| 1 |
1
복사성 방출의 측정 명령의 발생에 연동하여,피시험기기에 의해 방출되는 복사 전력을, 전자파 잔향실 내부의 수신 안테나의 방향을 변경하여, 복수의 측정 방향에서 수집하는 단계; 및상기 측정 방향 각각으로 수집된 복사 전력에 관한 데이터를 이용하여, 상기 전자파 잔향실 내부의 복사 전기장의 세기를 도출하는 단계를 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 복수의 측정 방향에서 수집하는 단계는,상기 수신 안테나를, 상기 측정 명령에 따라 설정된 복수의 측정 방향 각각으로 순차적으로 변경하도록 제어하여, 각 측정 방향 마다 상기 복사 전력을 수집하는 단계를 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,빔 형성 안테나(Beam Forming Antenna) 및 포지셔너(Positioner) 중 적어도 하나를 이용하여, 상기 복수의 측정 방향 각각으로 상기 수신 안테나를 변경시키는 단계; 및측정 방향의 변경시 마다, 각 측정 방향에 대해 상기 피시험기기로부터의 복사 전력을 수집하는 단계를 더 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 복수의 측정 방향에서 수집하는 단계는,상기 복사 전력의 측정 시간과, 상기 전자파 잔향실 및 상기 피시험기기의 특징을 고려하여, 상기 수신 안테나의 방향을, X축과 Y축 및 Z축 중 어느 하나로 변경하면서 상기 복사 전력을 수집하는 단계를 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 수신 안테나가 다축 안테나일 경우,상기 다축 안테나를 구성하는 각각의 축이 이루는 축 방향에서, 상기 복사 전력을 동시에 수집하는 단계를 더 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 전자파 잔향실 내부의 작업 공간에서 이동 가능하게 설치된 상기 수신 안테나의 위치를 변경하는 단계; 및상기 위치 각각으로 수집된 복사 전력에 관한 데이터를 이용하여, 상기 전자파 잔향실 내부의 복사 전기장의 세기를 도출하는 단계를 더 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 수신 안테나의 방향을 변경하면서, 상기 복사 전력을 수집 시, 상기 전자파 잔향실의 성능 파라미터로서 챔버 검증 인자(Chamber Validation Factor, CVF)를 도출하는 단계를 더 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 복사 전기장의 세기를 도출하는 단계는,상기 수집된 복사 전력의 평균치를 연산하고, 상기 평균치로부터, 상기 전자파 잔향실 내부의 복사 전기장의 세기를 도출하는 단계를 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 피시험기기의, 기준시험시설에서 측정된 전기장의 세기를 획득하는 단계;상기 복사 전기장의 세기를, 상기 기준시험시설에서 측정된 전기장의 세기와 비교하여, 피어슨 상관계수(Pearson correlation coefficient)를 산출하는 단계; 및선정된 범위에 속하는 피어슨 상관계수가 산출되면, 상기 복사 전기장의 세기를 타당한 것으로 검증하거나, 또는 상기 전자파 잔향실을, 전자파 적합성 시험시설로서 활용 가능으로 판단하는 단계를 더 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 방법
|
| 10 |
10
복사성 방출의 측정 명령의 발생에 연동하여,피시험기기에 의해 방출되는 복사 전력을, 전자파 잔향실 내부의 수신 안테나의 방향을 변경하여, 복수의 측정 방향에서 수집하는 컨트롤러; 및상기 측정 방향 각각으로 수집된 복사 전력에 관한 데이터를 이용하여, 상기 전자파 잔향실 내부의 복사 전기장의 세기를 도출하는 프로세서를 포함하는 전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 시스템
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 컨트롤러는,상기 수신 안테나를, 상기 측정 명령에 따라 설정된 복수의 측정 방향 각각으로 순차적으로 변경하도록 제어하여, 각 측정 방향 마다 상기 복사 전력을 수집하는전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 시스템
|
| 12 |
12
제10항에 있어서,상기 컨트롤러는,빔 형성 안테나 및 포지셔너 중 적어도 하나를 이용하여, 상기 복수의 측정 방향 각각으로 상기 수신 안테나를 변경시키고, 측정 방향의 변경시 마다, 각 측정 방향에 대해 상기 피시험기기로부터의 복사 전력을 수집하는전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 시스템
|
| 13 |
13
제10항에 있어서,상기 컨트롤러는,상기 전자파 잔향실 내부의 작업 공간에서 이동 가능하게 설치된 상기 수신 안테나의 위치를 변경하고,상기 프로세서는,상기 위치 각각으로 수집된 복사 전력에 관한 데이터를 이용하여, 상기 전자파 잔향실 내부의 복사 전기장의 세기를 도출하는전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 시스템
|
| 14 |
14
제10항에 있어서,상기 프로세서는,상기 수집된 복사 전력의 평균치를 연산하고, 상기 평균치로부터, 상기 전자파 잔향실 내부의 복사 전기장의 세기를 도출하는전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 시스템
|
| 15 |
15
제10항에 있어서,상기 프로세서는,상기 피시험기기의, 기준시험시설에서 측정된 전기장의 세기를 획득하고,상기 복사 전기장의 세기를, 상기 기준시험시설에서 측정된 전기장의 세기와 비교하여, 피어슨 상관계수를 산출하고,선정된 범위에 속하는 피어슨 상관계수가 산출되면, 상기 복사 전기장의 세기를 타당한 것으로 검증하거나, 또는 상기 전자파 잔향실을, 전자파 적합성 시험시설로서 활용 가능으로 판단하는전자파 잔향실 기반의 복사성 방출 측정 시스템
|
