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이차원 탄소소재 상에 일차원 탄소소재를 성장시켜 삼차원 탄소나노구조체를 제조하는 제1단계; 및상기 삼차원 탄소나노구조체 및 산소를 포함하는 관능기를 갖는 표면개질제를 반응시켜 상기 삼차원 탄소나노구조체 표면에 상기 산소를 포함하는 관능기를 부착시키는 제2단계;를 포함하는 삼차원 탄소나노구조체 제조방법으로서, 상기 삼차원 탄소나노구조체의 표면에 히드록시기를 부착시키는 전처리단계;를 더 포함하는 삼차원 탄소나노구조체 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 산소를 포함하는 관능기는 에폭사이드 관능기인 것을 특징으로 하는 삼차원 탄소나노구조체 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 산소를 포함하는 관능기는 상기 일차원 탄소소재 및 상기 이차원 탄소소재의 표면 전체에 형성된 것인 삼차원 탄소나노구조체 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 표면개질제는 3-(글리시딜옥시프로필)트리메톡시실란인 것을 특징으로 하는 삼차원 탄소나노구조체 제조방법
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삭제
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청구항 1에 있어서, 상기 제1단계는 상기 이차원 탄소소재 표면에 상기 일차원 탄소소재 성장을 위한 금속촉매를 담지하고, 상기 금속촉매로부터 상기 일차원 탄소소재를 성장시키되, 상기 금속촉매는 성장된 일차원 탄소소재의 상단 팁에 위치하도록 수행되는 것을 특징으로 하는 삼차원 탄소나노구조체 제조방법
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삭제
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청구항 1에 있어서, 상기 전처리단계는 상기 삼차원 탄소나노구조체에 UV 및 O3를 적용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 삼차원 탄소나노구조체 제조방법
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이차원 탄소소재 상에 일차원 탄소소재를 성장시켜 삼차원 탄소나노구조체를 제조하는 제1단계; 상기 삼차원 탄소나노구조체 및 산소를 포함하는 관능기를 갖는 표면개질제를 반응시켜 상기 삼차원 탄소나노구조체 표면에 상기 산소를 포함하는 관능기를 부착시키는 제2단계; 및표면이 개질된 삼차원 탄소나노구조체를 고분자 수지와 혼합하는 제3단계;를 포함하는 고분자 수지 복합체 제조방법으로서, 상기 삼차원 탄소나노구조체의 표면에 히드록시기를 부착시키는 전처리단계;를 더 포함하는 고분자 수지 복합체 제조방법
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청구항 9에 있어서, 상기 고분자 수지는 에폭시 수지, 에틸렌비닐아세테이트, 폴리우레탄, 폴리이미드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 설폰, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리다이메틸실록세인, 실리콘수지 및 이들의 조합으로 구성된 군으로부터 선택된 것인 고분자 수지 복합체 제조방법
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청구항 9에 있어서, 상기 삼차원 탄소나노구조체는 상기 고분자 수지 전체의 중량을 기준으로 0
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청구항 9에 있어서, 상기 전처리단계는 상기 삼차원 탄소나노구조체에 UV 및 O3를 적용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 고분자 수지 복합체 제조방법
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