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기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 제1 고분자접착층을 형성하는 단계; 나노무기입자층이 코팅된 스탬프로 상기 제1 고분자접착층에 상기 나노무기입자를 전사시켜 상기 제1 고분자접착층 내로 일부가 함침되고 상기 제1 고분자접착층에 일부가 노출되도록 제1 나노무기입자층을 형성하는 단계; 상기 제1 나노무기입자층 상에 제2 고분자접착층을 형성하는 단계;나노무기입자층이 코팅된 스탬프로 상기 제2 고분자접착층에 상기 나노무기입자를 전사시켜 상기 제2 고분자접착층 내로 일부가 함침되고 상기 제1 나노무기입자층의 노출된 나노입자와 연결(junction)을 형성하고 상기 제2 고분자접착층에 일부가 노출되도록 제2 나노무기입자층을 형성하는 단계를 포함하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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제14항에 있어서,상기 나노무기입자는 와이어 형상의 나노무기입자이고,상기 나노무기입자는 일 방향으로 배향되어 상기 스탬프에 코팅되며,상기 제2 나노무기입자층의 형성 단계에서, 제1 나노무기입자 층과 교차되도록 전사함을 포함하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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제14항에 있어서,상기 고분자접착층은 UV 경화성 고분자접착층이고,상기 제1 또는 제2 나노무기입자층이 형성된 이후, 자외선 조사하여 상기 제1 또는 제2 고분자접착층을 경화시킴을 포함하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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제 14항에 있어서,상기 고분자접착층은 UV 경화성 고분자접착층이고,상기 제1 또는 제2 나노무기입자층의 형성 전에, 상기 제1 또는 제2 고분자접착층을 포토마스크를 이용하여 선택적 UV 경화하여, UV 경화되지 않은 영역에 나노무기입자층을 형성하는 단계를 포함하는, 무기 나노입자를 패터닝함을 특징으로 하는, 고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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제 14항에 있어서,상기 고분자접착층은, 비스페놀A계 아크릴레이트 화합물 및 알콕시실릴계 아크릴레이트 화합물을 포함하는 투명 고분자접착층을 포함하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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제 21항에 있어서,상기 비스페놀A계 아크릴레이트 화합물은 아래 화학식2의 비스페놀 에이 글리세롤레이트(1 글리세롤/페놀) 다이아크릴레이트 (Bisphenol A glycerolate (1 glycerol/phenol) diacrylate)임을 특징으로 하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법: 화학식2
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제 21항에 있어서,상기 알콕시실릴계 아크릴레이트 화합물은 아래 화학식3의 3-(트리메톡시실릴)프로필 메타크릴레이트(3-(trimethoxysilyl)propyl methacrylate)임을 특징으로 하는, 고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법: 화학식3
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제 21항에 있어서,상기 고분자접착층은 광개시제를 포함함을 특징으로 하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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제 24항에 있어서,상기 광개시제는 아래 화학식1의 2-벤질-2-(디메틸아미노)-4-모르폴리노부티로페논(2-Benzyl-2-(dimethylamino)-4-morpholinobutyrophenone)임을 특징으로 하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법: 화학식1
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제 21항에 있어서,상기 고분자접착층은 폴리메틸실세스퀴녹산(polymethylsilsesquioxane)을 포함하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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제 14항에 있어서,상기 나노무기입자층은, 그래핀, 금속성 그리드, 탄소나노튜브, 실버나노와이어 및 보론나이트라이드 중 어느 하나 이상을 포함하는, 고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 제조 방법
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고분자 기판이 감겨 있고 고분자 기판을 공급하는 기판롤;상기 기판롤로부터 공급된 기판 상에 고분자접착층을 공급하여 제1 고분자접착층을 형성하는 제1 고분자접착층 공급수단;상기 제1 고분자접착층을 건조시키는 제1 건조수단;상기 제1 건조수단에 의해 건조된 상기 제1 고분자접착층 내로 일부가 함침되고 상기 제1 고분자접착층에 일부가 노출되도록 제1 나노무기입자 층을 전사시키 위한 제1 전사 롤러;상기 제1 전사 롤러에 나노무기입자를 코팅시키는 제1 나노무기입자 공급수단;상기 전사된 제1 나노무기입자 층 위에 고분자접착층을 공급하여 제2 고분자접착층을 형성하는 제2 고분자접착층 공급수단;상기 제2 고분자접착층을 건조시키는 제2 건조수단;상기 제2 건조수단에 의해 건조된 상기 제2 고분자접착층 내로 일부가 함침되고 상기 제1 나노무기입자층의 노출된 나노입자와 연결(junction)을 형성하고 상기 제2 고분자접착층에 일부가 노출되도록 제2 나노무기입자 층을 전사시키기 위한 제2 전사 롤러;상기 제2 전사 롤러에 나노무기입자를 코팅시키는 제2 나노무기입자 공급수단을 포함하는,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 롤투롤 제조 장치
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제 28항에 있어서,상기 나노무기입자는 와이어 형 나노무기입자이며,상기 나노무기입자 공급수단은 상기 전사 롤러 측에 블래이드 및 상기 블래이드 상으로 나노무기입자를 공급하는 공급부를 포함하며,상기 블래이드는 상기 전사 롤러의 회전에 의해 나노무기입자를 평탄화 및 일방향 배향되도록 구성된,고분자 내 분산된 나노무기입자 복합체 다층 박막 롤투롤 제조 장치
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