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프레임(frame); 및상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되,상기 멤브레인은 광이 투과하는 투과 영역(penetration region), 및 상기 투과 영역을 둘러싸고, 상기 광의 투과도가 상기 투과 영역보다 낮은 주변 영역(peripheral region)을 포함하고,상기 주변 영역의 열 전달율 및 강도가 상기 투과 영역의 열 전달율 및 강도보다 높은 것을 포함하고, 상기 멤브레인을 투과한 상기 광은,상기 멤브레인 상에 배치된 마스크에 반사되어, 상기 멤브레인의 상기 투과 영역을 재투과하여 외부로 조사되는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서,상기 멤브레인의 상기 주변 영역에는, 상기 광이 조사되지 않는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 다른 두께를 갖는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제4 항에 있어서, 상기 주변 영역의 두께가 상기 투과 영역의 두께보다 두꺼운 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 동일한 물질로 형성되고, 상기 주변 영역의 두께가 상기 투과 영역의 두께보다 두꺼운 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 다른 물질로 형성되는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 주변 영역의 비율이, 상기 투과 영역의 비율보다 높은 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 투과 영역은, 외부로부터 상기 멤브레인으로 입사하는 상기 광이 투과하는 제1 투과 영역; 및상기 제1 투과 영역을 투과하여, 상기 멤브레인 상에 배치된 마스크에서 반사된 광이 투과하는 제2 투과 영역을 포함하고, 상기 제1 투과 영역 및 상기 제2 투과 영역은 서로 이격되어 제공되는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 주변 영역은, 상기 투과 영역을 둘러싸는 제1 주변 영역; 및상기 제1 주변 영역을 둘러싸는 제2 주변 영역을 포함하고, 상기 제1 주변 영역의 열 전달율은, 상기 제2 주변 영역의 열 전달율보다 높고, 상기 제2 주변 영역의 강도는, 상기 제1 주변 영역의 강도보다 높은 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 멤브레인은, 평면 형태(plane shape)로 제공되는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 프레임 및 상기 멤브레인으로 둘러싸인 내부 공간이 정의되고, 상기 프레임의 적어도 일부분은, 상기 내부 공간을 개방(open)하도록 구성되어, 상기 내부 공간으로 마스크가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공하는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 있어서, 상기 프레임 및 상기 멤브레인으로 둘러싸인 내부 공간이 정의되고, 상기 프레임은, 서로 분리되도록 구성된 제1 프레임 및 제2 프레임을 포함하고, 상기 멤브레인은, 서로 분리되도록 구성된 제1 멤브레인 및 제2 멤브레인을 포함하고, 상기 제1 멤브레인은 상기 제1 프레임에 의해 지지되고, 상기 제2 멤브레인은 상기 제2 프레임에 의해 지지되고, 상기 제1 멤브레인 및 상기 제1 프레임을 포함하는 제1 세그먼트, 및 상기 제2 멤브레인 및 상기 제2 프레임을 포함하는 제2 세그먼트가 이격되도록 구성되어, 상기 내부 공간으로 마스크가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공하는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈
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제1 항에 따른 마스크 보호 모듈을 포함하는 펠리클
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광을 방출하는 광원;상기 광을 반사하는 마스크가 배치되는, 마스크 배치 영역; 및상기 마스크 상에 배치되어 상기 광원에서 방출된 상기 광을 상기 마스크를 향하여 투과시키는, 마스크 보호 모듈을 포함하되,상기 마스크 보호 모듈은,프레임; 및 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인을 포함하되,상기 멤브레인은 광이 투과하는 투과 영역, 및 상기 투과 영역을 둘러싸고, 상기 광의 투과도가 상기 투과 영역보다 낮은 주변 영역을 포함하고,상기 주변 영역의 열 전달율 및 강도가 상기 투과 영역의 열 전달율 및 강도보다 높은 것을 포함하고, 상기 멤브레인을 투과한 상기 광은,상기 멤브레인 상에 배치된 상기 마스크에 반사되어, 상기 멤브레인의 상기 투과 영역을 재투과하여 외부로 조사되는 리소그래피 장비
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제16 항에 있어서, 상기 광은 극자외선(Extreme Ultraviolet)을 포함하는 리소그래피 장비
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제16 항에 있어서
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