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규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법(METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE FORMED REGULARLY ARRANGED NANO CHANNEL)

  • 기술번호 : KST2016014629
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법은 서로 다른 제1중합체와 제2중합체를 혼합하여 혼합물을 제조하는 혼합물 제조단계; 상기 혼합물을 기판에 적층하여 블록공중합체 박막이 형성된 구조체를 제조하는 박막 형성단계; 상기 제2중합체가 상기 제1중합체 상에서 규칙적으로 배열되도록 상기 구조체를 열처리하여 상기 블록공중합체가 자기조립하는 열처리 단계; 상기 제2중합체에 금속 이온을 결합시켜 나노 클러스트를 형성하는 결합단계; 상기 금속 이온과 결합되지 않은 블록공중합체를 제거하는 제거단계; 상기 나노 클러스트가 상기 기판을 관통하여 하방으로 이동함으로써 상기 기판 상에 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성되도록 에칭하는 에칭단계;를 포함하는 것을 특징으로 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 습식식각을 이용하되 실리콘 기판 상에 수직한 방향으로 규칙적으로 배열되며 종횡비가 우수한 나노 채널이 형성되는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법이 제공된다.
Int. CL H01L 21/306 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01) B82B 3/0014(2013.01)
출원번호/일자 1020150016212 (2015.02.02)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1650268-0000 (2016.08.16)
공개번호/일자 10-2016-0095288 (2016.08.11) 문서열기
공고번호/일자 (20160830) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.02.02)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김정환 대한민국 대전광역시 유성구
2 유영은 대한민국 서울 강남구
3 윤재성 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.02.02 수리 (Accepted) 1-1-2015-0111315-68
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.09.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0058304-31
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.02.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0111151-58
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0345988-75
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2016-0345951-97
7 등록결정서
Decision to grant
2016.06.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0413633-58
8 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2016.08.01 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2016-0746239-46
9 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2016.08.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0123472-71
10 [반려요청]서류반려요청(반환신청)서
[Request for Return] Request for Return of Document
2016.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0801171-65
11 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2016.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0125637-54
12 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2016.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0892992-33
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
서로 다른 제1중합체와 제2중합체를 혼합하여 혼합물을 제조하는 혼합물 제조단계;상기 혼합물을 기판에 적층하여 블록공중합체 박막이 형성된 구조체를 제조하는 박막 형성단계;상기 제2중합체가 상기 제1중합체 상에서 규칙적으로 배열되도록 상기 구조체를 열처리하여 상기 블록공중합체가 자기조립되는 열처리 단계;상기 제2중합체에 금속 이온을 결합시켜 나노 클러스트를 형성하는 결합단계;상기 블록공중합체를 제거하는 제거단계;상기 나노 클러스트가 상기 기판을 관통하여 하방으로 이동함으로써 상기 기판 상에 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성되도록 에칭하는 에칭단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 기판은 실리콘 기판이며, 상기 혼합물은 상기 기판 상에 스핀 캐스팅(spin casting)되는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
3 3
제2항에 있어서,상기 제1중합체는 폴리스티렌(polystyrene,PS)이며, 상기 제2중합체는 폴리(4-비닐피리딘)(poly(4-vinylpyridine),P4VP)인 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
4 4
제3항에 있어서,상기 블록공중합체는 폴리스티렌-블록-폴리(4-비닐피리딘)(polystyrene-b-poly(4-vinylpyridine),PSb-P4VP)인 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
5 5
제1항에 있어서,상기 열처리 단계는 상기 구조체를 용매 어닐링(Solvent annealing)하여 상기 블록공중합체가 자기조립 되는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
6 6
제5항에 있어서,상기 용매 어닐링은 톨루엔과 테트라하이드로퓨란 혼합 용매를 이용하는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
7 7
제1항에 있어서,상기 결합단계는 시안화철(Fe(CN)63-) 및 염화백금(PtCl42-) 이 포함된 용액에 상기 블록공중합체를 침지시키는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
8 8
제1항에 있어서,상기 결합단계는 금 이온(Au3+)이 함유된 용액에 상기 블록공중합체를 침지시키는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
9 9
제1항에 있어서,상기 제거단계는 상기 블록공중합체를 산소 플라즈마 처리하는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
10 10
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 에칭단계는, 상기 결합단계에서 결합되어 생성된 금속층이 촉매가 되며, 상기 구조체가 식각액에 침지되어 에칭되는 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
11 11
제10항에 있어서,상기 식각액은 과산화수소/불화수소가 포함된 혼합액인 것을 특징으로 하는 규칙적으로 배열되는 나노채널이 형성된 구조물 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국기계연구원 자체연구 고종횡비 나노채널 표면 초박막코팅 기술
2 교육과학기술부 한국기계연구원 미래부-국가연구개발사업(III) 나노채널기반 고효율 물분자 이송 융합시스템 기술 (3/3)