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미세 패턴의 방향성을 제어하여 배향막을 형성하는 장치(APPARATUS FOR FORMING ALIGNMENT LAYER BY TAILORING ORIENTATION AND PERIODICITY OF WRINKLES)

  • 기술번호 : KST2018006950
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 미세 패턴의 방향성을 제어하여 배향막을 형성하는 장치가 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 패턴의 방향성을 제어하여 배향막을 형성하는 장치는 액정의 배향을 위한 미세 패턴이 형성되는 연성 물질에 이온 빔(ion beam)을 조사하는 이온 빔 조사부 및 상기 이온 빔이 조사되는 입사 각도를 조절하는 입사 각도 조절부를 포함하되, 상기 연성 물질은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, 이하 ‘PDMS’라 칭함)이며, 상기 PDMS의 표면에는 상기 입사 각도로 조사된 이온 빔에 의해 주름 패턴(wrinkle pattern)이 형성되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G02F 1/1337 (2006.01.01) G06F 17/10 (2006.01.01) C08L 83/04 (2006.01.01)
CPC G02F 1/133788(2013.01) G02F 1/133788(2013.01) G02F 1/133788(2013.01) G02F 1/133788(2013.01)
출원번호/일자 1020160156641 (2016.11.23)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1976247-0000 (2019.04.30)
공개번호/일자 10-2018-0058033 (2018.05.31) 문서열기
공고번호/일자 (20190507) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.11.23)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 서대식 대한민국 서울특별시 강남구
2 정해창 대한민국 인천광역시 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 민영준 대한민국 서울특별시 강남구 남부순환로 ****, *층(도곡동, 차우빌딩)(맥스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2016-1147105-22
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0075144-73
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0323462-36
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.04.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0427842-99
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2018-0427877-86
6 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2018.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0515703-95
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2018-0967282-41
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.10.01 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0967238-42
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0143157-29
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2019-0349955-76
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.04.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0349945-19
12 등록결정서
Decision to grant
2019.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0304987-85
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번호 청구항
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미세 패턴의 방향성을 제어하여 배향막을 형성하는 장치에 있어서,액정의 배향을 위한 미세 패턴이 형성되는 연성 물질에 이온 빔(ion beam)을 조사하는 이온 빔 조사부; 및상기 이온 빔이 조사되는 입사 각도를 조절하는 입사 각도 조절부를 포함하되,상기 연성 물질은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, 이하 ‘PDMS’라 칭함)이며, 상기 PDMS의 표면에는 상기 입사 각도로 조사된 이온 빔에 의해 주름 패턴(wrinkle pattern)이 형성되고,상기 이온 빔이 조사되는 입사 각도가 15°, 30°, 45°, 60° 및 90°인 경우,15°, 30° 및 45°의 입사 각도에서 상기 주름 패턴의 방향은 동일한 방향으로 정렬되고60° 및 90°의 입사 각도에서 상기 주름 패턴의 방향은 랜덤하게 형성되며,상기 주름 패턴은 주름 파장(wrinkle wavelength)을 주름 특성으로 가지며, 상기 주름 파장은 상기 이온 빔의 입사 각도에 따라서 변화하고,상기 주름 파장은상기 이온 빔의 조사에 의해 상기 PDMS의 표면이 화학적으로 변화하여 형성되는 실리카 층(silica-like stiff skin layer)의 벤딩 에너지(bending energy)와 상기 PDMS의 스트레칭 에너지(stretching energy)간의 경합에 의해 결정되되, 아래의 수학식을 이용하여 계산되는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 장치
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제1 항에 있어서,상기 실리카 층의 두께 변화는 상기 화학적 변화에 따른 O/Si 비율의 변화로부터 추정되되,상기 O/Si 비율은 상기 이온 빔이 조사되는 입사 각도의 증가 또는 감소에 따라 증가 또는 감소하는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 장치
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제1 항에 있어서,상기 이온 빔 조사부는제어부의 제어에 따라서 조절된 세기로 상기 이온 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 장치
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제1 항에 있어서,상기 이온 빔 조사부는제어부의 제어에 따라서 조절된 시간동안 상기 이온 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.