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은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물 및 그 제조방법(SILVER SUBSTITUTED STRONTIUM NIOBATE DIELECTRIC COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF)

  • 기술번호 : KST2017017604
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실시예들은 일반식 KSr2(1-x)Ag2xNb3O10로 표시되고, 상기 x는 0 초과 1 이하인 것을 특징으로 하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물 및 이를 제조하는 방법에 관련된다. 또한 다른 실시예에서 상기 K는 H로 치환될 수도 있다.
Int. CL H01B 3/02 (2017.12.15) H01G 4/12 (2017.12.15) H01G 4/30 (2017.12.15)
CPC
출원번호/일자 1020170168001 (2017.12.08)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0140137 (2017.12.20) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2015-0145368 (2015.10.19)
관련 출원번호 1020150145368
심사청구여부/일자 Y (2020.09.24)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최지원 서울특별시 성북구
2 임해나 서울특별시 성북구
3 류소연 서울특별시 성북구
4 김진상 서울특별시 성북구
5 강종윤 서울특별시 성북구
6 백승협 서울특별시 성북구
7 김성근 서울특별시 성북구
8 권범진 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2017.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-1223690-16
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
 2020.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-1016697-17
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번호 청구항
1 1
일반식 KSr2(1-x)Ag2xNb3O10로 표시되고, 상기 x는 0 초과 1 이하인 것을 특징으로 하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물
2 2
제1항에 있어서,상기 K가 H로 치환되어, 일반식 HSr2(1-x)Ag2xNb3O10로 표시되는 것을 특징으로 하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물
3 3
일반식 KSr2(1-x)Ag2xNb3O10로 표시되고, 상기 x는 0 초과 1 이하인 물질을 HNO3, HCl, H2SO4 중 하나 이상의 용액에서 교반하여 일반식 HSr2(1-x)Ag2xNb3O10로 표시되는 유전체 조성물을 획득하는 단계를 포함하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물 제조방법
4 4
제3항에 있어서,일반식 HSr2(1-x)Ag2xNb3O10로 표시되는 유전체 조성물의 x는 0 초과 1
5 5
제3항에 있어서,상기 일반식 HSr2(1-x)Ag2xNb3O10로 표시되는 유전체 조성물을 건조시키는 단계; 및건조된 유전체 조성물을 소결시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물 제조방법
6 6
제5항에 있어서,소결된 유전체 조성물을 테트라부틸암모니움(TBAOH) 용액에 교반하는 단계; 및교반된 용액을 기판에 적층하여 나노 시트 박막을 획득하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물 제조방법
7 7
제6항에 있어서,상기 기판은, Au, Pt, ITO, SRO, Nb-STO 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물 제조방법
8 8
제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따라 제조된 유전체 조성물을 마이크로파 유전체 또는 DRAM 커패시터에 적용하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은이 치환된 스트론튬 나이오베이트 유전체 조성물 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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1 JP06368751 JP 일본 FAMILY
2 JP29088480 JP 일본 FAMILY
3 KR1020170045593 KR 대한민국 FAMILY

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2 JP6368751 JP 일본 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 이화여자대학교산학협력단 소재부품기술개발 유전율 400이상을 갖는 유전체 무기 나노시트의 합성기술 및 이를 이용한 MLCC 소자용 고유전체 박막 제조기술 개발