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진공챔버;상기 진공챔버 내에 회전가능하고 탈착가능하게 설치되며, 그 내부에 위치한 분말이 코팅되는 코팅반응용기;상기 코팅반응용기의 회전을 제어하는 회전 유닛;상기 코팅반응용기 내로 공정 가스를 제공하기 위한 공정가스 공급유닛;상기 분말을 코팅물질로 코팅하도록 상기 코팅반응용기 내에 코팅물질소스와 에너지를 공급하는 코팅유닛; 상기 진공챔버 내부를 진공 상태로 하며, 상기 공정가스 공급유닛에 의해 제공된 공정가스를 진공챔버로부터 배기시키기 위한 진공/배기 유닛; 및상기 코팅반응용기 내에 상기 코팅반응용기와 분리되도록 1개 이상 설치되어 상기 코팅반응용기의 회전에 따라 이동하는 분말을 교반하는 스크래퍼유닛;을 포함하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서, 상기 코팅유닛은 상기 코팅반응용기의 회전축과 수직하게 설치되고, 상기 코팅반응용기는 상기 회전유닛에 의해 상기 코팅유닛을 중심으로 일정 각도 범위의 구간 반복형으로 회전되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 스크래퍼유닛은 일정폭과 두께를 갖고 상기 코팅반응용기의 회전축방향 길이보다 작은 길이를 갖는 블레이드를 포함하는데, 상기 블레이드는 상기 코팅반응용기 내면에 수직한 방향으로 접촉되거나 일정간격 이격되어 고정되는 수동형 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 스크래퍼유닛은 일정폭과 두께를 갖고 상기 코팅반응용기의 회전축방향 길이보다 작은 길이를 갖는 블레이드를 포함하는데, 상기 블레이드는 상기 코팅반응용기와 접촉되거나 일정간격 이격되어 상기 코팅반응용기의 회전과 별개로 회전하는 능동형 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 스크래퍼유닛은 상기 코팅반응용기와 접촉되거나 대향되는 단부측으로 절연성 소재로 된 보조스크래퍼유닛이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 5 항에 있어서,상기 보조스크래퍼유닛은 그 두께가 1mm이하인 필름 상인 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 5 항에 있어서,상기 보조스크래퍼유닛은 상기 스크래퍼유닛의 길이방향에 수직한 절개선이 1개 이상 형성된 구조인 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 스크래퍼유닛이 3개 설치되는 경우, 1개는 상기 코팅유닛의 중심축선상에 설치되고 다른 2개는 상기 코팅유닛의 중심축선을 기준으로 일정 각도 범위의 구간 양단에 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 스크래퍼유닛이 2개 설치되는 경우, 상기 코팅유닛의 중심축선을 기준으로 각각 50도 이하의 각도 범위를 갖는 구간 양단에 설치되는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 스크래퍼유닛이 1개 설치되는 경우, 상기 코팅유닛의 중심축선을 기준으로 일정 각도 범위를 갖는 구간 내에서 상기 중심축선상의 위치 상기 중심축선의 좌측 일정 위치 및 상기 중심축선의 우측 일정위치에 위치하도록 일정 시간 간격으로 상기 스크래퍼유닛의 위치가 이동되는 구조를 갖도록 설치되는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항에 있어서,상기 코팅유닛은 스퍼터링 방식의 코팅 물질소스 및 에너지 공급부와 기상증착(evaporation) 방식 또는 DLC 코팅을 위한 바이어스 인가에 의한 PECVD 방식의 코팅 물질 소스 및 에너지 공급부 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 11 항에 있어서,상기 스퍼터링 방식의 코팅 물질 소스 및 에너지 공급부는, 스퍼터 건, 상기 스퍼터 건으로부터 스퍼터링되는 코팅 물질 타겟, 및 상기 스퍼터 건에 고주파 전원 또는 DC전원을 공급하는 전원부를 포함하고, 상기 코팅 물질 타겟은 도체 물질, 반도체 물질, 절연체 물질 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 진공챔버는 그 외부에 냉각유닛이 구비되는 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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제 13 항에 있어서,상기 냉각유닛은 워터자켓인 것을 특징으로 하는 분말코팅장치
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