1 |
1
서로 나란하게 이격 배치된 제1 개구부 및 제2 개구부를 갖는 하부층 구조물;상기 제1 및 제2 개구부들을 커버하여 제1 및 제2 챔버들을 각각 정의하고 상기 제1 및 제2 챔버들 내부의 압력에 의해 상하로 변형 가능한 제1 및 제2 가변형 박막들;상기 하부층 구조물 상에서 탄성체와 접촉하도록 돌출하여 상기 제1 및 제2 가변형 박막들을 상기 탄성체로부터 이격 지지하기 위한 지지층 구조물;상기 제1 및 제2 챔버들 내에 압력을 인가하여 상기 제1 및 제2 가변형 박막들을 상기 탄성체를 향하도록 변형시키기 위한 구동부; 및상기 제1 및 제2 가변형 박막들의 변형을 검출하기 위한 제1 및 제2 변형 검출부들을 포함하고,상기 구동부에 의해 상기 제1 및 제2 챔버들 내부의 압력이 제1 압력에서 제2 압력으로 증가할 때 상기 제1 가변형 박막은 상기 탄성체와 접촉한 상태로 변형되는 반면, 상기 제2 가변형 박막은 상기 탄성체와 접촉하지 않은 상태로 변형되어 상기 제1 및 제2 변형 검출부들은 상기 제1 및 제2 가변형 박막들의 측정된 변형의 차이값을 이용하여 상기 탄성체의 탄성도를 측정하고,상기 제1 가변형 박막은 표면 상에 기 설정된 높이를 갖는 돌기부를 포함하고, 상기 제1 챔버의 압력이 상기 제1 압력에서 상기 제2 압력으로 증가할 때 상기 돌기부가 상기 탄성체와 접촉 가압하는탄성도 측정 장치
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 챔버들 내부의 압력이 제1 압력에서 제2 압력으로 증가할 때 상기 제1 및 제2 가변형 박막들은 서로 동일한 변위만큼 변형하는 탄성도 측정 장치
|
4 |
4
제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 개구부들은 서로 동일한 면적을 갖는 탄성도 측정 장치
|
5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 제1 개구부는 제2 개구부의 면적보다 더 큰 탄성도 측정 장치
|
6 |
6
제 5 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 챔버들 내부의 압력이 제1 압력에서 제2 압력으로 증가할 때 상기 제1 가변형 박막은 제1 변위만큼 변형하고 상기 제2 가변형 박막은 상기 제1 변위보다 작은 제2 변위만큼 변형하는 탄성도 측정 장치
|
7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부는 연결 통로에 의해 서로 연통된 탄성도 측정 장치
|
8 |
8
제 1 항에 있어서, 상기 구동부는 상기 제1 및 제2 챔버들 내의 온도를 증가시키기 위한 히터, 상기 제1 및 제2 챔버들 내에 유체를 공급하여 압력을 증가시키기 위한 유압식 공급기, 상기 제1 및 제2 가변형 박막들 내에 압전 물질로 구성되어 상기 제1 및 제2 가변형 박막들을 가변시키기 위한 압전식 구동기, 또는 자성 물질 또는 코일로 구성되어 상기 제1 및 제2 가변형 박막들을 가변시키기 위한 전자기식 구동기를 포함하는 탄성도 측정 장치
|
9 |
9
제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 변형 검출부들은 상기 제1 및 제2 가변형 박막들의 변형에 따른 전극 패턴의 저항 변화를 검출하기 위한 압저항 검출기, 또는 정전 용량의 변화를 검출하기 위한 정전 용량 검출기를 포함하는 탄성도 측정 장치
|
10 |
10
제 1 항에 있어서, 상기 지지층 구조물은 상기 제1 및 제2 가변형 박막들 둘레에 배치된 복수 개의 기둥들을 포함하는 탄성도 측정 장치
|
11 |
11
제 1 항에 있어서, 상기 지지층 구조물 상에 배치되어 상기 탄성체와의 접촉 여부를 검출하기 위한 접촉 센서부를 더 포함하는 탄성도 측정 장치
|
12 |
12
연결 통로에 의해 서로 연통되고 서로 나란하게 이격 배치된 제1 챔버 및 제2 챔버를 갖는 챔버층 구조물;상기 챔버층 구조물의 상부면에서 상기 제1 및 제2 챔버들 각각의 일측벽을 구성하며, 상기 제1 및 제2 챔버들 내부의 압력에 의해 변형 가능한 제1 및 제2 가변형 박막들;상기 챔버층 구조물 상에서 탄성체와 접촉하도록 돌출하며 상기 제1 및 제2 가변형 박막들 둘레에 배치되는 복수 개의 기둥들을 포함하고 상기 제1 및 제2 가변형 박막들을 상기 탄성체로부터 이격 지지하기 위한 지지층 구조물;상기 제1 및 제2 챔버들 내에 압력을 인가하여 상기 제1 및 제2 가변형 박막들을 변형시키기 위한 구동부; 및상기 제1 및 제2 가변형 박막들의 변형을 검출하기 위한 제1 및 제2 변형 검출부들을 포함하고,상기 구동부에 의해 상기 제1 및 제2 챔버들 내부의 압력이 제1 압력에서 제2 압력으로 증가할 때 상기 제1 가변형 박막은 상기 탄성체와 접촉한 상태로 변형되는 반면, 상기 제2 가변형 박막은 상기 탄성체와 접촉하지 않은 상태로 변형되도록 구성되어 상기 제1 및 제2 변형 검출부들은 상기 제1 및 제2 가변형 박막들의 측정된 변형의 차이값을 이용하여 상기 탄성체의 탄성도를 측정하는 탄성도 측정 장치
|
13 |
13
제 12 항에 있어서, 상기 제1 가변형 박막은 표면 상에 기 설정된 높이를 갖는 돌기부를 포함하고,상기 제1 챔버 내부의 압력이 상기 제1 압력에서 상기 제2 압력으로 증가할 때 상기 돌기부가 상기 탄성체와 접촉하는 탄성도 측정 장치
|
14 |
14
제 13 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 챔버들 내부의 압력이 제1 압력에서 제2 압력으로 증가할 때 상기 제1 및 제2 가변형 박막들은 서로 동일한 변위만큼 변형하는 탄성도 측정 장치
|
15 |
15
제 13 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 가변형 박막들은 서로 동일한 면적을 갖는 탄성도 측정 장치
|
16 |
16
제 12 항에 있어서, 상기 제1 가변형 박막은 상기 제2 가변형 박막의 면적보다 더 큰 탄성도 측정 장치
|
17 |
17
제 12 항에 있어서, 상기 구동부는 상기 제1 및 제2 챔버들 내의 온도를 증가시키기 위한 히터를 포함하는 탄성도 측정 장치
|
18 |
18
제 12 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 변형 검출부들은 상기 제1 및 제2 가변형 박막들의 변형에 따른 전극 패턴의 저항 변화를 검출하기 위한 압저항 검출기, 또는 정전 용량의 변화를 검출하기 위한 정전 용량 검출기를 포함하는 탄성도 측정 장치
|
19 |
19
삭제
|
20 |
20
삭제
|
21 |
21
제 12 항에 있어서, 상기 지지층 구조물 상에 배치되어 상기 탄성체와의 접촉을 통한 온도 또는 습도의 물질 특성을 검출하기 위한 접촉 센서부를 더 포함하는 탄성도 측정 장치
|