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제 1 이온 전도체,상기 제 1 이온 전도체 상에 위치하는 포토닉 크리스탈층, 및상기 포토닉 크리스탈층 상에 위치하는 제 2 이온 전도체를 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 이온 전도체와 상기 포토닉 크리스탈층 사이에 위치하는 제 1 유전 탄성체 또는상기 포토닉 크리스탈층과 상기 제 2 이온 전도체 사이에 위치하는 제 2 유전 탄성체 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 이온 전도체의 하부에 위치하는 제 1 전극, 또는 상기 제 2 이온 전도체 상에 위치하는 제 2 전극 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 3 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 전극은 투명 도전성 물질로 이루어진 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 이온 전도체는, 이온성 전해질을 포함하고,상기 이온성 전해질은, 탄성체 또는 전도성 폴리머와, 상기 탄성체 또는 전도성 폴리머 전체에 분산된 전해질을 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 5 항에 있어서,상기 이온성 전해질은, 하이드로젤 형태인 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 5 항에 있어서, 상기 전해질은, 염 용액을 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 5 항에 있어서, 상기 전해질은 이온성 액체를 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 포토닉 크리스탈층은, 젤 형태인 고분자 물질 또는 유전성 및 탄성을 갖는 물질에 복수의 비드가 충전된 형태인 포토닉 크리스탈 광학 소자
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10
기판 상에 위치하는 제 1 전극,상기 제 1 전극 상에 위치하는 제 1 유전 탄성체,상기 제 1 유전 탄성체 상에 위치하는 포토닉 크리스탈층 및상기 포토닉 크리스탈층의 상부에 위치하는 제 2 이온 전도체를 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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11
제 10 항에 있어서,상기 포토닉 크리스탈층과 상기 제 2 이온 전도체 사이에 위치하는 제 2 유전 탄성체를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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12
제 11 항에 있어서,상기 제 2 이온 전도체는, 이온성 전해질을 포함하고,상기 이온성 전해질은, 탄성체 또는 전도성 폴리머와, 상기 탄성체 또는 전도성 폴리머 전체에 분산된 전해질을 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 10 항에 있어서,상기 이온성 전해질은, 하이드로젤 형태인 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 10 항에 있어서, 상기 전해질은, 염 용액을 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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15
제 10 항에 있어서, 상기 전해질은 이온성 액체를 포함하는 포토닉 크리스탈 광학 소자
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제 10 항에 있어서,상기 포토닉 크리스탈층은, 젤 형태인 고분자 물질 또는 유전성 및 탄성을 갖는 물질에 복수의 비드가 충전된 형태인 포토닉 크리스탈 광학 소자
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17
기판 상에 매트릭스 형태로 배열된 복수의 픽셀들을 포함하는 표시 패널을 포함하고,상기 표시 패널은,기판 상에 상기 각 픽셀에 대응되는 위치에 구비된 제 1 이온 전도체와, 상기 제 1 이온 전도체 상에 위치하는 포토닉 크리스탈층, 및 상기 포토닉 크리스탈층 상에 위치하는 제 2 이온 전도체를 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 17 항에 있어서,상기 표시 패널은,상기 제 1 이온 전도체와 상기 포토닉 크리스탈층 사이에 위치하는 제 1 유전 탄성체 및상기 포토닉 크리스탈층과 상기 제 2 이온 전도체 사이에 위치하는 제 2 유전 탄성체 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 17 항에 있어서,상기 표시 패널은, 상기 제 1 이온 전도체의 하부에 위치하는 제 1 전극 및 상기 제 2 이온 전도체의 상부에 위치하는 제 2 전극 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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20
제 18 항에 있어서,상기 표시 패널은 상기 제 1 이온 전도체와 동일한 층에 위치하는 평탄화막을 더 포함하고,상기 제 1 및 제 2 유전 탄성체는 상기 기판의 전면에 위치하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 17 항에 있어서,상기 제 2 이온 전도체는, 상기 기판의 전면에 형성된 공통 전극 형태인 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 20 항에 있어서,상기 제 1 유전 탄성체는 상기 픽셀에 대응되는 영역에 구비된 복수의 홀을 더 포함하고, 상기 포토닉 크리스탈층은 상기 복수의 홀 내에 구비되는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 17 항에 있어서,상기 표시 패널은, 교차 배열된 복수의 게이트 라인 및 데이터 라인들을 포함하고,상기 각 픽셀은, 게이트 전극이 상기 게이트 라인과 접속되고, 소스 전극이 상기 데이터 라인에 접속되며, 드레인 전극이 상기 제 1 이온 전도체와 접속되어, 상기 게이트 라인으로부터의 스캔 신호에 따라 데이터 신호를 상기 제 1 이온 전도체로 공급하는 스위칭 소자를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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기판 상에 매트릭스 형태로 배열된 복수의 픽셀들을 포함하는 표시 패널을 포함하고,상기 표시 패널은,상기 픽셀에 대응되는 영역에 위치하며, 투명 도전체로 이루어진 제 1 전극과, 상기 제 1 전극 상에 위치하는 제 1 유전 탄성체와, 상기 제 1 유전 탄성체 상에 위치하는 포토닉 크리스탈층 및 상기 포토닉 크리스탈층의 상부에 위치하는 제 2 이온 전도체를 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 24 항에 있어서,상기 제 1 전극과 동일한층에 상기 제 1 전극과 동일한 높이로 위치하는 평탄화막을 더 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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26
제 24 항에 있어서,상기 포토닉 크리스탈층과 상기 제 2 이온 전도체 사이에 위치하는 제 2 유전 탄성체를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 24 항에 있어서,상기 제 1 유전 탄성체는, 상기 기판의 전면에 위치하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 26 항에 있어서,상기 제 2 유전 탄성체는, 상기 기판의 전면에 위치하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 27 항에 있어서,상기 제 1 유전 탄성체는, 상기 픽셀에 대응되는 위치에 복수의 홀을 포함하고, 상기 포토닉 크리스탈층은 상기 복수의 홀 내에 위치하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 24 항에 있어서,상기 제 2 이온 전도체는, 상기 기판의 전면에 형성된 공통 전극 형태인 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 24 항에 있어서,상기 표시 패널은, 교차 배열된 복수의 게이트 라인 및 데이터 라인들을 포함하고,상기 각 픽셀은, 게이트 전극이 상기 게이트 라인과 접속되고, 소스 전극이 상기 데이터 라인에 접속되며, 드레인 전극이 상기 제 1 전극과 접속되어, 상기 게이트 라인으로부터의 스캔 신호에 따라 데이터 신호를 상기 제 1 전극으로 공급하는 스위칭 소자를 더 포함하는 포토닉 크리스탈 표시 장치
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제 17 항 또는 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판은 블랙 기판인 포토닉 크리스탈 표시 장치
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