| 1 |
1
저굴절률 기판;상기 에어로젤 기판상에 배치되며 다수의 메시 구멍이 구비된 플라즈모닉층;상기 에어로젤 기판과 일정 갭을 두고 대향하여 배치되는 상부기판;상기 상부기판상에 구비된 투명도전층;상기 투명도전층 상에 배치된 배향막; 및상기 저굴절률 기판과 상부기판 사이에 구비되는 액정층을 포함하는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 저굴절률 기판은 에어로젤 기판인 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 저굴절률 기판은 굴절률(n) 값이 1
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 플라즈모닉층과 배향막의 가장자리부에 접합층이 구비된 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 접합층은 상기 플라즈모닉층의 다수의 메시 구멍의 외곽에 위치하는 가장자리부와 이 가장자리부와 오버랩되는 상기 배향막의 가장자리부 사이에 구비되는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 접합층은 상기 플라즈모닉층의 다수의 메시 구멍의 외곽에 위치하는 가장자리부 중 4군데 모서리부와 이 모서리부들과 오버랩되는 상기 배향막의 가장자리부 중 4군데 모서리부 사이에 구비되는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 메시 구멍(mesh hole)은 2차원 구멍(hole) 형태, 나노 우물 (sinusoidal well), 3차원 구멍 형태들 (즉, 3D hole array, recessed hole array, protruding hole array등을 포함) 및, 격자 구멍(1D grating hole) 형태 중 하나인 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치
|
| 8 |
8
실리콘기판을 세정하는 단계;상기 실리콘기판상에 다수의 나노 스피어(Nano sphere)를 형성하는 단계;상기 나노 스피어들을 포함한 실리콘기판상에 금속층을 형성하는 단계;상기 나노 스피어들 및 이 나노스피어들 위에 있는 금속층 부분을 제거하여 다수의 메시 구멍을 가진 플라즈모닉층을 형성하는 단계;상기 플라즈모닉층을 실리콘기판으로부터 분리하는 단계;분리된 상기 플라즈모닉층을 저굴절률 기판상에 접합시키는 단계;상부기판상에 투명도전층 및 배향막을 형성하는 단계; 및상기 상부기판과 저굴절률 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는플라즈모닉을 이용한 디스플레이장치 제조방법
|
| 9 |
9
제8항에 있어서, 상기 플라즈모닉층과 배향막의 가장자리부에 접합층을 형성하여 상기 에어로젤 기판과 상부기판을 접합시키는 단계를 포함하는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치 제조방법
|
| 10 |
10
제8항에 있어서, 상기 저굴절률 기판은 에어로젤 기판인 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치 제조방법
|
| 11 |
11
제8항에 있어서, 상기 저굴절률 기판은 굴절률(n) 값이 1
|
| 12 |
12
제8항에 있어서, 상기 실리콘기판은 산소 플라즈마 세정을 실시하여 실리콘기판 표면에 자연산화막을 생성하는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치 제조방법
|
| 13 |
13
제8항에 있어서, 상기 실리콘기판상에 다수의 나노 스피어(Nano sphere)를 형성하는 단계는, 상기 실리콘기판상에 제1 크기의 다수의 제1 나노 스피어를 형성하는 공정과, 상기 제1 크기의 제1 나노 스피어들을 식각하여 제1 크기보다 작은 제2 크기를 가지는 제2 나노 스피어를 형성하는 공정을 포함하는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치 제조방법
|
| 14 |
14
제13항에 있어서, 상기 제1 크기의 제1 나노 스피어들을 식각하여 제1 크기보다 작은 제2 크기를 가지는 제2 나노 스피어를 형성하는 공정은 반응성 이온 식각(Reactive ion etching), 유도 결합 플라즈마 식각(ICP Etching)을 포함하는 건식 식각 방식 또는 습식 식각 방식으로 이루어지는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치 제조방법
|
| 15 |
15
제8항에 있어서, 상기 나노 스피어들 및 이 나노스피어들 위에 있는 금속층 부분을 제거하는 단계는 리프트 오프(Lift off) 방식으로 이루어지는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치 제조방법
|
| 16 |
16
제8항에 있어서, 상기 플라즈모닉층을 실리콘기판으로부터 분리하는 단계는 상기 자연산화막(native oxide layer)을 BOE(buffered oxide etchant) 용액으로 습식 식각함으로써 이루어지는 플라즈모닉을 이용한 반사형 디스플레이장치 제조방법
|
