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마스크 패턴을 이용한 과식각 검사방법

  • 기술번호 : KST2019008300
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 마스크 패턴을 이용한 과식각 검사방법은 차례로 적층된 제1 물질층 및 제2 물질층을 포함하는 식각 대상막을 제공하는 것, 상기 식각 대상막 상에 마스크 패턴을 형성하되, 상기 마스크 패턴은 상기 제2 물질층의 상면을 노출하는 제1 개구부를 포함하는 것, 상기 마스크 패턴을 식각 마스크로 이용하여 상기 제2 물질층을 식각함으로써, 상기 제2 물질층 내에 상기 제1 개구부와 수직적으로 중첩하는 제2 개구부를 형성하는 것, 및 상기 제2 개구부에 의해 노출되는 상기 제1 물질층의 상면의 면적에 따라 상기 식각 대상막의 과식각 정도를 검사하는 것을 포함하되, 상기 제1 개구부는 상기 식각 대상막의 상면에 평행한 제1 방향에 따른 폭을 가지고, 상기 제1 개구부의 상기 폭은 상기 식각 대상막의 상기 상면에 평행하고 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향을 따라 증가할 수 있다.
Int. CL H01L 21/66 (2006.01.01) H01L 21/027 (2006.01.01) H01L 29/778 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020180046312 (2018.04.20)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0064377 (2019.06.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020170163655   |   2017.11.30
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조규준 대전광역시 유성구
2 민병규 세종특별자치시
3 강동민 대전광역시 유성구
4 김동영 대전시 유성구
5 김성일 대전시 유성구
6 김정진 전라북도 전주시 완산구
7 김진식 대전광역시 유성구
8 김해천 대전광역시 유성구
9 도재원 대전광역시 유성구
10 문재경 대전광역시 유성구
11 배성범 대전시 유성구
12 신민정 대전광역시 유성구
13 안호균 대전광역시 유성구
14 윤형섭 대전시 유성구
15 이상흥 대전시 서구
16 이종민 대전시 유성구
17 이형석 대전광역시 서구
18 임종원 대전광역시 서구
19 장성재 대전광역시 유성구
20 장우진 대전시 서구
21 장유진 대전광역시 유성구
22 정현욱 대전광역시 유성구
23 지홍구 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2018.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2018-0397754-20
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번호 청구항
1 1
차례로 적층된 제1 물질층 및 제2 물질층을 포함하는 식각 대상막을 제공하는 것;상기 식각 대상막 상에 마스크 패턴을 형성하되, 상기 마스크 패턴은 상기 제2 물질층의 상면을 노출하는 제1 개구부를 포함하는 것;상기 마스크 패턴을 식각 마스크로 이용하여 상기 제2 물질층을 식각함으로써, 상기 제2 물질층 내에 상기 제1 개구부와 수직적으로 중첩하는 제2 개구부를 형성하는 것; 및상기 제2 개구부에 의해 노출되는 상기 제1 물질층의 상면의 면적에 따라 상기 식각 대상막의 과식각 정도를 검사하는 것을 포함하되,상기 제1 개구부는 상기 식각 대상막의 상면에 평행한 제1 방향에 따른 폭을 가지고, 상기 제1 개구부의 상기 폭은 상기 식각 대상막의 상기 상면에 평행하고 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향을 따라 증가하는 과식각 검사방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국전자통신연구원 ETRI연구개발지원사업 고효율 GaN 기반 기지국/단말기용 핵심부품 및 모듈 개발