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하기 화학식 1로 표시되는 고분자:[화학식 1]상기 식에서, X는 할로겐이고,a는 100 내지 450에 속하는 정수이고,a'는 135 내지 400에 속하는 정수이고,b는 6 내지 10에 속하는 정수이고,c는 1 내지 10에 속하는 정수이다
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제1항에 있어서, 상기 고분자는 반복단위가 랜덤(random) 또는 교차(alternating)로 위치하는 것인, 고분자
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제1항에 있어서, 상기 고분자는 중량평균 분자량(Mw; weight-average molecular weight) 50,000 내지 200,000의 분자량을 갖는 것인, 고분자
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제1항에 있어서, 상기 a : a'은 1 : 9 내지 7 : 3인, 고분자
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하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시키는 단계를 포함하는, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 고분자의 제조방법:[화학식 2][화학식 3]상기 화학식 2에서,X는 할로겐이고, a"는 100 내지 450에 속하는 정수이고, 상기 화학식 3에서, b'는 6 내지 10에 속하는 정수이다
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제5항에 있어서, 상기 반응은 100℃ 내지 120℃에서 수행되는 것인, 제조방법
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제1항에 기재된 고분자를 포함하는 기체 분리용 고분자 분리막
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제7항에 있어서, ZIF(zeolitic imidazolate framework)-8 입자를 기체 분리용 고분자 분리막 전체 중량 대비 0 중량% 내지 40 중량% 포함하는 것인, 기체 분리용 고분자 분리막
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9
제7항에 있어서, 상기 기체 분리용은 올레핀/파라핀 분리용인 것인, 기체 분리용 고분자 분리막
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10
하기 화학식 4로 표시되는 고분자 및 ZIF-8 입자를 포함하며, 상기 ZIF-8 입자가 상기 고분자 중에 분산된 것인, 올레핀/파라핀 분리용 고분자 분리막
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