터(nm)의 두께를 갖는, 초경도 탄화붕소 박막
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제1항에 있어서,상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화규소층은 각각 상기 제1 탄화규소층 및 제2 탄화붕소층의 산화 방지층의 역할을 하는, 초경도 탄화붕소 박막
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제1항에 있어서, 적어도 40 GPa이상의 초경도 값을 갖는, 초경도 탄화붕소 박막
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제1항에 있어서, 상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층은 비정질 형태의 결정구조를 갖는, 초경도 탄화붕소 박막
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제1항에 있어서, 절삭 공구 또는 내마모 공구의 코팅 재료로 사용하는, 초경도 탄화붕소 박막
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제1항 내지 제5항의 어느 하나의 항에 따르는 초경도 탄화붕소 박막을 코팅층으로 이용하는 절삭 공구
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기판 상에 제1 탄화붕소(BC)층을 증착하는 단계;상기 제1 탄화붕소층 상에 제1 탄화규소층(SiC)을 증착하는 단계;상기 제1 탄화규소층(SiC)에 제2 탄화붕소층을 증착하는 단계; 및상기 제2 탄화붕소층 상에 제2 탄화규소층(SiC)을 증착하는 단계를 포함하는, 초경도 탄화붕소 박막의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층을 증착하는 단계 및 상기 제1 탄화규소층 및 제2 탄화규소층을 증착하는 단계는,상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층과 상기 제1 탄화규소층 및 제2 탄화규소층을 각각 1 이상 내지 10 이하의 나노미터(nm) 두께로 증착하는, 초경도 탄화붕소 박막의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층을 증착하는 단계 및 상기 제1 탄화규소층 및 제2 탄화규소층을 증착하는 단계는,비대칭 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하는, 초경도 탄화붕소 박막의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층을 증착하는 단계 및 상기 제1 탄화규소층 및 제2 탄화규소층을 증착하는 단계는,기판의 회전속도를 조절하여 상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층과 상기 제1 탄화규소층 및 제2탄화규소층의 두께를 조절하는, 초경도 탄화붕소 박막의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 제1 탄화붕소층 및 제2 탄화붕소층을 증착하는 단계 및 상기 제1 탄화규소층 및 제2 탄화규소층을 증착하는 단계는,증착조건은 증착압력 3 mtorr, 타겟출력 직류전원 200 W, 기판 바이어스 전압 -100 V인 및 증착온도는 250 oC 이상 450 oC 이하의 범위인, 초경도 탄화붕소 박막의 제조방법
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