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유기할로겐화물, 금속할로겐화물 및 루이스 염기 화합물을 제 1 용매에 용해하여 하기 화학식 1 로 표시되는 화합물을 포함하는 어덕트(adduct) 착물을 제조하는 단계; 상기 어덕트 착물을 기재 상에 도포하는 단계; 상기 기재 상에 제 2 용매를 첨가하여 코팅 하는 단계; 및상기 기재 상에 반용매를 첨가하여 진공 어닐링하는 단계;를 포함하고,상기 유기할로겐화물은 상기 금속할로겐화물에 비해 화학양론적 과량으로 투입되는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법:[화학식 1]RMX3(상기 화학식 1 에서, R 은 C1-24 의 알킬기, 아민기 치환된 알킬기, 또는 알칼리 금속이고, M 은 Pb, Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Cr, Pd, Cd, Yb, Sn, Ge, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 포함하는 것이고, X 는 할라이드 음이온 또는 칼코게나이드 음이온을 포함하는 것임)
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제 1 항에 있어서,상기 유기할로겐화물은 하기 화학식 2 로 표시되는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법:[화학식 2]RX(상기 화학식 2 에서,R 은 C1-24 의 알킬기, 아민기 치환된 알킬기, 또는 알칼리 금속이고,X 는 할라이드 음이온 또는 칼코게나이드 음이온을 포함하는 것임)
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제 1 항에 있어서,상기 금속할로겐화물은 하기 화학식 3 으로 표시되는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법:[화학식 3]MX2(상기 화학식 3 에서,M 은 Pb, Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Cr, Pd, Cd, Yb, Sn, Ge, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 포함하는 것이고, X 는 할라이드 음이온 또는 칼코게나이드 음이온을 포함하는 것임)
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 용매는 디메틸포름아미드(Dimethylformamide, DMF), 감마-부티로락톤(Gamma-butyrolactone), 디메틸아세트아마이드(Dimethylacetamide), N-메틸피롤리돈(N-Methylpyrrolidone), N-메틸-2-피리딘(N-Methyl-2-pyridine), 피리딘(Pyridine), 아닐린(Aniline), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 루이스 염기 화합물은 비공유 전자쌍을 갖는 원자를 전자쌍 주개로 하는 작용기를 포함하는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 루이스 염기 화합물은 디메틸설폭사이드(Dimethylsulfoxide, DMSO), H2O, N,N-디메틸아세트아미드(N,N-Dimethylacetamide), N-메틸-2-피롤리디온(N-Methyl-2-pyrrolidione), N-메틸-2-피리딘(N-Methyl-2-pyridine), 2,6-디메틸-γ-피론(2,6-Dimethyl-γ-pyrone), 아세트아미드(Acetamide), 우레아(Urea), 티오우레아(Thiourea), N,N-디메틸티오아세트아미드(N,N-Dimethylthioacetamide), 티오아세트아미드(Thioacetamide), 에틸렌이아민(Ethylenediamine), 테트라에틸렌디아민(Tetramethylethylenediamine), 2,2'-바이피리딘(2,2'-Bipyridine), 1,10-피페리딘(1,10-Piperidine), 아닐린(Aniline), 피롤리딘(Pyrrolidine), 디에틸아민(Diethylamine), N-메틸피롤리딘(N-Methylpyrrolidine), n-프로필아민(n-Propylamine)에서 선택되는 하나 이상의 화합물인 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 유기할로겐화물 및 상기 금속할로겐화물은 1:1 초과 10:1 이하의 몰 비로서 첨가되는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속할로겐화물 및 상기 루이스 염기 화합물은 1:1 내지 1:5 의 몰 비로서 첨가되는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 어덕트 착물은 상기 금속할로겐화물 및 상기 루이스 염기 화합물의 반응에 의해 생성되는 루이스 산-염기 반응물을 포함하는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 기재는 인듐 틴 옥사이드(ITO), 플루오린 틴 옥사이드(FTO), ZnO-Ga2O3, ZnO-Al2O3, 주석계 산화물, 산화아연, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 기재는 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethyleneterephthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylenenaphthalate), 폴리카보네이트(Polycarbonate), 폴리프로필렌(Polypropylene), 폴리이미드(Polyimide), 트리아세틸셀룰로오스(Triacetylcellulose), 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 고분자 기재를 포함하는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 용매는 디에틸에테르(Diethylether), N-메틸피롤리돈(N-Methylpyrrolidone), 아세토니트릴(Acetonitrile), 아세톤(Acetone), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran), 톨루엔(Toluene), 1,2-디클로로벤젠(1,2-Dichlorobenzene), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 코팅은 스핀 코팅, 바코팅, 노즐 프린팅, 스프레이 코팅, 슬롯다이코팅, 그라비아 프린팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 전기수력학적 젯 프린팅(electrohydrodynamic jet printing), 전기분무(electrospray), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되어 이루어지는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 반용매는 클로로포름(Chloroform), 헥센(Hexene), 사이클로헥센(cyclohexene), 1,4-다이옥센(1,4-Dioxane), 벤젠(Benzene), 톨루엔(Toluene), 트리에틸아민(Triethylamine), 클로로벤젠(Chlorobenzene), 에틸아민(Ethylamine), 에틸에테르(Ethylether), 에틸아세테이트(Ethylacetate), 아세틱엑시드(Acetic acid), 1,2-다이클로로벤젠(1,2-Dichlorobenznene), Tert-부틸알콜(Tert-Butyl alcohol), 2-부탄올(2-Butanol), 이소프로판올(Isopropanol), 메틸에틸케톤(Methylethylketone), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 비극성 유기용매를 포함하는 것인, 페로브스카이트 나노결정 박막의 제조 방법
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