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뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치, 이의 제조방법 및 이를 포함한 시냅스 회로 소자(SYNAPSE DEVICE FOR APPLICATION ON NEUROMORPHIC SYSTEM, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SYNAPSE CIRCUIT COMPONENT INCLUDING THE SAME)

  • 기술번호 : KST2018006959
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치가 제공된다. 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치는, 제1 전극, 표면산화층, 저항변화층 및 제2 전극을 포함한다. 표면산화층은 제1 전극 상에 배치되고, 저항변화층은 표면산화층 상에 배치되며, 제2 전극은 저항변화층 상에 배치된다. 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치는, 표면산화층 및 저항변화층의 이중층에서 도전성 필라멘트의 형성 및 소멸이 이루어져 온-오프 상태가 변화되도록 구성된다.
Int. CL G06N 3/063 (2006.01.01) G06N 3/04 (2006.01.01)
CPC G06N 3/063(2013.01) G06N 3/063(2013.01)
출원번호/일자 1020160155948 (2016.11.22)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0057384 (2018.05.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.11.22)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 황현상 대한민국 대구광역시 수성구
2 우지용 대한민국 인천광역시 계양구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2016-1142297-18
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0418708-14
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2018-0810191-58
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.08.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0810192-04
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.12.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0891807-53
6 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
2019.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2019-0065640-16
7 법정기간연장승인서
2019.01.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0013349-75
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2019-0076790-14
9 면담 결과 기록서
2019.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0019339-80
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1 전극;상기 제1 전극 상에 배치되는 표면산화층;상기 표면산화층 상에 배치되는 저항변화층; 및상기 저항변화층 상에 배치되는 제2 전극을 포함하고,상기 표면산화층 및 저항변화층의 이중층에서 도전성 필라멘트의 형성 및 소멸이 이루어져 온-오프 상태가 변화되도록 구성되는, 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 표면산화층은, 상기 제1 전극을 구성하는 재질의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
3 3
제2항에 있어서,상기 제1 전극은 Al을 포함하고, 상기 표면산화층은 AlxOy (0003c#x003c#2, 0003c#y003c#3)를 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 표면산화층은 상기 저항변화층에 비해, 산소 공공의 이동도가 낮은 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
5 5
제1항에 있어서,상기 저항변화층은 HfO2, Ta2O5, Al2O3, NiO, TiO2, 또는 V2O5를 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
6 6
제1항에 있어서,상기 제2 전극은 Ti, Ta, Hf, Al, Cu, Ag 또는 이들의 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
7 7
제1항에 있어서,상기 도전성 필라멘트는 상기 제2 전극으로부터 침투된 금속이온의 산화환원 반응에 의하거나, 저항변화층과 상기 제2 전극과의 화학반응을 통해 형성된 산소 공공 (oxygen vacancy) 에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
8 8
제1항에 있어서,상기 시냅스 장치는, 상기 제1 전극 및 제2 전극을 통해 인가되는, 동일한 펄스폭 및 크기를 가진 펄스 전압 입력의 펄스 개수에 따라, 컨덕턴스가 선형적으로 증가 또는 감소하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
9 9
제8항에 있어서,상기 펄스 전압 입력이 셋 전압인 경우, 상기 컨덕턴스가 선형적으로 증가하고,상기 펄스 전압 입력이 리셋 전압인 경우, 상기 컨덕턴스가 선형적으로 감소하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
10 10
제9항에 있어서,상기 컨덕턴스의 선형적 증가 및 선형적 감소는, 부호가 반대이고 크기가 동일한 기울기를 갖는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
11 11
기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극 상에 저항변화층을 형성하되, 상기 제1 전극 및 저항변화층 사이의 계면에 상기 제1 전극의 표면산화층이 형성되도록 상기 저항변화층을 형성하는 단계; 및상기 저항변화층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 표면산화층 및 저항변화층의 이중층은 도전성 필라멘트의 형성 및 소멸이 이루어져 온-오프 상태가 변화되도록 구성되는, 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치의 제조방법
12 12
제11항에 있어서,상기 제1 전극은 Al을 포함하고, 상기 표면산화층은 AlxOy (0003c#x003c#2, 0003c#y003c#3)를 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치의 제조방법
13 13
제11항에 있어서,상기 저항변화층은 HfO2, Ta2O5, Al2O3, NiO, TiO2, 또는 V2O5를 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치의 제조방법
14 14
제11항에 있어서,상기 제2 전극은 Ti, Ta, Hf, Al, Cu, Ag 또는 이들의 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치의 제조방법
15 15
제11항에 있어서,상기 표면산화층은 상기 저항변화층에 비해, 산소 공공의 이동도가 낮은 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치의 제조방법
16 16
일 방향으로 연장되는 워드 라인;상기 워드 라인 상에서 상기 워드 라인에 교차하는 비트 라인; 및상기 워드 라인 및 비트 라인의 사이에 배치되는 시냅스 장치를 포함하고,상기 시냅스 장치는,상기 워드 라인 상에 배치되는 표면산화층; 및상기 표면산화층 상에 배치되는 저항변화층을 포함하며,상기 비트 라인은 상기 저항변화층 상에 배치되고,상기 표면산화층 및 저항변화층의 이중층에서 도전성 필라멘트의 형성 및 소멸이 이루어져 온-오프 상태가 변화되도록 구성되는, 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 회로 소자
17 17
제16항에 있어서,상기 표면산화층은, 상기 워드 라인을 구성하는 재질의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 뉴로모픽 시스템 응용을 위한 시냅스 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 포항공과대학교 산학협력단 미래유망융합기술파이오니어사업 뉴로모픽 (NEUROMORPHIC) 소자용 고집적 시냅스 소자 및 집적공정 개발