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유기 단량체가 중합된 유기 고분자 화합물이 유기금속 전구체와 화학 결합으로 가교된 유-무기 복합체를 포함하는 단일층의 유-무기 하이브리드 필름이고,상기 화학 결합은 Me-(O, S, 또는 N)-C 결합을 포함하고,상기 단일층의 내부에 상기 화학결합이 존재하는,유-무기 하이브리드 필름
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제 1항에서,상기 유-무기 복합체에서, 상기 유기금속 전구체의 금속과 탄소의 함량은 아래 식 1을 만족하는 것인,유-무기 하이브리드 필름
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제 1항에서,상기 유-무기 복합체에서, 상기 유기금속 전구체의 금속의 함량은, 상기 유-무기 복합체를 구성하는 원소들의 총 원자 100원자%에 대하여, 25원자% 이하인 것인,유-무기 하이브리드 필름
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4
제 1항에서,상기 유기 단량체는, 하기 구조식 1로 표시되는 것이고,상기 유기금속 전구체는 알킬(alkyl)기를 포함하는 것인,유-무기 하이브리드 필름
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제 4항에서,상기 유기금속 전구체는 하기 구조식 3으로 표시되는 것인,유-무기 하이브리드 필름
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삭제
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제 5항에서,상기 화학 결합은 Me-(O, S, 또는 N)-Me-(O, S, 또는 N)-C 결합을 포함하는 것인,유-무기 하이브리드 필름
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8
제 1항에서,표면조도 Rq는 0
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9
제 1항에서,상기 화학결합은 상기 단일층의 내부에 불규칙적으로 분산되어 존재하는,유-무기 하이브리드 필름
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10
기판이 장입된 챔버에 기화된 유기 단량체, 유기금속 전구체, 및 개시제를 동시에 주입하면서 열을 가해, 유기 단량체가 중합된 유기 고분자 화합물이 유기금속 전구체와 화학 결합으로 가교되고, 상기 화학 결합은 Me-(O, S, 또는 N)-C 결합을 포함하는 것인 유-무기 복합체를 포함하며, 내부에 상기 화학결합이 존재하는 단일층의 유-무기 하이브리드 필름을 제조하는 단계를 포함하는,iCVD 공정을 이용한 유-무기 하이브리드 필름의 제조 방법
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11
제 10항에서,상기 기판의 온도는 10℃ 이상 200℃이하인 것인,iCVD 공정을 이용한 유-무기 하이브리드 필름의 제조 방법
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12
제 10항에서,상기 유기 단량체의 주입 유량에 대한 상기 유기금속 전구체의 주입 유량은,0
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13
제 10항에서,상기 유-무기 하이브리드 필름을 제조하는 단계 이후에,상기 제조된 유-무기 하이브리드 필름을 열처리하는 단계를 더 포함하는 것인,iCVD 공정을 이용한 유-무기 하이브리드 필름의 제조 방법
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제 13항에서,상기 제조된 유-무기 하이브리드 필름을 열처리하는 단계에서,열처리 온도는 60℃ 이상 250℃ 이하인 것인,iCVD 공정을 이용한 유-무기 하이브리드 필름의 제조 방법
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제 10항에서,상기 단일층의 유-무기 하이브리드 필름은 내부에 상기 화학결합이 불규칙적으로 분산되어 존재하는 것인,iCVD 공정을 이용한 유-무기 하이브리드 필름의 제조 방법
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제 1항 내지 제 5항, 및 제 7항 내지 제 9항 중 어느 한 항의 유-무기 하이브리드 필름을 포함하는, 절연막
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제 1항 내지 제 5항, 및 제 7항 내지 제 9항 중 어느 한 항의 유-무기 하이브리드 필름을 포함하는, 봉지막
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