| 1 |
1
고분자 베이스 수지;소수성 고분자 및 친수성 고분자를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 양친매성 블록공중합체;금속염; 및유기용매를 포함하는 고분자 분리막 제조용 조성물:[화학식 1]상기 화학식 1에서, 상기 R1는 소수기이고, R2는 친수기이며, n 및 m은 각각 독립적으로 1 내지 100 중에서 선택되는 하나의 정수이다
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 양친매성 블록공중합체는, 상기 소수성 고분자로 폴리스타이렌(PS), 폴리아크릴레이트(PA), 폴리메타크릴레이트(PMA), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리메틸실록산(PDMS), 폴리비닐리덴 플로라이드(PVDF), 폴리테트라플루오르에틸렌(PTFE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리비닐라이덴 클로라이드(PVDC), 폴리아마이드(PA) 및 폴리이미드(PI)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하고,상기 친수성 고분자로 폴리에틸렌글리콜(PEG), 폴리올리고에틸렌글리콜에테르메타크릴레이트(POEGMEA), 폴리올리고에틸렌글리콜에테르아크릴레이트(POEGMEMA), 폴리아크릴산 (PAA), 폴리메타크릴산(PMAA), 폴리에칠렌이민(PEI), 폴리아크릴아마이드(PAAM), 폴리메타크릴아마이드(PMAAM), 폴리스치렌술폰산(PSSA), 폴리2-메틸옥사졸린(PMO) 및 폴리2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트(PDMAEMA)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 고분자 분리막 제조용 조성물
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 금속염은 리튬클로라이드(LiCl), 과염소산리튬(LiClO4), 염화아연(ZnCl2), 염화구리(CuCl2) 및 디클로로메탄(CH2Cl2)으로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 포함하는, 고분자 분리막 제조용 조성물
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 고분자 베이스 수지는, 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스계 고분자, 폴리아마이드계 고분자; 폴리술폰(PSf), 폴리에테르케톤(PEK), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리비닐라이덴 플로라이드 (PVDF), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리비닐클로라이드(PVC) 및 폴리비닐라이덴 클로라이드(PVDC)으로 이루어진 군에서 선택된1종 이상을 포함하는, 고분자 분리막 제조용 조성물
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 유기 용매는 디메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸-2-피롤리디논(NMP) 및 디메틸포름아마이드(DMF)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 고분자 분리막 제조용 조성물
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 분리막 제조용 조성물은 조성물 총 중량에 대하여, 고분자 베이스 수지를 5 내지 30 중량%;양친매성 블록공중합체를 1 내지 35 중량%금속염을 1 내지 20 중량%; 및유기 용매를 50 내지 93 중량%로 포함하는, 고분자 분리막 제조용 조성물
|
| 7 |
7
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 고분자 분리막 제조용 조성물을 기재 상에 도포하는 단계; 및상기 기재 상에 도포된 조성물을 물에 함침시키는 비용매 유도 상전이 단계;를 포함하는 고분자 분리막의 제조 방법
|
| 8 |
8
제 7 항에 있어서,상기 기재 상에 도포되는 고분자 분리막 제조용 조성물의 두께가 10 ㎛ 내지 300 ㎛인, 고분자 분리막의 제조 방법
|
| 9 |
9
제 7 항에 있어서,상기 기재는 부직포, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지 및 셀룰로스아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하고 필름형 구조를 갖는 것인, 고분자 분리막의 제조 방법
|
| 10 |
10
제 7 항에 있어서, 상기 비용매 유도 상전이 단계는, 상기 기재 상에 도포된 조성물을 10 내지 50 °C의 온도의 물에 10분 내지 30분 동안 함침시키는 것을 포함하는, 고분자 분리막의 제조방법
|
| 11 |
11
제 7 항에 있어서, 상기 비용매 유도 상전이 단계 이후 상전이된 결과물을 증류수에 보관하는 단계를 더 포함하는, 고분자 분리막의 제조 방법
|
| 12 |
12
고분자 베이스 수지; 및 소수성 고분자 및 친수성 고분자를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 양친매성 블록공중합체를 포함하는 고분자 분리막으로, 상기 양친매성 블록공중합체의 소수성 고분자는 상기 고분자 베이스 수지와 결합하고, 상기 친수성 고분자는 상기 고분자 분리막의 표면상에 위치하며,2 ㎚ 내지 100 ㎚의 최대 직경을 갖는 기공을 포함하는 고분자 분리막:[화학식 1]상기 화학식 1에서, 상기 R1는 소수기이고, R2는 친수기이며, n 및 m은 각각 독립적으로 1 내지 100 중에서 선택되는 하나의 정수이다
|
| 13 |
13
제 12 항에 있어서, 상기 양친매성 블록공중합체는, 상기 소수성 고분자로 폴리스타이렌(PS), 폴리아크릴레이트(PA), 폴리메타크릴레이트(PMA), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리메틸실록산(PDMS), 폴리비닐리덴 플로라이드(PVDF), 폴리테트라플루오르에틸렌(PTFE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리비닐라이덴 클로라이드(PVDC), 폴리아마이드(PA) 및 폴리이미드(PI)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하고,상기 친수성 고분자로 폴리에틸렌글리콜(PEG), 폴리올리고에틸렌글리콜에테르메타크릴레이트(POEGMEA), 폴리올리고에틸렌글리콜에테르아크릴레이트(POEGMEMA), 폴리아크릴산 (PAA), 폴리메타크릴산(PMAA), 폴리에칠렌이민(PEI), 폴리아크릴아마이드(PAAM), 폴리메타크릴아마이드(PMAAM), 폴리스치렌술폰산(PSSA), 폴리2-메틸옥사졸린(PMO) 및 폴리2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트(PDMAEMA)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 고분자 분리막
|
| 14 |
14
제 12 항에 있어서, 상기 고분자 분리막은 35 내지 110 LMH(L m-2 h-1)의 투과 유량을 갖는, 고분자 분리막
|
| 15 |
15
삭제
|
| 16 |
16
제 12 항에 있어서, 상기 고분자 분리막은 정밀여과 또는 한외여과 분리막인, 고분자 분리막
|
