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마이크로미터 단위의 그루브 패턴 상에 고분자-세라믹 하이브리드 코팅층이 형성된 마그네슘 함유 기재 및 이의 제조방법(A substrate comprising magnesium with polymer-ceramic hybrid coating layer on micro-scale groove pattern and a preparation method therof)

  • 기술번호 : KST2016018288
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마이크로미터 단위의 그루브 패턴이 형성된 마그네슘 함유 기재; 상기 그루브 패턴의 함몰부에 형성된 고분자 코팅층; 및 상기 그루브 패턴의 돌출부에 형성된 인산계 세라믹 코팅층을 포함하는, 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL A61L 27/58 (2006.01) A61L 27/04 (2006.01) A61L 27/32 (2006.01) A61L 27/34 (2006.01)
CPC A61L 27/34(2013.01) A61L 27/34(2013.01) A61L 27/34(2013.01) A61L 27/34(2013.01)
출원번호/일자 1020160045089 (2016.04.12)
출원인 서울대학교산학협력단, 주식회사 제노스
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0122658 (2016.10.24) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020150052052   |   2015.04.13
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.04.12)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
2 주식회사 제노스 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김현이 대한민국 서울특별시 서초구
2 이성미 대한민국 경기도 용인시 수지구
3 정인권 대한민국 경기도 수원시 영통구
4 천광희 대한민국 인천광역시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교 산학협력단 서울특별시 관악구
2 주식회사 제노스 경기도 수원시 영통구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-0353210-16
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.12.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.02.10 수리 (Accepted) 9-1-2017-0003759-93
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.07.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0482258-70
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.09.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0879842-88
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2017-0879841-32
7 등록결정서
Decision to grant
2017.09.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0644237-77
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
마이크로미터 단위의 그루브 패턴이 형성된 마그네슘 함유 기재;상기 그루브 패턴의 함몰부에 형성된 고분자 코팅층; 및상기 그루브 패턴의 돌출부에 형성된 인산계 세라믹 코팅층을 포함하는, 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재
2 2
제1항에 있어서,상기 마그네슘 함유 기재는 마그네슘 함량이 90 중량% 이상인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재
3 3
제1항에 있어서,상기 마그네슘 함유 기재는 아연, 망간, 칼슘, 지르코늄, 이트륨, 몰리브데늄, 니오븀, 탄탈륨, 티타늄, 스트론튬, 크롬, 규소, 인, 니켈 및 철로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속을 추가로 포함하는 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재
4 4
제1항에 있어서,상기 마이크로미터 단위의 그루브 패턴은 폭 10 μm 내지 100 μm, 깊이 10 μm 내지 100 μm, 및 간격 5 μm 내지 100 μm의 규모를 갖는 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재
5 5
제4항에 있어서,상기 마이크로미터 단위의 그루브 패턴의 깊이는 마그네슘 함유 기재의 총 두께의 1/10을 초과하지 않는 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재
6 6
제1항에 있어서,상기 고분자는 폴리에테르이미드(polyetherimide; PEI), 폴리-ε-카프로락톤(poly-ε-caprolactone; PCL), 키토산(chitosan), 폴리락트산(polylactic acid; PLA), 폴리글리콜산(polyglycolic acid; PGA), 폴리-ε-카프로락톤-락트산 공중합체(PCLA), 폴리-ε-카프로락톤-글리콜산 공중합체(PCGA), 폴리락트산-글리콜산 공중합체(PLGA), 폴리에틸렌글리콜(polyethylene glycol; PEG), 폴리디옥사논(polydioxanone; PDO), 폴리트리메틸렌카보네이트(poly(trimethylene carbonate); PTMC), 폴리아미노산(poly(amino acid)), 폴리안하이드라이드(polyanhydride), 폴리오르쏘에스테르(polyorthoester), 폴리포스파진(polyphosphazene), 폴리이미노카보네이트(polyiminocarbonate), 폴리포스포에스테르(polyphosphoester), 폴리히드록시발레레이트(polyhydroxyvalerate), 및 이들의 단량체의 공중합체로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재
7 7
제1항에 있어서,상기 인산계 세라믹은 히드록시아파타이트(hydroxyapatite; HA)인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재
8 8
마이크로미터 단위의 그루브 패턴이 형성된 마그네슘 함유 기재를 준비하는 제1단계;상기 마그네슘 함유 기재의 그루브 패턴의 형성된 면에 고분자 용액을 스핀코팅 하여 그루브 패턴의 함몰부에 고분자 코팅층을 도입하는 제2단계; 및상기 고분자 코팅층을 도입한 마그네슘 함유 기재를 칼슘 이온을 포함하는 용액과 인산계 화합물을 포함하는 용액의 혼합 용액을 처리하여 인산계 세라믹을 석출시켜 그루브 패턴의 돌출부에 인산계 세라믹 코팅층을 형성하는 제3단계를 포함하는,제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
9 9
제8항에 있어서,상기 고분자 용액은 5 내지 15 중량% 농도인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
10 10
제8항에 있어서,상기 고분자는 폴리에테르이미드, 폴리-ε-카프로락톤, 폴리락트산, 폴리글리콜산, 폴리-ε-카프로락톤-락트산 공중합체, 폴리-ε-카프로락톤-글리콜산 공중합체 또는 폴리락트산-글리콜산 공중합체인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
11 11
제8항에 있어서,상기 고분자 용액의 용매는 N-메틸-2-피롤리돈, 클로로포름 또는 테트라하이드로퓨란인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
12 12
제8항에 있어서,상기 스핀코팅은 3000 rpm 내지 5000 rpm의 회전속도로 수행하는 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
13 13
제8항에 있어서,상기 칼슘 이온을 포함하는 용액은 에틸렌디아민테트라아세트산-칼슘나트륨염 용액이고, 인산계 화합물을 포함하는 용액은 포타슘 디하이드로젠 포스페이트 용액인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
14 14
제13항에 있어서,상기 에틸렌디아민테트라아세트산-칼슘나트륨염 용액 및 인산계 화합물을 포함하는 용액은 각각 독립적으로 0
15 15
제8항에 있어서,상기 제3단계는 혼합 용액의 pH를 7
16 16
제13항에 있어서,석출되는 인산계 세라믹은 히드록시아파타이트인 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
17 17
제8항에 있어서,상기 제3단계는 80℃ 내지 100℃에서 1 내지 5시간 동안 수행하는 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
18 18
제8항에 있어서,마그네슘 함유 기재의 그루브 패턴의 돌출부와 인산계 세라믹은 화학적으로 결합된 것인 부식저항성이 향상된 마그네슘 함유 기재의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.