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금속 촉매 패턴을 이용한 금속 배선 형성방법 및 이에 의한 금속 배선

  • 기술번호 : KST2018008002
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속 촉매 패턴을 이용한 금속 배선 형성방법 및 이에 의한 금속 배선에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 금속 이온, 고분자 및 용매를 포함하는 코팅액을 준비하여 상기 코팅액을 기판 상에 도포시켜 코팅층을 형성하고, 상기 코팅층 상에 마스크 패턴을 위치시킨 후, 자외선(UV)를 조사하여 금속나노입자를 포함하는 금속 촉매 패턴을 형성하고, 상기 금속 촉매 패턴을 도금시켜 금속 배선을 형성하는 방법을 제공한다. 따라서 본 발명은 자외선(UV)을 조사하는 과정을 통해 금속이온이 환원에 의해 금속나노입자로 변형되기 때문에, 금속 배선 형성 과정에서 열적 변형에 대한 문제없이 균일한 촉매의 분산이 가능하며, 금속 배선을 제조하는데 도금용 금속 사용을 절감하여 공정 운영시간적 측면 및 비용적 측면에서 효과적이다.
Int. CL H01B 13/00 (2006.01.01) H01B 5/14 (2006.01.01) C09D 5/24 (2006.01.01) C09D 7/00 (2018.01.01) C23C 18/16 (2006.01.01) C23C 18/31 (2006.01.01) C23C 18/30 (2006.01.01)
CPC H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01) H01B 13/0026(2013.01)
출원번호/일자 1020160166693 (2016.12.08)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-2026617-0000 (2019.09.24)
공개번호/일자 10-2018-0066362 (2018.06.19) 문서열기
공고번호/일자 (20191001) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.12.08)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이홍기 대한민국 인천광역시 연수구
2 이창면 대한민국 인천광역시 연수구
3 허진영 대한민국 인천 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한상수 대한민국 서울시 서초구 효령로**길 ** *층 (브릿지웰빌딩)(에이치앤피국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2016-1204658-29
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.10.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.11.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0029096-24
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.04.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0250466-75
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.06.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0571767-51
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2018-0571796-75
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2018.10.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0678778-20
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.12.05 수리 (Accepted) 1-1-2018-1217505-26
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.12.31 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-1323947-02
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-1323956-13
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0386061-22
13 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
2019.07.01 수리 (Accepted) 1-1-2019-0672375-93
14 법정기간연장승인서
2019.07.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0108107-38
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2019-0746591-17
16 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.07.22 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-0746585-32
17 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0592555-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속이온, 고분자 및 용매를 포함하는 코팅용액을 준비하는 단계;상기 코팅용액을 기판 상에 도포하여 코팅층을 형성하는 단계;상기 코팅층 상에 마스크 패턴을 위치시킨 후, 상기 마스크 패턴 사이로 자외선(UV)을 조사하여 상기 자외선이 조사된 코팅층 영역의 금속이온을 금속나노입자로 환원시켜 금속 촉매 패턴을 형성하는 단계; 및상기 금속 촉매 패턴을 도금시켜 금속 배선을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 금속 촉매 패턴을 형성하는 단계는 상기 자외선을 조사하여 상기 자외선이 조사된 코팅층 영역의 고분자가 광산화되고, 상기 광산화에 의해 발생되는 전자로 인해 상기 금속이온이 금속나노입자로 환원되는 것을 특징으로 하고,상기 코팅용액에 금속나노입자 응집 방해제를 더 첨가하는 것을 특징으로 하고,상기 코팅층에 조사되는 자외선(UV)은 파장이 200 nm 내지 400 nm 자외선(UV)인 것을 특징으로 하고, 상기 코팅층에 자외선(UV)을 조사할 때, 조사시간은 1 분 내지 2 시간인 것을 특징으로 하고,상기 고분자는 상기 코팅용액 내에 5 wt% 내지 22 wt% 포함되어 있는 것을 특징으로 하고,상기 고분자는 폴리스티렌(polystyrene), 폴리메틸 메타아크릴레이트(polymethyl metacrylate), 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene), 폴리비닐 아세테이트(poly(vinyl acetate)) 및 폴리비닐 부티랄(polyvinyl butyral) 중 선택되는 1종 이상의 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 금속 촉매 패턴을 형성하는 단계 및 상기 금속 배선을 형성하는 단계 사이에 상기 자외선(UV)이 조사되지 않은 코팅층 영역을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 배선 형성방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 금속이온은 은이온, 팔라듐이온, 코발트이온, 니켈이온, 금이온 및 구리이온 중 선택되는 1종 이상의 금속이온인 것을 특징으로 하는 금속 배선 형성방법
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서,상기 용매는 N,N-디메틸포름아마이드(N,N-dimethylformamide, DMF), 디클로로메탄(dichloromethane), 메틸렌 클로라이드(methylene chloride), 포믹 애시드(formic acid), 이소프로필 알콜(isopropyl alcohol) 및 디메틸아세트아마이드(dimethylacetamide) 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 배선 형성방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 코팅용액을 기판 상에 도포하는 방법은 스핀 코팅(spin-coating)을 이용하는 것을 특징으로 하는 금속 배선 형성방법
7 7
제 6항에 있어서,상기 스핀 코팅(spin-coating)은 300 rpm 내지 2500 rpm 속도로 10 초 내지 120 초 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 금속 배선 형성방법
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
제 1항에 있어서,상기 도금은 무전해 도금법에 의하는 것을 특징으로 하는 금속 배선 형성방법
13 13
제 1항에 있어서,상기 도금을 하는 경우 도금 금속은 구리, 니켈, 크롬, 아연, 주석 및 알루미늄 중 선택되는 1종 이상의 금속인 것을 특징으로 하는 금속 배선 형성방법
14 14
제 1항의 금속 배선 형성방법에 따라 제조된 금속 배선
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 기획재정부 사업 한국생산기술연구원 기관고유임무형 세부사업: 역량강화과제 고종횡비 금속 나노튜브 기반 투명전극 제조 기술(1/1)