| 1 |
1
몰드-기반 리소그래피를 이용하여 마이크로 구조체를 형성하는 단계; 및대기압 플라즈마 에칭을 이용하여 상기 마이크로 구조체 표면에 나노 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 몰드-기반 리소그래피는 복제 성형(replica molding), 나노 임프린트 리소그래피(nanoimprint lithography), 롤투롤(roll-to-roll) 임프린트 공정을 포함하는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 마이크로 구조체를 형성하는 단계는광경화성 실리콘 화합물, 광경화성 유기 화합물, 및 광 개시제가 혼합된 광경화성 조성물을 기판 상에 도포하는 단계;마이크로 패턴을 포함하는 마스터 몰드로 상기 광경화성 조성물을 가압하는 단계; 및가압된 상기 광경화성 조성물에 광을 조사하여 광경화된 패턴으로 구성된 상기 마이크로 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 광경화성 실리콘 화합물은실세스퀴옥산 아크릴레이트, 실세스퀴옥산 메타크릴레이트, 실세스퀴옥산 비닐, 실세스퀴옥산 옥세탄, 실세스퀴옥산 글리시딜 에테르, 실세스퀴옥산 에폭시, 실리콘화 실세스퀴옥산 아크릴레이트(Si-SSQA), 실리콘화 실세스퀴옥산 메타크릴레이트, 실리콘화 실리콘화 실세스퀴옥산 비닐, 실리콘화 실세스퀴옥산 옥세탄, 실리콘화 실세스퀴옥산 글리시딜 에테르, 실리콘화 실세스퀴옥산 에폭시, 실리콘 아크릴 레이트(silicone acrylate), 실리콘 메타크릴레이트, 실리콘 비닐, 실리콘 옥세탄, 실리콘 글리시딜 에테르, 실리콘 에폭시 중 어느 하나를 포함하며,단관능성, 이관능성, 삼관능성, 다관능성 실리콘 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 5 |
5
제 3 항에 있어서,상기 광경화성 유기 화합물은아크릴레이트, 메타크릴레이트, 비닐, 글리시딜 에테르, 에폭시, 옥세탄 등의 관능기를 가지며,단관능성, 이관능성, 삼관능성, 다관능성 모노머 또는 폴리머를 적어도 1종 포함하는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 마이크로 구조체는 광경화성 실리콘 화합물 및 광경화성 유기 화합물의 혼합물로 형성되는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 광경화성 실리콘 화합물의 농도를 조절하여, 상기 대기압 플라즈마 에칭에 의해 형성된 상기 나노 구조체에 의한 상기 마이크로 구조체의 표면 거칠기를 조절하는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 대기압 플라즈마 에칭의 횟수를 조절하여, 상기 대기압 플라즈마 에칭에 의해 형성된 상기 나노 구조체에 의한 상기 마이크로 구조체의 표면 거칠기를 조절하는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 9 |
9
제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체 및 상기 마이크로 구조체를 포함하는 계층 구조는 초친수성 표면을 갖는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
| 10 |
10
제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체 및 상기 마이크로 구조체를 포함하는 계층 구조는 초소수성 표면을 갖는 마이크로-나노 계층 구조 형성방법
|
