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(a) 금속-인-산화질화물의 전구체를 포함하는 코팅 조성물을 제조하는 단계;(b) 상기 코팅 조성물을 용액 공정에 의해 음극 활물질 상에 전구체층을 형성하는 단계; 및(c) 상기 전구체층이 형성된 음극 활물질을 열처리하여 음극 활물질 상에 금속-인-산화질화물 보호층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 금속-인-산화질화물의 전구체는 인-질소 결합을 포함하는 화합물 및 금속염 화합물의 반응에 의해 생성되는 것이고,상기 인-질소 결합을 포함하는 화합물은 하기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물 중 1종 이상을 포함하는 음극 활물질의 제조방법:[화학식 1](상기 화학식 1에서,X1은 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 OR1, F, Cl, Br 또는 I이고, 이때 R1은 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다
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제1항에 있어서,상기 금속염 화합물은 리튬, 나트륨, 마그네슘, 칼슘, 아연 및 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, 음극 활물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅 조성물은 인-질소 결합을 포함하는 화합물, 금속염 화합물 및 유기 용매를 포함하는, 음극 활물질의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 코팅 조성물은 전체 조성물 100 중량%을 기준으로,인-질소 결합을 포함하는 화합물 0
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제5항에 있어서,상기 코팅 조성물은 칼코겐 화합물을 추가로 포함하는, 음극 활물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 음극 활물질은 리튬 금속, 리튬 합금, 전이금속 복합 산화물, 실리콘계 물질 및 탄소계 물질로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, 음극 활물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 음극 활물질은 구형, 타원형, 방추형, 인편형, 판상형, 섬유형, 막대형, 코어-쉘형 또는 비정형의 형상인, 음극 활물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서 용액 공정은 스프레이 코팅, 스핀 코팅, 딥 코팅, 잉크젯 프린팅, 오프셋 프린팅, 리버스 오프셋 프린팅, 그라비어 프린팅 및 롤 프린팅 중 적어도 어느 하나의 방법을 이용하는, 음극 활물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서 열처리는 150 ℃ 이상 500 ℃ 미만의 온도 범위에서 수행하는, 음극 활물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계 이전에 상기 (b) 단계로부터 형성된 전구체층에 포함된 유기 용매를 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 음극 활물질의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계로부터 형성된 금속-인-산화질화물 보호층은 비정질의 금속-인-산화질화물 또는 이의 유도체를 포함하는, 음극 활물질의 제조방법
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제1항 및 제4항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 음극 활물질
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제14항에 있어서,상기 음극 활물질은 음극 활물질 상의 적어도 일부에 형성된 금속-인-산화질화물 보호층을 포함하는, 음극 활물질
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제15항에 있어서,상기 금속-인-산화질화물 보호층은 음극 활물질 전체 100 중량%를 기준으로 0
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제15항에 있어서,상기 금속-인-산화질화물 보호층의 두께는 1 내지 1000 ㎚인, 음극 활물질
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제14항에 따른 음극 활물질을 포함하는 리튬 이차전지
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