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0차원 탄소나노물질 및 1차원 탄소나노물질 중에서 선택된 적어도 하나의 탄소나노물질과 2차원 탄소나노물질이 균일하게 분산된 폴리아믹산 필름층의 이미드화 과정을 거쳐 형성되어 다차원 복합 탄소나노물질이 내장되고,상기 0차원 탄소나노물질의 입자크기는 0
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제1항에 있어서,상기 0차원 탄소나노물질은, 상기 폴리이미드 필름의 내부에 균일하게 내장되고, 케첸 블랙(ketjen black), 덴카 블랙(denka black), 아세틸렌 블랙(acetylene black), 슈퍼-p(Super-p) 및 플러렌(Fullerene) 중에서 선택된 하나 이상으로 구성되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제1항에 있어서,상기 1차원 탄소나노물질은, 상기 폴리이미드 필름의 내부에 균일하게 내장되고, 단일벽 탄소나노튜브(single-wall carbon nanotube, SWNT), 다중벽 탄소나노튜브(multi-wall carbon nanotube, MWNT) 및 탄소나노섬유(carbon nanofiber) 중에서 선택된 하나 이상으로 구성되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제1항에 있어서,상기 2차원 탄소나노물질은, 상기 폴리이미드 필름의 내부에 균일하게 내장되고, 비산화그래핀, 산화그래핀(graphene oxide), 환원처리된 산화그래핀(reduced graphene oxide), 도핑된 그래핀(doped graphene) 및 탄소나노리본(carbon nanoribbon) 중에서 선택된 하나 이상으로 구성되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제1항에 있어서,무기물 박막층을 300 ℃의 온도에서 증착하여 치밀한 박막 구조를 갖는 보호막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제1항에 있어서,0
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제1항에 있어서,상기 폴리아믹산 필름층의 제조에 사용되는 무수물은, 폴리아믹산을 합성 가능한 무수물로, ODPA (4,4'-Oxydiphthalic Dianhydride), PMDA (pyromellitic dianhydride), DSDA (3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracar-boxylic dianhydride), BPDA (4'-biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride), BPADA (4,4'-(4,4'-isopropylidenediphenoxy) bis(phthalic anhydride)), 6FDA (4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride), BTDA (4,4'-Benzophenonetetracarboxylic Dianhydride), CBDA (1,2,3,4-cyclobutanetetracaroxylic dianhydride) 및 CHDA (1,4-cyclohexanedicarboxylic acid) 중에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제1항에 있어서,상기 폴리아믹산 필름층의 제조에 사용되는 아민은, 폴리아믹산을 합성 가능한 아민으로, M-BAPB (3,3'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl), p-BAPB (1,3-Bis(3-aminophenoxy)benzene), BAHFP (2,2-bis(4-aminophenyl) hexafluoropropane), m-BAPS (meta-amino-bis metabisaminophenoxy diphenyl sulfone), APS (ammonium persulfate), BAPF ((9-Fluorenylidene)dianiline), p-BAPS (para-amino-bis metabisaminophenoxy diphenyl sulfone), BAMF (2,2`-bis(3-amino-4-methylphenyl)hexafluoropropane) 및 TFB (2,2`-bis(trifluoromethyl)benzidine) 중에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제1항에 있어서,상기 폴리아믹산 필름층의 제조에 사용되는 용매는, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone, 1,3-dimethyl-5-imidazolidinone, N,N-dimethylformamide, 1,1,3,3-tetramethylurea, N-cyclohexylpyrrolidinone 중 어느 하나에 의해서 무수물 및 아민을 녹이는 것이 가능한 용매인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제7항에 있어서, 상기 무기물 박막층은 SiO2, SiN, MgO, ZnO, SnO2, WO3, Fe2O3, Fe3O4, NiO, TiO2, ZrO2, Al2O3, B2O3, Cr3O4, Cr2O3, CeO2, Nd2O3, Sm2O3, Eu2O3, Gd2O3, Tb4O7, Dy2O3, Er2O3, Yb2O3 및 Lu2O3 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름
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제1항, 제2항, 제4항, 제6항, 제7항 또는 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항의 폴리이미드 필름을 포함하는 유연 기판
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제1항, 제2항, 제4항, 제6항, 제7항 또는 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항의 폴리이미드 필름을 포함하는 산소 및 수분 차단 보호막
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복합 탄소나노물질이 내장된 폴리이미드 필름의 제조방법에 있어서, (a) 무수물과 아민의 교반으로 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계;(b) 0차원 탄소나노물질 및 1차원 탄소나노물질 중에서 선택된 적어도 하나의 탄소나노물질과 2차원 탄소나노물질을 계면활성제를 이용하여 용매에 분산시킨 후, 폴리아믹산 용액과 혼합하여 탄소나노물질이 분산된 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계;(c) 상기 폴리아믹산 용액을 유리기판 위에 코팅하는 단계;(d) 상기 폴리아믹산 용액이 코팅된 유리기판에 대한 열처리과정을 통해 다차원 복합 탄소나노물질이 균일하게 내장된 폴리이미드 필름을 제조하는 단계를 포함하고,상기 0차원 탄소나노물질의 입자크기는 0
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제16항에 있어서, 상기 (c) 단계는,스핀 코팅법의 공정을 이용하여 회전 속도와 스핀 시간을 조절하여 폴리이미드 막의 두께를 제어하는 것을 특징으로 하는 다차원 복합 탄소나노물질이 내장된 폴리이미드 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 (c) 단계는,스핀 코팅법, 및 스크린 프린팅 코팅 법 중에서 선택된 하나의 공정을 이용하여 상기 폴리아믹산 용액을 상기 유리기판상에 코팅하는 것을 특징으로 하는 다차원 복합 탄소나노물질이 내장된 폴리이미드 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 열처리과정은 상기 유리기판상에 상기 폴리아믹산 용액을 코팅하여 생성된 폴리아믹산 막을 300 ℃의 온도에서 열처리하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 다차원 복합 탄소나노물질이 내장된 폴리이미드 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 계면활성제는, sodium dodecylsulfate, sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium myreth sulfate, dioctyl sodium sulfosuccinate, perfluorooctanesulfonate, perfluorobutanesulfonate, octenidine dihydrochloride, cetyl trimethylammonium bromide , cetyl trimethylammonium chloride , cetylpyridinium chloride, benzalkonium chloride, benzethonium chloride, 5-Bromo-5-nitro-1,3-dioxane, dimethyldioctadecylammonium chloride, cetrimonium bromide, dioctadecyldimethylammonium bromide 및 Triton-X 중 적어도 하나의 계면활성제를 포함하고, 친수성 친유성 평형(hydrophile lipophile balance) 값에서 분산제로 사용되는 범위인 7 ~ 9 HLB 값을 갖는 것을 특징으로 하는 다차원 복합 탄소나노물질이 내장된 폴리이미드 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 선택된 둘 이상의 탄소나노물질의 첨가량은, 상기 폴리아믹산 용액 대비 0
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제16항에 있어서,(f) 상기 유리기판으로부터 상기 폴리이미드 필름을 분리하는 단계를 더 포함하고,상기 폴리이미드 필름은 상기 0차원 탄소나노물질 및 1차원 탄소나노물질 중에서 선택된 적어도 하나의 탄소나노물질과 2차원 탄소나노물질이 상기 폴리이미드 필름의 내부에 고르게 내장되어 수분과 산소에 차단력을 갖는 것을 특징으로 하는 다차원 복합 탄소나노물질이 내장된 폴리이미드 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 폴리이미드 필름은 무기물 박막층을 300 ℃의 온도에서 증착하여 치밀한 박막 구조를 갖는 보호막을 더 포함하고,상기 무기물 박막층은 SiO2, SiN, MgO, ZnO, SnO2, WO3, Fe2O3, Fe3O4, NiO, TiO2, ZrO2, Al2O3, B2O3, Cr3O4, Cr2O3, CeO2, Nd2O3, Sm2O3, Eu2O3, Gd2O3, Tb4O7, Dy2O3, Er2O3, Yb2O3 및 Lu2O3 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 다차원 복합 탄소나노물질이 내장된 폴리이미드 필름의 제조방법
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