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광 다이오드에 있어서,제1 바(bar)를 포함하는 제1 메타물질 구조체; 및상기 제1 바와 수직 방향으로 배치된 제2 바(bar)를 포함하는 제2 메타물질 구조체를 포함하고,상기 제1 바 및 상기 제2 바는 이격되어 있고, 상기 제1 바 및 상기 제2 바는 빛의 진행 방향에서 바라보았을 때 적어도 일부가 중첩되며,상기 제1 바는 양측 단부에서 연장되는 제1 암 및 제2 암을 포함하며, 상기 제1 암 및 상기 제2 암은 상기 제1 바를 기준으로 서로 반대방향으로 형성되고,상기 제2 바는 양측 단부에서 연장되는 제3 암 및 제4 암을 포함하며, 상기 제3 암 및 상기 제4 암은 상기 제2 바를 기준으로 서로 반대방향으로 형성되는 것인, 광 다이오드
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제1항에 있어서, 상기 제1 암 및 상기 제2 암은 상기 제1 바에 수직으로 형성되고, 상기 제3 암 및 상기 제4 암은 상기 제2 바에 수직으로 형성되는 것인, 광 다이오드
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제1항 또는 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 메타물질 구조체 및 상기 제2 메타물질 구조체는 금(Au)을 포함하는 것인, 광 다이오드
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 메타물질 구조체 및 상기 제2 메타물질 구조체는 실리콘 육면체 안에 내장되어 있는 것인, 광 다이오드
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제1항 또는 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 빛의 진행 방향에서 바라보았을 때 상기 제1 메타물질 구조체의 상기 제1 바의 중심과 상기 제2 메타물질 구조체의 상기 제2 바의 중심이 중첩되는 것인, 광 다이오드
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제1항에 있어서, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 길이는 300nm 내지 400nm이고, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 이격 거리는 180nm 내지 220nm인 것인, 광 다이오드
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제3항에 있어서, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 길이는 300nm 내지 400nm이고, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 이격 거리는 180nm 내지 220nm이고, 상기 제1 암 및 제2 암의 길이는 100nm 내지 200nm이고, 상기 제1 메타물질 구조체 및 상기 제2 메타물질 구조체 각각의 폭(width)은 40nm 내지 60nm이며, 상기 제1 암, 상기 제2암, 상기 제3 암 및 상기 제4 암 단면의 긴 길이 방향인 세로 길이는 50nm 내지 70nm인 것인, 광 다이오드
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제5항에 있어서, 상기 실리콘 육면체는 정육면체의 형상을 가지며, 상기 실리콘 육면체의 한 변의 길이는 400nm 내지 600nm 인 것인, 광 다이오드
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광 다이오드 제조 방법에 있어서,실리콘 기판 위에 메타물질 하부 구조체를 제작하는 단계;상기 메타물질 하부 구조체 상에 2차 실리콘을 채워넣는 단계; 및상기 2차 실리콘 상에 메타물질 상부 구조체를 제작하는 단계를 포함하며, 상기 메타물질 하부 구조체 및 상기 메타물질 상부 구조체의 제작은 각각 전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography)를 이용하며, 상기 메타물질 하부 구조체는 제1 바(bar)를 포함하고, 상기 메타물질 상부 구조체는 제2 바(bar)를 포함하며, 상기 제1 바 및 상기 제2 바는 서로 수직 방향으로 배치되고,상기 메타물질 하부 구조체의 제1 바는 양측 단부에서 연장되는 제1 암 및 제2 암을 포함하며, 상기 제1 암 및 상기 제2 암은 상기 제1 바를 기준으로 서로 반대방향으로 형성되고,상기 메타물질 상부 구조체의 제2 바는 양측 단부에서 연장되는 제3 암 및 제4 암을 포함하며, 상기 제3 암 및 상기 제4 암은 상기 제2 바를 기준으로 서로 반대방향으로 형성되는 것인, 광 다이오드 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 제1 암 및 상기 제2 암은 상기 제1 바에 수직으로 형성되고, 상기 제3 암 및 상기 제4 암은 상기 제2 바에 수직으로 형성되는 것인, 광 다이오드 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 메타물질 하부 구조체 및 상기 메타물질 상부 구조체는 금(Au)을 포함하는 것인, 광 다이오드 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 메타물질 하부 구조체 및 상기 메타물질 상부 구조체는 실리콘 육면체 안에 내장되어 있는 것인, 광 다이오드 제조 방법
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제10항에 있어서, 빛의 진행 방향에서 바라보았을 때 상기 메타물질 하부 구조체의 상기 제1 바의 중심과 상기 메타물질 상부 구조체의 상기 제2 바의 중심이 중첩되는 것인, 광 다이오드 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 길이는 300nm 내지 400nm이고, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 이격 거리는 180nm 내지 220nm인 것인, 광 다이오드 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 길이는 300nm 내지 400nm이고, 상기 제1 바 및 상기 제2 바의 이격 거리는 180nm 내지 220nm이고, 상기 제1 암 및 제2 암의 길이는 100nm 내지 200nm이고, 상기 하부 메타물질 구조체 및 상기 상부 메타물질 구조체 각각의 폭(width)은 40nm 내지 60nm이며, 상기 제1 암, 상기 제2암, 상기 제3 암 및 상기 제4 암 단면의 긴 길이 방향인 세로 길이는 50nm 내지 70nm인 것인, 광 다이오드 제조 방법
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제15항에 있어서, 상기 실리콘 육면체는 정육면체의 형상을 가지며, 상기 실리콘 육면체의 한 변의 길이는 400nm 내지 600nm 인 것인, 광 다이오드 제조 방법
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3차원 메타물질 구조체에 있어서,제1 바(bar)를 포함하는 제1 메타물질 구조체; 및상기 제1 바와 수직 방향으로 배치된 제2 바(bar)를 포함하는 제2 메타물질 구조체를 포함하고,상기 제1 바 및 상기 제2 바는 이격되어 있고, 상기 제1 바 및 상기 제2 바는 빛의 진행 방향에서 바라보았을 때 적어도 일부가 중첩되며,상기 제1 바는 양측 단부에서 연장되는 제1 암 및 제2 암을 포함하며, 상기 제1 암 및 상기 제2 암은 상기 제1 바를 기준으로 서로 반대방향으로 형성되고,상기 제2 바는 양측 단부에서 연장되는 제3 암 및 제4 암을 포함하며, 상기 제3 암 및 상기 제4 암은 상기 제2 바를 기준으로 서로 반대방향으로 형성되는 것인, 3차원 메타물질 구조체
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제20항에 있어서, 상기 제1 메타물질 구조체 및 상기 제2 메타물질 구조체는 금을 포함하는 것인, 3차원 메타물질 구조체
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