| 1 |
1
하기 화학식 1a 내지 1g로 표시되는 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 포함하는 피부 주름의 예방 또는 치료용 약학적 조성물:[화학식 1a][화학식 1b][화학식 1c][화학식 1d][화학식 1e][화학식 1f][화학식 1g]상기 식에서,R1', R2', R3', R4', R5' 및 R6'는 각각 독립적으로 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-20 아실이고,상기 아실은 동일하거나 상이할 수 있다
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 아실기는 아세틸기, 부티릴기, 옥타노일기, 라우로일기, 팔미토일기, 스테아로일기, 및 에이코사노일기로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 약학적 조성물
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 화합물은 하기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염인, 약학적 조성물:, , , , , , 및상기 식에서, n은 0 내지 18의 정수이다
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,화학식 1a로 표시되는 화합물, 화학식 1b로 표시되는 화합물, 화학식 1c로 표시되는 화합물, 화학식 1d로 표시되는 화합물, 화학식 1e로 표시되는 화합물, 화학식 1f로 표시되는 화합물, 및 화학식 1g로 표시되는 화합물을 모두 포함하는 것인, 약학적 조성물
|
| 5 |
5
하기 화학식 1a 내지 1g로 표시되는 화합물을 유효성분으로 포함하는 피부 주름 개선용 화장료 조성물:[화학식 1a][화학식 1b][화학식 1c][화학식 1d][화학식 1e][화학식 1f][화학식 1g]상기 식에서,R1', R2', R3', R4', R5' 및 R6'는 각각 독립적으로 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-20 아실이고,상기 아실은 동일하거나 상이할 수 있다
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 아실기는 아세틸기, 부티릴기, 옥타노일기, 라우로일기, 팔미토일기, 스테아로일기, 및 에이코사노일기로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 화장료 조성물
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,상기 화합물은 하기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염인, 화장료 조성물:, , , , , , 및상기 식에서, n은 0 내지 18의 정수이다
|
| 8 |
8
제5항에 있어서,화학식 1a로 표시되는 화합물, 화학식 1b로 표시되는 화합물, 화학식 1c로 표시되는 화합물, 화학식 1d로 표시되는 화합물, 화학식 1e로 표시되는 화합물, 화학식 1f로 표시되는 화합물, 및 화학식 1g로 표시되는 화합물을 모두 포함하는 것인, 화장료 조성물
|
