| 1 |
1
그래핀계 배리어 필름의 제조 방법으로서,금속 촉매층 상에 제1 화학 기상 증착 공정을 수행하여 예비 그래핀층을 형성하는 단계(S10); 상기 예비 그래핀층에 제2 화학 기상 증착 공정을 수행하여 상기 예비 그래핀층을 그래핀층으로 변환시키는 단계(S20); 상기 그래핀층 상에 고분자 보호막을 형성하는 단계(S30);상기 그래핀층의 일면으로부터 상기 금속 촉매층을 제거하는 단계(S40); 및상기 금속 촉매층이 제거된 상기 그래핀층을 대상 기판에 전사시켜 그래핀계 배리어필름을 형성하는 단계(S50);를 포함하는 그래핀계 배리어필름의 제조 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 제1 화학 기상 증착 공정 및 제2 화학 기상 증착 공정은 각각 100 mtorr 내지 760 mtorr 범위의 압력 및 600 내지 1,100℃ 범위의 온도 조건 하에서 수행되는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 제1 화학 기상 증착 공정은 탄소 전구체 및 반응 가스를 포함하는 제1 혼합 가스를 공급하고 열처리하는 공정을 통해 수행되고, 상기 제1 혼합 가스는 상기 반응 가스 100 중량부를 기준으로 상기 탄소 전구체 0
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 제2 화학 기상 증착 공정은 탄소 전구체 및 반응 가스를 포함하는 제2 혼합 가스를 공급하고 열처리하는 공정을 통해 수행되고, 상기 제2 혼합 가스는 상기 반응 가스 100 중량부를 기준으로 상기 탄소 전구체 10 내지 50 중량부를 포함하는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 5 |
5
제3항 또는 제4항에 있어서,상기 탄소 전구체는 일산화탄소, 이산화탄소, 메탄, 에탄, 에틸렌, 에탄올, 아세틸렌, 프로판, 부탄, 부타디엔, 펜탄, 펜텐, 사이클로펜타디엔, 헥산, 사이클로헥산, 벤젠 및 톨루엔으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 6 |
6
제3항 또는 제4항에 있어서,상기 반응 가스는 아르곤, 질소, 수소, 암모니아, 헬륨 및 이들의 혼합 가스로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 금속 촉매층 상에 제1 화학 기상 증착 공정을 수행하기 이전에,상기 금속 촉매층 상의 표면을 전처리하는 단계를 더 포함하는 그래핀계 배리어필름의 제조 방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 금속 촉매층은 니켈(Nickel), 팔라듐(Palladium), 플래티늄(Platinum), 카퍼(Copper), 타이타늄(Titanium), 루테늄(Ruthenium), 크롬(Chromium), 철(Iron), 알루미늄(Aluminium), 은(Silver) 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하고,상기 금속 촉매층은 100 nm 내지 100 μm의 두께를 갖는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 고분자 보호막은 폴리메틸메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate), 폴리다이메틸실록세인(polydimethylsiloxane), 폴리비닐알코올(polyvinyl alcohol) 및 폴리비닐피로리돈(polyvinylpyrrolidone)로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 그래핀계 배리어필름의 제조 방법
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 대상 기판은 폴리이미드(PI), 폴리에테르설폰(PES), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리염화비닐(PVC) 및 폴리카보네이트(PC)로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 그래핀층을 상기 대상 기판에 전사시킨 이후에,상기 고분자 보호막을 상기 그래핀층으로부터 박리시키는 것을 더 포함하는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 12 |
12
그래핀계 배리어 필름의 제조 방법으로서,금속 촉매층 상에 제1 화학 기상 증착 공정을 수행하여 예비 그래핀층을 형성하는 단계(S100); 상기 예비 그래핀층에 제2 화학 기상 증착 공정을 수행하여 상기 예비 그래핀층을 그래핀층으로 변환시키는 단계(S200); 상기 그래핀층 상에 고분자 보호막을 형성하는 단계(S300);상기 그래핀층의 일면으로부터 상기 금속 촉매층을 제거하는 단계(S400); 무기 박막층을 대상 기판에 형성하는 단계(S500); 및상기 금속 촉매층이 제거된 상기 그래핀층을 상기 대상 기판 상에 형성된 무기 박막층에 전사시켜 그래핀계 배리어필름을 형성하는 단계(S600);를 포함하는 그래핀계 배리어필름의 제조 방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 무기 박막층을 형성하는 단계는, 규소 산화물 및 규소 질화물로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 무기 재료를 증착하는 공정을 통해 수행되는 것인 그래핀계 배리어필름의 제조 방법
|
| 14 |
14
제13항에 있어서,상기 무기 재료를 증착하는 공정은, 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 열증착(Thermal evaporation) 및 펄스 레이저 증착(Pulsed Laser Deposition)으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 공정을 통해 수행되는 것인 그래핀계 배리어필름의 제조 방법
|
| 15 |
15
제12항에 있어서,상기 제1 화학 기상 증착 공정 및 제2 화학 기상 증착 공정은 각각 100 mtorr 내지 760 mtorr 범위의 압력 및 600 내지 1,100℃ 범위의 온도 조건 하에서 되는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
| 16 |
16
제12항에 있어서,상기 제1 화학 기상 증착 공정은 탄소 전구체 및 반응 가스를 포함하는 제1 혼합 가스를 공급하고 열처리하는 공정을 통해 수행되고, 상기 제1 혼합 가스는 상기 반응 가스 100 중량부를 기준으로 상기 탄소 전구체 0
|
| 17 |
17
제12항에 있어서,상기 제2 화학 기상 증착 공정은 탄소 전구체 및 반응 가스를 포함하는 제2 혼합 가스를 공급하고 열처리하는 공정을 통해 수행되고, 상기 제2 혼합 가스는 상기 반응 가스 100 중량부를 기준으로 상기 탄소 전구체 10 내지 50 중량부를 포함하는 그래핀계 배리어 필름의 제조 방법
|
