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자발적 카이랄 대칭파괴를 이용한 물리적 복제방지용 구조체 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2023003291
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자발적 카이랄 대칭파괴를 이용한 물리적 복제방지용 구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 카이랄 대칭파괴가 발생하는 카이랄 광결정을 이용하여 복제 불가능하며 광학 현미경 및 휴대폰 카메라로 관찰 가능한 카이랄 랜덤 패턴을 형성하고, 이를 물리적 복제 방지 기술(Physical unclonable function, PUF)에 이용함으로써 재현성(reproducibility), 독창성(uniqueness), 높은 정보 밀도, 높은 인식률, 예측 불가능성(unpredictability), 재구성 가능성(reconfigurability)과 같은 특성에서 높은 성능을 보임과 동시에 높은 정보 밀도와 보안성을 가질 수 있고, 기존의 포토리소그래피(photo-lithography) 방법을 통해 원하는 패턴을 제작할 수 있다.
Int. CL C09K 19/24 (2006.01.01) C09K 19/02 (2006.01.01) C08J 5/18 (2006.01.01) C08K 5/23 (2006.01.01) G02B 5/30 (2022.01.01) B82Y 10/00 (2017.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01)
CPC C09K 19/24(2013.01) C09K 19/02(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08K 5/235(2013.01) G02B 5/3016(2013.01) C09K 2219/01(2013.01) B82Y 10/00(2013.01) B82Y 40/00(2013.01)
출원번호/일자 1020220161465 (2022.11.28)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0092744 (2023.06.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020210181789   |   2021.12.17
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.12.16)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤동기 대전광역시 유성구
2 박건형 대전광역시 유성구
3 박혜원 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장제환 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)
2 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2022-1271272-66
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2022.12.16 수리 (Accepted) 1-1-2022-1358381-07
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2023-5023571-05
4 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.05.04 수리 (Accepted) 4-1-2023-5110236-33
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번호 청구항
1 1
굽은형 액정분자가 자기조립에 의해 꼬인 층상 구조로 성장되어 있는 나선형 나노필라멘트((helical nanofilament, HNF)를 랜덤 패턴화시켜 수득된 HNF 광결정 구조체
2 2
제1항에 있어서, 상기 굽은형 액정분자는 아조벤젠-다이머, 화학식 1의 MHOBOW 및 화학식 2의 NOBOW로 구성된 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체
3 3
제2항에 있어서, 상기 아조벤젠-다이머는 화학식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체:[화학식 3]화학식 3에서 L은 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬렌기, 사이클로알킬렌기, 할로알킬렌기, 아릴렌기, 헤테로아릴렌기, 아릴렌알킬렌기, 알킬렌아릴렌기, 알킬렌헤테로아릴렌기, 헤테로아릴렌알킬렌기, 알킬렌 에스테르기 또는 알킬렌 아마이드기이고, 헤테로아릴렌기는 불소, 산소, 황 및 질소 중에서 선택된 헤테로원자를 함유하는 2가 라디칼이며,R1 및 R2는 각각 독립적으로 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬기, 사이클로알킬기, 할로알킬기, 알콕시기, 사이클로알콕시기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아릴옥시기, 알콕시헤테로아릴기, 헤테로아릴옥시알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬아릴기, 아릴알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬에스테르기, 알킬아미드기 또는 아크릴기이고, 헤테로아릴기는 불소, 산소, 황 및 질소 중에서 선택된 헤테로원자를 함유하는 1가 라디칼이다
4 4
제3항에 있어서, 상기 아조벤젠-다이머는 화학식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체:[화학식 4]화학식 4에서 R1 및 R2는 각각 독립적으로 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬기, 사이클로알킬기, 할로알킬기, 알콕시기, 사이클로알콕시기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아릴옥시기, 알콕시헤테로아릴기, 헤테로아릴옥시알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬아릴기, 아릴알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬에스테르기, 알킬아미드기 또는 아크릴기이고, 헤테로아릴기는 불소, 산소, 황 및 질소 중에서 선택된 헤테로원자를 함유하는 1가 라디칼이고, n은 3~11의 홀수이다
5 5
제4항에 있어서, 상기 아조벤젠 다이머는 화학식 4-1, 화학식 4-2, 화학식 4-3 및 화학식 4-4로 구성된 군에서 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체
6 6
제1항에 있어서, 물리적 복제방지용인 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체
7 7
제1항에 있어서, 필름 또는 플레이크(flake) 형태인 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체
8 8
다음 단계를 포함하는 제1항의 HNF 광결정 구조체의 제조방법:(a) 나선형 나노필라멘트(helical nanofilament, HNF)에 자외선을 조사하여 상기 HNF에 함유된 액정의 축을 자외선 조사방향에 대해 수직으로 배향시키는 단계; 및(b) 상기 수직으로 배향된 HNF를 상기 액정의 B4상 온도까지 냉각시킴으로써 상기 액정의 축을 자외선 조사방향에 대해 평행으로 재배향시켜 HNF 광결정을 형성하여 HNF 광결정 구조체를 수득하는 단계
9 9
제8항에 있어서, 상기 굽은형 액정분자는 아조벤젠-다이머, 화학식 1의 MHOBOW 및 화학식 2의 NOBOW로 구성된 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체의 제조방법:[화학식 1][화학식 2]
10 10
제9항에 있어서, 상기 아조벤젠-다이머는 화학식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체의 제조방법:[화학식 3]화학식 3에서 L은 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬렌기, 사이클로알킬렌기, 할로알킬렌기, 아릴렌기, 헤테로아릴렌기, 아릴렌알킬렌기, 알킬렌아릴렌기, 알킬렌헤테로아릴렌기, 헤테로아릴렌알킬렌기, 알킬렌 에스테르기 또는 알킬렌 아마이드기이고, 헤테로아릴렌기는 불소, 산소, 황 및 질소 중에서 선택된 헤테로원자를 함유하는 2가 라디칼이며,R1 및 R2는 각각 독립적으로 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬기, 사이클로알킬기, 할로알킬기, 알콕시기, 사이클로알콕시기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아릴옥시기, 알콕시헤테로아릴기, 헤테로아릴옥시알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬아릴기, 아릴알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬에스테르기, 알킬아미드기 또는 아크릴기이고, 헤테로아릴기는 불소, 산소, 황 및 질소 중에서 선택된 헤테로원자를 함유하는 1가 라디칼이다
11 11
제10항에 있어서, 상기 아조벤젠-다이머는 화학식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체의 제조방법:[화학식 4]화학식 4에서 R1 및 R2는 각각 독립적으로 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬기, 사이클로알킬기, 할로알킬기, 알콕시기, 사이클로알콕시기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아릴옥시기, 알콕시헤테로아릴기, 헤테로아릴옥시알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬아릴기, 아릴알킬기, 알킬헤테로아릴기, 알킬에스테르기, 알킬아미드기 또는 아크릴기이고, 헤테로아릴기는 불소, 산소, 황 및 질소 중에서 선택된 헤테로원자를 함유하는 1가 라디칼이고, n은 3~11의 홀수이다
12 12
제11항에 있어서, 상기 아조벤젠-다이머는 화학식 4-1, 화학식 4-2, 화학식 4-3 및 화학식 4-4로 구성된 군에서 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 HNF 광결정 구조체의 제조방법:[화학식 4-1][화학식 4-2][화학식 4-3][화학식 4-4]
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP4198107 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
2 US2023193134 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 개인기초연구(과기정통부)(R&D) DNA 기반 나노스케일 고배향 기능성 신소재 개발 (2021년도)
2 과학기술정보통신부 한국과학기술원 집단연구지원(R&D) 멀티스케일 카이랄 구조체 연구센터(2021년도)
3 과학기술정보통신부 한국과학기술원 나노 및 소재 기술개발사업 저유전 혁신소재 설계, 분석, 시뮬레이션(2021년도)