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연마입자;산화제; 및 돌출 및 침식 연마 개선제;를 포함하고,상기 돌출 및 침식 개선제는, 질소를 함유하는 고분자를 포함하는 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 돌출 및 침식 개선제는, 폴리에틸렌이민, 폴리부틸렌이민, 폴리프로필렌이민, 폴리아크릴아마이드, 폴리알릴아민 및 N,N-디에틸시클로헥실아민으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 돌출 및 침식 개선제의 중량평균 분자량(Mw)은 1,000 내지 100,000인 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 돌출 및 침식 개선제의 농도는, 상기 텅스텐 연마용 슬러리 조성물 중 100 ppm 내지 5,000 ppm인 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 연마입자는,금속산화물, 유기물 또는 무기물로 코팅된 금속산화물, 및 콜로이달 상태의 상기 금속산화물로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 금속산화물은 실리카, 세리아, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 바륨티타니아, 게르마니아, 망가니아 및 마그네시아로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 연마입자의 크기는, 10 nm 내지 200 nm인 단일 사이즈 입자 또는 2종 이상의 혼합 입자인 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 연마입자는, 상기 텅스텐 연마용 슬러리 조성물 중 1 중량% 내지 5 중량%인 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 산화제는, 과산화수소, 우레아 과산화수소, 우레아, 과탄산염, 과요오드산, 과요오드산염, 과염소산, 과염소산염, 과브롬산, 과브롬산염, 과붕산, 과붕산염, 과망간산, 과망간산염, 과황산염, 브롬산염, 염소산염, 아염소산염, 크롬산염, 요오드산염, 요오드산, 과산화황산암모늄, 벤조일 퍼옥사이드, 칼슘 퍼옥사이드, 바륨 퍼옥사이드, 소듐 퍼옥사이드 및 과산화요소로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 산화제는, 상기 텅스텐 연마용 슬러리 조성물 중 0
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제1항에 있어서,상기 텅스텐 연마용 슬러리 조성물의 pH는, 1 내지 5의 범위를 가지는 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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제1항에 있어서,상기 텅스텐 연마용 슬러리 조성물을 이용한 텅스텐 함유 웨이퍼의 연마 후, 패턴밀도가 50%일 때 텅스텐 돌출 높이는 160 Å 이하인 것인, 텅스텐 연마용 슬러리 조성물
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