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10~80 nm의 입도를 갖는 제1 전도성 은나노입자와, 100~500 nm의 입도를 갖는 제2 전도성 은나노입자를 포함하고, 35,000~45,000 분자량을 갖는 폴리비닐피롤리돈(Polyvinylpyrrolidone; PVP) 1~99 중량%와 50,000~60,000 분자량을 갖는 PVP 1~99 중량%를 함유하는 고분자 바인더가 상기 제1 및 제2 전도성 은나노입자의 표면에 코팅되어 있으며, 바이모달 입도 분포를 갖는 전도성 은나노입자; 물; 및 극성용매;를 포함하고, 40~50 mN/m의 표면장력을 갖는 전도성 은나노잉크
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제1항에 있어서,상기 전도성 은나노입자는 전도성 은나노잉크의 총 중량 대비 90 중량% 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 은나노잉크
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제2항에 있어서,상온에서 150~1000 cps의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 전도성 은나노잉크
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제3항에 있어서,상기 제1 및 제2 전도성 은나노입자의 혼합비율은 상기 제1 전도성 은나노입자 10~90 중량%, 상기 제2 전도성 은나노입자 10~90 중량%인 것을 특징으로 하는 전도성 은나노잉크
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제1항에 있어서,상기 극성 용매는 글리콜, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올 또는 메틸피롤리돈을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 은나노잉크
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10~80 nm의 입도를 갖는 제1 전도성 은나노입자와, 100~500 nm의 입도를 갖는 제2 전도성 은나노입자를 포함하고, 35,000~45,000 분자량을 갖는 폴리비닐피롤리돈(Polyvinylpyrrolidone; PVP) 1~99 중량%와 50,000~60,000 분자량을 갖는 PVP 1~99 중량%를 함유하는 고분자 바인더가 상기 제1 및 제2 전도성 은나노입자의 표면에 코팅되어 있으며, 바이모달 입도 분포를 갖는 전도성 은나노입자를 제조하는 단계; 및물과 극성용매가 혼합된 혼합 용매에 상기 전도성 은나노입자를 혼합하여 전도성 은나노잉크를 제조하는 단계;를 포함하는 전도성 은나노잉크의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 전도성 은나노입자는 전도성 은나노잉크의 총 중량 대비 90 중량% 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 은나노잉크의 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 제1 및 제2 전도성 은나노입자의 혼합비율은 상기 제1 전도성 은나노입자 10~90 중량%, 상기 제2 전도성 은나노입자 10~90 중량%인 것을 특징으로 하는 전도성 은나노잉크의 제조 방법
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기판; 및상기 기판의 적어도 일면에 전도성 은나노잉크를 인쇄하여 형성한 전도막;을 포함하며,상기 전도성 은나노잉크는,10~80 nm의 입도를 갖는 제1 전도성 은나노입자와, 100~500 nm의 입도를 갖는 제2 전도성 은나노입자를 포함하고, 35,000~45,000 분자량을 갖는 폴리비닐피롤리돈(Polyvinylpyrrolidone; PVP) 1~99 중량%와 50,000~60,000 분자량을 갖는 PVP 1~99 중량%를 함유하는 고분자 바인더가 상기 제1 및 제2 전도성 은나노입자의 표면에 코팅되어 있으며, 바이모달 입도 분포를 갖는 전도성 은나노입자를 포함하는 전도성 기판
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기판의 일면에 10~80 nm의 입도를 갖는 제1 전도성 은나노입자와, 100~500 nm의 입도를 갖는 제2 전도성 은나노입자를 포함하고, 35,000~45,000 분자량을 갖는 폴리비닐피롤리돈(Polyvinylpyrrolidone; PVP) 1~99 중량%와 50,000~60,000 분자량을 갖는 PVP 1~99 중량%를 함유하는 고분자 바인더가 상기 제1 및 제2 전도성 은나노입자의 표면에 코팅되어 있으며, 바이모달 입도 분포를 갖는 전도성 은나노입자, 물 및 극성용매를 함유하고, 표면장력이 40~50 mN/m인 전도성 은나노잉크를 인쇄하여 코팅막을 형성하는 단계; 및상기 코팅막을 소결하여 10-6 Ωㅇ㎝ 이하의 비저항을 갖는 전도막을 형성하는 단계;를 포함하는 전도성 기판의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 전도성 은나노잉크는 상온에서 150~1000 cps의 점도를 가지고,상기 전도성 은나노입자는 전도성 은나노잉크의 총 중량 대비 90 중량% 이상이고,상기 제1 및 제2 전도성 은나노입자의 혼합비율은 상기 제1 전도성 은나노입자 10~90 중량%, 상기 제2 전도성 은나노입자 10~90 중량%인 것을 특징으로 하는 전도성 기판의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 전도막을 형성하는 단계에서,상기 기판이 고분자 소재의 플라스틱 기판인 경우, 소결은 130℃ 이하의 온도에서 5분 이내에 수행하는 것을 특징으로 하는 전도성 기판의 제조 방법
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